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公开(公告)号：CN110709774B
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN201880036679.6
申请日：2018-05-30
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料，其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110709774A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201880036679.6
申请日：2018-05-30
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料，其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。
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公开(公告)号：CN102906150A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180017507.2
申请日：2011-04-04
CPC classification number: G02B1/04 , C08G2261/3324 , C08G2261/3325 , C08G2261/418 , C08G2261/724 , C08L23/18
Abstract: 本发明涉及一种光学材料，其特征在于，包含至少含有通式(1)所示的重复结构单元〔A〕和通式(2)所示的重复结构单元〔B〕且它们的摩尔比〔A〕/〔B〕＝95/5～1/99的环状烯烃共聚物，且由△OB相对于△F所表示的△OB/△F的绝对值为0.001～0.250，所述△F是由通过拉曼分光法得到的相对于取向方向的平行光强度I‖与垂直光强度I⊥的二色比求出的取向系数的绝对值的变化量，所述△OB是在由上述光学材料得到的拉伸膜中，由波长633nm的相位差(nm)/膜厚(μm)算出的取向双折射的绝对值的变化量。
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公开(公告)号：CN113365820A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080012316.6
申请日：2020-01-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 一种在多层抗蚀剂工艺中使用的下层膜形成用材料，其满足：(i)由以下数学式(1)定义的元素构成比率Re为1.5～2.8，(ii)玻璃化转变温度为30～250℃，(iii)包含至少1种(优选为2种以上)具有特定结构单元的树脂。数学式(1)中，NH为下层膜形成用材料的固体成分中的氢原子的数目，NC为下层膜形成用材料的固体成分中的碳原子的数目，NO为下层膜形成用材料的固体成分中的氧原子的数目。
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公开(公告)号：CN111183395A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880064822.2
申请日：2018-05-30
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的下层膜形成用树脂材料是用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用树脂材料，其包含环状烯烃聚合物(I)，使用流变仪，在氮气气氛下、以剪切模式、测定温度范围30～300℃、升温速度3℃/min、频率1Hz的条件测定得到的上述下层膜形成用树脂材料的固体粘弹性中，表示储能弹性模量(G’)曲线与损耗弹性模量(G”)曲线的交点的温度为40℃以上200℃以下。
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公开(公告)号：CN102906150B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201180017507.2
申请日：2011-04-04
IPC: G02B1/04
CPC classification number: G02B1/04 , C08G2261/3324 , C08G2261/3325 , C08G2261/418 , C08G2261/724 , C08L23/18
Abstract: 本发明涉及一种光学材料，其特征在于，包含至少含有通式(1)所示的重复结构单元〔A〕和通式(2)所示的重复结构单元〔B〕且它们的摩尔比〔A〕/〔B〕＝95/5～1/99的环状烯烃共聚物，且由△OB相对于△F所表示的△OB/△F的绝对值为0.001～0.250，所述△F是由通过拉曼分光法得到的相对于取向方向的平行光强度I‖与垂直光强度I⊥的二色比求出的取向系数的绝对值的变化量，所述△OB是在由上述光学材料得到的拉伸膜中，由波长633nm的相位差(nm)/膜厚(μm)算出的取向双折射的绝对值的变化量。
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