公开(公告)号：CN100335971C

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN02152489.0

申请日：1998-12-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔相俊 ,  姜律 ,  郑东恒 ,  朴春根

IPC: G03F7/027 ,  C08F222/06

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明提供了一种用于化学放大抗蚀剂的抗蚀组合物，所述抗蚀组合物包含光酸引发剂和式(II)聚合物：其中R1选自氢和C1至C20脂烃；R2选自氢或甲基；R3选自叔丁基或四氢吡喃基；n和m各自为整数，其中n/(m+n)比例为0.1至0.5。本发明化学放大抗蚀组合物对干蚀工艺具有强的抗蚀性，对膜材料具有优良的粘合性，可利用常规显影剂显影。

公开(公告)号：CN1515961A

公开(公告)日：2004-07-28

申请号：CN02152489.0

申请日：1998-12-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔相俊 ,  姜律 ,  郑东恒 ,  朴春根

IPC: G03F7/027 ,  C08F222/06

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明提供了一种用于化学放大抗蚀剂的抗蚀组合物，所述抗蚀组合物包含光酸引发剂和式(II)聚合物：其中R1选自氢和C1至C20脂烃；R2选自氢或甲基；R3选自叔丁基或四氢吡喃基；n和m各自为整数，其中n/(m+n)比例为0.1至0.5。本发明化学放大抗蚀组合物对干蚀工艺具有强的抗蚀性，对膜材料具有优良的粘合性，可利用常规显影剂显影。