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公开(公告)号：CN117192886A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202310678851.0
申请日：2023-06-08
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种极紫外(EUV)光掩模，其可以包括掩模结构，该掩模结构包括主区域、围绕主区域的划线道区域、在划线道区域外侧且彼此分开并且各自具有相同的第一宽度的缓冲区域、以及在缓冲区域外侧的黑色边界区域。缓冲区域可以包括第一缓冲区域、第二缓冲区域和第三缓冲区域。黑色边界区域可以包括第一拐角区域、第二拐角区域和第三拐角区域。第一拐角区域可以接触第一缓冲区域和第二缓冲区域。第二拐角区域可以接触第一缓冲区域、第三缓冲区域和划线道区域的一边。第三拐角区域可以接触第二缓冲区域和第三缓冲区域。
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