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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108878675B
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN201810341912.3
申请日：2018-04-17
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 提供了一种有机电致发光显示装置，所述有机电致发光显示装置包括：绝缘层，包括具有凹第一上表面的凹部；第一电极，包括具有与凹部叠置的凹第二上表面的弯曲电极部；像素限定层，包括穿过像素限定层来限定的第一开口以暴露凹第二上表面；有机层，设置在第一电极上；第二电极，设置在有机层上；以及光阻挡层，包括穿过光阻挡层来限定的第二开口。第二开口具有比第一开口的宽度小的宽度并且与第一开口叠置。
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公开(公告)号：CN108878675A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810341912.3
申请日：2018-04-17
Applicant: 三星显示有限公司
CPC classification number: H01L51/5275 , H01L27/322 , H01L27/323 , H01L27/3246 , H01L27/3258 , H01L27/3272 , H01L51/0018 , H01L51/5012 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5088 , H01L51/5092 , H01L51/5209 , H01L51/5225 , H01L51/5253 , H01L51/5281 , H01L51/5284 , H01L51/56 , H01L2227/323 , H01L27/32
Abstract: 提供了一种有机电致发光显示装置，所述有机电致发光显示装置包括：绝缘层，包括具有凹第一上表面的凹部；第一电极，包括具有与凹部叠置的凹第二上表面的弯曲电极部；像素限定层，包括穿过像素限定层来限定的第一开口以暴露凹第二上表面；有机层，设置在第一电极上；第二电极，设置在有机层上；以及光阻挡层，包括穿过光阻挡层来限定的第二开口。第二开口具有比第一开口的宽度小的宽度并且与第一开口叠置。
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公开(公告)号：CN117539119A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202310891273.9
申请日：2023-07-20
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 公开了光掩模和使用光掩模制造显示面板的方法。光掩模包括第一透光部分、第二透光部分和遮光部分，第一透光部分包括在第一方向上彼此间隔开的第一主图案和第二主图案，第二透光部分具有比第一透光部分的透光率低的透光率并且包括布置在第一主图案与第二主图案之间并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第一辅助图案、在第一方向上隔着第一主图案与第一辅助图案间隔开并且围绕第一主图案的第二辅助图案以及在第一方向上隔着第二主图案与第一辅助图案间隔开并且围绕第二主图案的第三辅助图案，遮光部分围绕第一透光部分和第二透光部分。
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公开(公告)号：CN116149128A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202310185486.X
申请日：2015-08-03
Applicant: 三星显示有限公司 , 延世大学校产学协力团
Abstract: 提供用于光刻的掩模、制造其的方法和利用其制造基底的方法。用于光刻的掩模包括：透明基底；相移图案，位于透明基底上并被构造为改变光的相位；介电层，位于透明基底上；以及负折射率超材料层，位于介电层上。
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公开(公告)号：CN105319833A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510479333.1
申请日：2015-08-03
Applicant: 三星显示有限公司 , 延世大学校产学协力团
Abstract: 提供用于光刻的掩模、制造其的方法和利用其制造基底的方法。用于光刻的掩模包括：透明基底；相移图案，位于透明基底上并被构造为改变光的相位；介电层，位于透明基底上；以及负折射率超材料层，位于介电层上。
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