公开(公告)号：CN119547183A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380047739.5

申请日：2023-06-20

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 中邨拓马 ,  猿渡康允

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明的研磨材浆料具有：包含氧化锰粒子的氧化锰磨粒；高锰酸根离子；磷酸类；和高分子添加剂，其含有选自包含聚羧酸、聚羧酸盐、萘磺酸甲醛缩合物的盐、聚乙烯醇、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮及它们的共聚物的组中的1种以上的水溶性有机高分子。此外，本发明的研磨材浆料的研磨方法包括：使用本发明的研磨材浆料将被研磨物进行研磨。

公开(公告)号：CN119384714A

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN202380047738.0

申请日：2023-06-20

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 中邨拓马 ,  猿渡康允 ,  原周平

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  C30B29/36 ,  C30B33/00

Abstract: 本发明的SiC基板的制造方法具有通过研磨材浆料对SiC基板的主表面进行研磨的研磨处理工序，所述研磨材浆料具有：包含氧化锰粒子的氧化锰磨粒、高锰酸根离子和磷酸类。此外，本发明的SiC基板研磨用研磨材浆料含有包含氧化锰粒子的氧化锰磨粒、高锰酸根离子和磷酸类。

公开(公告)号：CN119404295A

公开(公告)日：2025-02-07

申请号：CN202380047740.8

申请日：2023-06-20

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 中邨拓马 ,  猿渡康允

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明的研磨材浆料具有：包含氧化锰粒子的氧化锰磨粒、高锰酸根离子和磷酸类。此外，本发明的研磨材浆料的研磨方法包括：使用本发明的研磨材浆料将被研磨物进行研磨。