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公开(公告)号:CN1388904A
公开(公告)日:2003-01-01
申请号:CN01802348.7
申请日:2001-08-08
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C08G73/1064 , C08G73/10 , C08G73/1039 , C08G73/105 , G02B1/04 , Y10T428/31721 , C08L79/08
Abstract: 本发明涉及由聚酰亚胺树脂制成的光学元件,该光学元件保留了聚酰亚胺所固有的优良的物理性质,即耐热性、机械性能、电性质、热氧化稳定性和耐化学性,并且具有良好的透明性和高折射率。该元件由使用特定的二胺和四羧酸二酐作为必要组分并含有通式(1)的重复单元的聚酰亚胺制成。在通式(1)中,A代表通式(2)、(3)或(4),X代表直接键、-O-、-SO2-或-C(CF3)2-;在通式(2)中,R1和R2分别代表H、Cl、Br、CH3或CF3,A1代表直接键、-O-、-S-、-SO2-、-CO-、-C(CH3)2-或-C(CF3)2-;在通式(3)中,R3、R4和R5独立地代表H、Cl、Br、CN、CH3或CF3;在通式(4)中,A2代表直接键、-O-、-S-、-CO-、-SO2-、-C(CH3)2-或-C(CF3)2。
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公开(公告)号:CN1624587A
公开(公告)日:2005-06-08
申请号:CN200410091274.2
申请日:2004-12-01
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08G61/06 , C08L45/00 , Y10S525/94 , C08L2666/14
Abstract: 本发明涉及具有良好成膜性、易用于半导体精细加工的光敏抗蚀剂膜的聚合物。其特征在于,至少含有通式(3)及/或通式(4)的结构单元,重均分子量Mw和数均分子量Mn之比(Mw/Mn)大于2.0,小于5.0,其中,R8~R11、R13~R16为氢原子或碳原子数1~10的烷基,X2、X3为-O-或-CR122-,R12为氢原子或碳原子数1~10的烷基,Y1、Y2的其中一个为-(C=O)-,另一个为-CR182-,R18为氢原子或碳原子数1~10的烷基,m、n为整数0或1~3。
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公开(公告)号:CN100462389C
公开(公告)日:2009-02-18
申请号:CN02820224.4
申请日:2002-10-10
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供了适于充当被使用于燃料电池等的电解质膜及粘合剂的、具有交联基的含质子酸基交联性芳香族树脂,及由此树脂所得到的燃料电池用高分子电解质膜及粘合剂,以及使用它们的燃料电池。该含质子酸基交联性芳香族树脂具有非衍生自质子酸基的、可在不产生脱离成分之下交联的交联基,表现出优异的离子传导性、耐热性、耐水性、粘合性、以及低的甲醇渗透性。作为上述的非衍生自质子酸基的、可在不产生脱离成分之下交联的交联基,以与芳香环直接结合的碳原子数1~10的烷基及羰基作为交联基,或以碳碳双键或碳碳三键作为交联基的为较佳的选择。具有上述交联基的芳香族聚醚、芳香族聚酰胺、芳香族聚酰亚胺、芳香族聚酰胺酰亚胺、以及芳香族聚吡咯等的芳香族树脂是含质子酸基交联性芳香族树脂的较佳选择。
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公开(公告)号:CN1630676A
公开(公告)日:2005-06-22
申请号:CN02820224.4
申请日:2002-10-10
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C08L81/06 , C08G65/48 , C08G65/485 , C08G2650/02 , C08G2650/20 , C08J5/2256 , C08J2371/12 , C08L71/00 , C08L71/123 , C08L71/126 , C08L2312/00 , H01M4/8605 , H01M4/92 , H01M8/1004 , H01M8/1025 , H01M8/103 , H01M8/1072 , H01M8/1081 , Y02P70/56
Abstract: 本发明提供了适于充当被使用于燃料电池等的电解质膜及粘合剂的、具有交联基的含质子酸基交联性芳香族树脂,及由此树脂所得到的燃料电池用高分子电解质膜及粘合剂,以及使用它们的燃料电池。该含质子酸基交联性芳香族树脂具有非衍生自质子酸基的、可在不产生脱离成分之下交联的交联基,表现出优异的离子传导性、耐热性、耐水性、粘合性、以及低的甲醇渗透性。作为上述的非衍生自质子酸基的、可在不产生脱离成分之下交联的交联基,以与芳香环直接结合的碳原子数1~10的烷基及羰基作为交联基,或以碳碳双键或碳碳三键作为交联基的为较佳的选择。具有上述交联基的芳香族聚醚、芳香族聚酰胺、芳香族聚酰亚胺、芳香族聚酰胺酰亚胺、以及芳香族聚吡咯等的芳香族树脂是含质子酸基交联性芳香族树脂的较佳选择。
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公开(公告)号:CN100555077C
公开(公告)日:2009-10-28
申请号:CN200410091274.2
申请日:2004-12-01
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08G61/06 , C08L45/00 , Y10S525/94 , C08L2666/14
Abstract: 本发明涉及具有良好成膜性、易用于半导体精细加工的光敏抗蚀剂膜的聚合物。其特征在于,至少含有通式(3)及/或通式(4)的结构单元,重均分子量Mw和数均分子量Mn之比(Mw/Mn)大于2.0,小于5.0,(见右下式)其中,R8~R11、R13~R16为氢原子或碳原子数1~10的烷基,X2、X3为-O-或-CR122-,R12为氢原子或碳原子数1~10的烷基,Y1、Y2的其中一个为-(C=O)-,另一个为-CR182-,R18为氢原子或碳原子数1~10的烷基,m、n为整数0或1~3。
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