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发明公开
半导体装置审中-实审

公开(公告)号：CN115863341A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202211109284.9

申请日：2022-09-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴俊模 , 朴鍊皓 , 朴恩实 , 李晋硕 , 林旺燮 , 崔圭峯

IPC: H01L27/088 , H01L21/8234

Abstract: 公开了一种半导体装置。所述半导体装置包括：第一片图案和第二片图案，在基底的第一区域上彼此间隔开；第一栅电极，在第一片图案与第二片图案之间延伸；第三片图案和第四片图案，在基底的第二区域上彼此间隔开；以及第二栅电极，在第三片图案与第四片图案之间延伸。第一栅电极包括在第一片图案与第二片图案之间的第一逸出功控制膜和在第一逸出功控制膜上的第一填充导电膜。第二栅电极包括在第三片图案与第四片图案之间的第二逸出功控制膜和在第二逸出功控制膜上的第二填充导电膜。第三片图案与第四片图案之间的距离大于第一片图案与第二片图案之间的距离。

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