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发明公开
校正图案布图错误的方法、制造光掩模和形成图案的方法审中-实审

公开(公告)号：CN116339069A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202211615540.1

申请日：2022-12-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 权美珍 , 梁承薰 , 李荣烨

IPC: G03F1/70 , G03F1/76

Abstract: 一种校正图案布图错误的方法，包括：设计目标图案的布图；检查目标图案的布图与基于目标图案的布图制造的光掩模中的真实图案的布图之间的错误；生成分别在目标图案的布图的轮廓中的多个点处的EPE向量；计算每个生成的EPE向量分别在水平和垂直方向上的水平和垂直元素；基于所计算的EPE向量的水平和垂直元素，计算目标图案的布图在每个方向的偏移代表值；以及基于偏移代表值校正目标图案的布图。

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