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公开(公告)号：CN111176068B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN201910988185.4
申请日：2019-10-17
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供掩模检查装置和/或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112305852A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010632541.1
申请日：2020-07-02
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本公开提供了用于检查和制造光罩的方法以及制造半导体器件的方法。在一个方面中，提供一种用于检查光罩的方法，该光罩包括光罩基板和在光罩基板上的反射层。该方法可以包括：将光罩装载于平台上；将光罩基板冷却至低于室温的温度；将激光束照射到在光罩基板上的反射层；使用光电检测器接收从反射层反射的激光束以获得反射层的图像；以及基于反射层的图像，检测在反射层上的颗粒缺陷或在反射层中的空隙缺陷。
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公开(公告)号：CN111176068A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201910988185.4
申请日：2019-10-17
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供掩模检查装置和/或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。
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公开(公告)号：CN109752390B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201811197090.2
申请日：2018-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/95 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供了一种用于检测光掩模和裸片中的缺陷的检查设备及检查方法，该缺陷检查设备包括被配置为从设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像的参考图像产生器。图像检查器被配置为获得光掩模的第一检查区域的第一检查图像和光掩模的第二检查区域的第二检查图像。操作处理器被配置为通过将第一检查图像与第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移，并且通过将第二检查图像与第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移。
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公开(公告)号：CN109752390A
公开(公告)日：2019-05-14
申请号：CN201811197090.2
申请日：2018-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/95 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供了一种用于检测光掩模和裸片中的缺陷的检查设备及检查方法，该缺陷检查设备包括被配置为从设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像的参考图像产生器。图像检查器被配置为获得光掩模的第一检查区域的第一检查图像和光掩模的第二检查区域的第二检查图像。操作处理器被配置为通过将第一检查图像与第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移，并且通过将第二检查图像与第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移。
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