公开(公告)号：CN1901772A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610106324.9

申请日：2006-07-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全尚珍 ,  朴钟录 ,  史升烨 ,  梁姬全 ,  李根硕

IPC: H05H1/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3266

Abstract: 本发明提供了一种处理基底的设备，该设备包括：处理室，包括反应空间，在反应空间内，放置将被处理的基底和形成等离子体；铁氧体磁芯，包括多个设置在反应空间外部的柱和连接器，以跨过多个柱面向反应空间并使多个柱相互连接；线圈，缠绕在多个柱的周围；电源单元，向线圈提供电源。

公开(公告)号：CN1901772B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200610106324.9

申请日：2006-07-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全尚珍 ,  朴钟录 ,  史升烨 ,  梁姬全 ,  李根硕

IPC: H05H1/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3266

Abstract: 本发明提供了一种处理基底的设备，该设备包括：处理室，包括反应空间，在反应空间内，放置将被处理的基底和形成等离子体；铁氧体磁芯，包括多个设置在反应空间外部的柱和连接器，以跨过多个柱面向反应空间并使多个柱相互连接；线圈，缠绕在多个柱的周围；电源单元，向线圈提供电源。