公开(公告)号：CN104471479A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201380037728.5

申请日：2013-07-31

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 近藤正浩 ,  津本高政

IPC: G03F1/64 ,  C08F214/22 ,  C09J127/12 ,  G03F1/62

CPC classification number: G03F1/64 ,  C09J127/16 ,  G03F1/62 ,  Y10T428/1352 ,  C08F214/22 ,  C09J127/12

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜组件，其于防护膜框架的内侧面具有粘着层，该粘着层具有可使尘埃等悬浮物良好地粘固的保持性能、及对短波长光的优异耐光性。本发明的防护膜组件包括：防护膜框架、铺设于上述防护膜框架上的防护膜、及设置于上述防护膜框架的内侧的粘着层，上述粘着层包含相对于上述粘着层为60质量％以上的共聚物，所述共聚物具有下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元。-CH2CF2- …(1)-CF2CF(CF3)- …(2)。

公开(公告)号：CN104471479B

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201380037728.5

申请日：2013-07-31

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 近藤正浩 ,  津本高政

IPC: G03F1/64 ,  C08F214/22 ,  C09J127/12 ,  G03F1/62

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜组件，其于防护膜框架的内侧面具有粘着层，该粘着层具有可使尘埃等悬浮物良好地粘固的保持性能、及对短波长光的优异耐光性。本发明的防护膜组件包括：防护膜框架、铺设于上述防护膜框架上的防护膜、及设置于上述防护膜框架的内侧的粘着层，上述粘着层包含相对于上述粘着层为60质量％以上的共聚物，所述共聚物具有下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元。‑CH2CF2‑ …(1)‑CF2CF(CF3)‑ …(2)

公开(公告)号：CN1862378A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200610080144.8

申请日：2006-05-09

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 春林克明 ,  藤田稔 ,  近藤正浩 ,  才本芳久

IPC: G03F1/14 ,  C09J9/00

CPC classification number: G03F1/62

Abstract: 本发明提供一种膜，其中在聚乙烯对苯二酸酯薄膜粘附到膜的掩模粘附表面后，在23℃下沿180度的方向剥离厚度为125μm非表面处理聚乙烯对苯二酸酯薄膜时，剥离强度为大约0.004N/mm～0.10N/mm。