基板处理设备及使用其的基板处理方法

    公开(公告)号:CN1725074A

    公开(公告)日:2006-01-25

    申请号:CN200510083347.8

    申请日:2005-07-12

    Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法,该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器,处理溶液分配器在基板上提供处理溶液,传送单元传送基板,而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。

    比例电磁阀控制装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1095963C

    公开(公告)日:2002-12-11

    申请号:CN96105069.1

    申请日:1996-04-24

    CPC classification number: G05D16/2013

    Abstract: 一种比例电磁阀控制装置,可应用于各种系统中的单向阀,例如重型设备的液压系统,自动传输系统和车辆的自动注油系统,并按照电流指令精确地控制流入比例电磁阀中的负载电流。所述比例电磁阀装置包括:由开关晶体管,比例电磁阀和电流检测电阻构成的主电路;以及由电流指令检测电路,偏置电路,限制电流指令电路,电流检测电路,比例积分控制器,脉宽调制比较器以及输出电路构成的控制电路。

    基板处理设备及使用其的基板处理方法

    公开(公告)号:CN100543537C

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200510083347.8

    申请日:2005-07-12

    Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法,该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器,处理溶液分配器在基板上提供处理溶液,传送单元传送基板,而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个相反方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。

    基板处理设备
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100410753C

    公开(公告)日:2008-08-13

    申请号:CN200510083782.0

    申请日:2005-07-01

    Inventor: 李荣植

    Abstract: 一种基板处理设备包括:用于移动基板的移动机构和一种高压喷射单元。该高压喷射元件包括:具有相对于基板移动方向横向放置的第一喷嘴部分的第一高压喷射器,以及具有平行于第一喷嘴部分的第二喷嘴部分的第二高压喷射器。

    电压平衡电路
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1069765C

    公开(公告)日:2001-08-15

    申请号:CN96107391.8

    申请日:1996-04-27

    Inventor: 金容虎 李荣植

    CPC classification number: G05F1/613

    Abstract: 一种电压平衡电路和方法,用于从一个单一的直流电源向一个赋予电源一个正极性负载和一个负极性负载的电路,例如集成电路,提供电能,尽管负载的大小发生变化仍能保证正极性负载电压和负极性负载电压的大小保持基本相等。一个分压器电路提供了一个等于总电源电压一半的基准电压。每个正极性和负极性负载的两端提供有电容器。

    用于防止电动机过流的方法和装置

    公开(公告)号:CN1043393C

    公开(公告)日:1999-05-12

    申请号:CN96113292.2

    申请日:1996-08-11

    CPC classification number: H02P7/288 H02H7/0833 H02P2205/01 Y10S388/903

    Abstract: 电动机的控制电路,包括电流指令电路,产生比例于所选电动机速度的电流指令信号;比较器产生比较器输出信号,其正比于在电流指令信号和与电动机电流成比例的信号间的信号差,比较器的输出端接到逻辑电路,其产生有比例于比较器输出信号变化占空比的控制信号;驱动电路,有施加所说控制信号的输入端和接到该电动机的输出端;电流指令控制电路,有施加电流控制信号的输入端和施加电流指令信号的输出端,其产生比例于控制信号的信号且当它小于电流指令信号时减小电流指令信号。

    基板处理设备
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1716023A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200510083782.0

    申请日:2005-07-01

    Inventor: 李荣植

    Abstract: 一种基板处理设备包括:用于移动基板的移动机构和一种高压喷射单元。该高压喷射元件包括:具有相对于基板移动方向横向放置的第一喷嘴部分的第一高压喷射器,以及具有平行于第一喷嘴部分的第二喷嘴部分的第二高压喷射器。

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