公开(公告)号：CN1115714C

公开(公告)日：2003-07-23

申请号：CN98101653.7

申请日：1998-04-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  尹炳珠

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/312

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C11/08

Abstract: 提供了一种光刻胶喷涂装置及其方法，其特征是，晶片光刻胶涂层的光刻胶以扫描方式进行喷涂，而晶片的转速相对于晶片上被喷涂光刻胶的位置不同而不同，从而减少用于涂层的光刻胶的用量。光刻胶的喷涂方法按如下方式进行，即，在喷嘴对所述晶片从其边缘向其中心进行扫描的同时喷涂光刻胶，在所述的扫描过程中，所述晶片的旋转速度在增加。

公开(公告)号：CN1206933A

公开(公告)日：1999-02-03

申请号：CN98101653.7

申请日：1998-04-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  尹炳珠

IPC: H01L21/312

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C11/08

Abstract: 提供了一种光刻胶喷涂装置及其方法,其特征是,晶片光刻胶涂层的光刻胶以扫描方式进行喷涂,而晶片的转速相对于晶片上被喷涂光刻胶的位置不同而不同,从而减少用于涂层的光刻胶的用量。光刻胶的喷涂方法按如下方式进行,即,在喷嘴对所述晶片从其边缘向其中心进行扫描的同时喷涂光刻胶,在所述的扫描过程中,所述晶片的旋转速度在增加。