公开(公告)号：CN110109322A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201811376093.2

申请日：2018-11-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 罗志勋 ,  李东根 ,  金熙范

IPC: G03F1/84

Abstract: 提供了一种利用具有补偿的光信号来执行掩模图案测量的系统和方法，所述系统包括：板，构造为用于在其上安装反射极紫外(EUV)掩模；以及波带片，构造为将EUV光分为零级光和第一级光，并构造为使零级光和第一级光传输到反射EUV掩模。系统还包括：检测器，构造为接收由反射EUV掩模反射的EUV光，并包括构造为产生第一图像信号的零级光检测区域和构造为产生第二图像信号的第一级光检测区域；以及计算器，构造为从第一图像信号和第二图像信号产生补偿的第三图像信号。第三图像信号可以用于确定反射EUV掩模的掩模图案之间的距离。

公开(公告)号：CN110109322B

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN201811376093.2

申请日：2018-11-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 罗志勋 ,  李东根 ,  金熙范

IPC: G03F1/84

Abstract: 提供了一种利用具有补偿的光信号来执行掩模图案测量的系统和方法，所述系统包括：板，构造为用于在其上安装反射极紫外(EUV)掩模；以及波带片，构造为将EUV光分为零级光和第一级光，并构造为使零级光和第一级光传输到反射EUV掩模。系统还包括：检测器，构造为接收由反射EUV掩模反射的EUV光，并包括构造为产生第一图像信号的零级光检测区域和构造为产生第二图像信号的第一级光检测区域；以及计算器，构造为从第一图像信号和第二图像信号产生补偿的第三图像信号。第三图像信号可以用于确定反射EUV掩模的掩模图案之间的距离。

公开(公告)号：CN116430669A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202211655943.9

申请日：2022-12-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔佳滥 ,  金泰重 ,  罗志勋 ,  崔昌勋

IPC: G03F1/84

Abstract: 一种EUV光掩模检查设备，包括：多个光学系统，其分别在包括EUV光掩模和EUV光掩模上的表膜的掩模结构中形成不同的共焦点。多个光学系统中的第一光学系统包括：第一光源，其发射具有可见光范围内的波长的第一光；分束器，其透射或反射第一光；物镜，其被配置为允许第一光穿过掩模结构的至少一部分，以在掩模结构中形成第一焦点；第一光检测器，其被配置为检测通过入射的第一光从掩模结构反射的第一反射光，以及针孔板，其在第一光源前方。第一光检测器具有包括PMT和APD的检测模块和热电冷却模块。