公开(公告)号：CN119937244A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411572488.5

申请日：2024-11-06

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 蔡贞厦 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  李善英 ,  李智娟 ,  李昶宪 ,  全震洹

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法，所述抗蚀剂组合物包括由式1‑1至1‑4之一表示的第一有机金属化合物和由式2表示的第二有机金属化合物：其中式1‑1至1‑4和2中的M11、M21、L11至L14、L21至L24、a11至a14、a21至a24、R11至R14、R21至R24、b11至b14、b21至b24、Y11至Y13、和X11至X13如说明书中所描述的。#imgabs0#式2#imgabs1#

公开(公告)号：CN118689036A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410322282.0

申请日：2024-03-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李昶宪 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  李善英 ,  林圭铉 ,  全震洹 ,  蔡贞厦 ,  韩盛现

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法，其中所述抗蚀剂组合物可包括由下式1表示的有机金属化合物、和包括由下式2表示的重复单元的聚合物。对于式1和式2中的M11、R11、R12、n、A21、L21至L23、a21至a23、R21至R22、b22和p的描述，参见说明书。式1M11(R11)n(OR12)(4‑n)式2#imgabs0#

公开(公告)号：CN119937241A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411480630.3

申请日：2024-10-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李善英 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  李智娟 ,  林圭铉 ,  全震洹 ,  蔡贞厦 ,  河旻永

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法。所述抗蚀剂组合物可包括由式1‑1至1‑4之一表示的有机金属化合物和由式2表示的添加剂，其中式1‑1至1‑4和2中的M11、L11至L14、a11至a14、R11至R14、b11至b14、Y11至Y13、X11至X13、Y21、Y22、L21、和a21描述于说明书中。#imgabs0#式2#imgabs1#

公开(公告)号：CN119684351A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202411326830.3

申请日：2024-09-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全震洹 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  李善英 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  蔡贞厦 ,  河旻永

IPC: C07F7/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供有机金属化合物、包括其的抗蚀剂组合物和使用所述抗蚀剂组合物的图案形成方法，所述有机金属化合物由式1‑1至1‑4之一表示，式1‑1至1‑4中的M11、Q11至Q14、b11至b14、R11至R14、Y11至Y13、和X11至X13如说明书中所描述的。#imgabs0#