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公开(公告)号：CN111341691A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201910776613.7
申请日：2019-08-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/67 , B23K26/362
Abstract: 一种基板处理装置包括：旋转卡盘，其上安装有基板，所述旋转卡盘旋转所述基板；化学液体喷嘴和去离子水喷嘴中的至少一个，化学液体喷嘴配置为向基板的表面提供化学液体，去离子水喷嘴配置为向基板的表面提供去离子水；以及激光设备，配置为发射周期为10-9秒或更短的脉冲波激光束以蚀刻基板的边缘。
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