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公开(公告)号:CN108473702A
公开(公告)日:2018-08-31
申请号:CN201680072017.5
申请日:2016-12-06
CPC classification number: C23C18/1254 , B32B17/064 , B32B27/36 , B32B2255/205 , B32B2307/30 , B32B2307/536 , B32B2307/584 , B32B2311/18 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2483/04 , C23C14/08 , C23C18/1208 , C23C18/1233
Abstract: 本发明涉及制造具有低辐射系数性质和高硬度的涂布的聚合物基材的方法。该方法包括以下步骤:提供聚合物基材;在所述聚合物基材的一侧上涂覆至少一个粘合促进层;通过溶胶-凝胶法在所述至少一个粘合促进层上涂覆至少一个二氧化硅层或基于二氧化硅的层。本发明进一步涉及具有低辐射系数性质的涂布的聚合物基材,设置有涂布的聚合物基材的玻璃基材,还涉及这种涂布的基材作为具有低辐射系数性质的基材的用途。
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公开(公告)号:CN108473702B
公开(公告)日:2021-11-26
申请号:CN201680072017.5
申请日:2016-12-06
Abstract: 本发明涉及制造具有低辐射系数性质和高硬度的涂布的聚合物基材的方法。该方法包括以下步骤:提供聚合物基材;在所述聚合物基材的一侧上涂覆至少一个粘合促进层;通过溶胶‑凝胶法在所述至少一个粘合促进层上涂覆至少一个二氧化硅层或基于二氧化硅的层。本发明进一步涉及具有低辐射系数性质的涂布的聚合物基材,设置有涂布的聚合物基材的玻璃基材,还涉及这种涂布的基材作为具有低辐射系数性质的基材的用途。
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