公开(公告)号：CN1248289C

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN02127324.3

申请日：2002-07-31

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尤里·N·托尔马切夫 ,  马东俊 ,  文昌郁 ,  尹惠荣

IPC: H01L21/205 ,  H01J37/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/321 ,  H01J37/32357

Abstract: 提供一种感应耦合式等离子体装置，此感应耦合式等离子体装置包括一处理腔室、一顶部等离子体源腔室、一反应器、一感应器、一开孔和一挡板。处理腔室具有一晶片基座，上面装设一基底。顶部等离子体源腔室装设在处理腔室。反应器装设在顶部等离子体源腔室之中；具有一通道，一种气体流经此通道；以及把等离子体各反应产物供给处理腔室。感应器装设在顶部等离子体源腔室与反应器之间并缠绕反应器。开孔设置在其中装设感应器的、反应器周边空间与处理腔室之间。挡板可开启和关闭开孔。因而，可以改进发自一等离子体源的各种自由基的均匀径向分布。

公开(公告)号：CN1426090A

公开(公告)日：2003-06-25

申请号：CN02127324.3

申请日：2002-07-31

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尤里·N·托尔马加夫 ,  马东俊 ,  文昌郁 ,  尹惠荣

IPC: H01L21/205 ,  H01J37/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/321 ,  H01J37/32357

Abstract: 提供一种感应耦合式等离子体装置，此感应耦合式等离子体装置包括一处理腔室、一顶部等离子体源腔室、一反应器、一感应器、一开孔和一挡板。处理腔室具有一晶片基座，上面装设一基底。顶部等离子体源腔室装设在处理腔室。反应器装设在顶部等离子体源腔室之中；具有一通道，一种气体流经此通道；以及把等离子体各反应产物供给处理腔室。感应器装设在顶部等离子体源腔室与反应器之间并缠绕反应器。开孔设置在其中装设感应器的、反应器周边空间与处理腔室之间。挡板可开启和关闭开孔。因而，可以改进发自一等离子体源的各种自由基的均匀径向分布。