布局校正方法以及使用该布局校正方法的掩模制造方法

    公开(公告)号:CN118859624A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410515142.5

    申请日:2024-04-26

    Abstract: 提供了用于半导体器件的布局校正方法以及使用该布局校正方法的掩模制造方法。布局校正方法包括:接收至少包括目标层和参考层的设计布局;检测目标层中构成目标图案的目标边缘,并检测参考层中构成参考图案的参考边缘;在与三个或更多个参考边缘相交的目标边缘上的与参考图案之间的空间交叉的区段中确定分割点;生成分段,其中,生成分段包括基于分割点来分割与三个或更多个参考边缘相交的目标边缘;在分段当中的与参考图案相交的分段上的与该参考图案交叉的区段的中间点处设置评估点;通过将在评估点处测量的特征输入到布局校正模型来确定其上设置有评估点的分段的移动量;以及通过基于移动量移动其上设置有评估点的分段来生成经校正的布局。

    一种赋予手写笔迹色彩的方法

    公开(公告)号:CN101393494A

    公开(公告)日:2009-03-25

    申请号:CN200710152208.5

    申请日:2007-09-19

    Abstract: 一种赋予手写笔迹色彩的方法,包括步骤:(a)在输入手写笔迹时,获取轨迹点的位置坐标值、输入该轨迹点时的系统时间值和随机变量值中的至少一个;(b)根据轨迹点的三原色(RGB)值的关于在步骤(a)获取的轨迹点的位置坐标值、输入该轨迹点时的系统时间值和随机变量值中的至少一个的函数得到该轨迹点的RGB值;(c)根据得到的RGB值显示轨迹点;和(d)确认输入手写笔迹是否结束,如果确定结束,则结束。通过本发明能够使手写笔迹的色彩更加绚丽多姿,提供给用户丰富多彩的GUI(图形用户接口)界面。

    一种赋予手写笔迹色彩的方法

    公开(公告)号:CN101393494B

    公开(公告)日:2011-01-12

    申请号:CN200710152208.5

    申请日:2007-09-19

    Abstract: 一种赋予手写笔迹色彩的方法,包括步骤:(a)在输入手写笔迹时,获取轨迹点的位置坐标值、输入该轨迹点时的系统时间值和随机变量值中的至少一个;(b)根据轨迹点的三原色(RGB)值的关于在步骤(a)获取的轨迹点的位置坐标值、输入该轨迹点时的系统时间值和随机变量值中的至少一个的函数得到该轨迹点的RGB值;(c)根据得到的RGB值显示轨迹点;和(d)确认输入手写笔迹是否结束,如果确定结束,则结束。通过本发明能够使手写笔迹的色彩更加绚丽多姿,提供给用户丰富多彩的GUI(图形用户接口)界面。

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