双基板喷墨打印
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119233899A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202380041559.6

    申请日:2023-03-07

    Abstract: 双基板喷墨打印机、使用此类打印机的处理系统、以及使用此类打印机加工基板的方法。所述双基板喷墨打印机具有:基板支撑件;打印支撑件,其横跨所述基板支撑件延伸且支撑打印头组件,所述打印头组件用于将材料分配至由所述基板支撑件支撑的基板上;第一基板保持架,其位于所述基板支撑件的第一侧上且邻近所述基板支撑件的第一基板位置,以便沿所述基板支撑件移动第一基板;以及第二基板保持架,其位于与所述第一基板保持架相对的所述基板支撑件的第二侧上且邻近所述基板支撑件的第二基板位置,以便沿所述基板支撑件移动第二基板。

    喷墨打印机校准
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118742399A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202380023052.8

    申请日:2023-02-21

    Abstract: 一种制造系统,包括:分配器单元,其可移动地耦合至支撑件,所述分配器单元包括位置传感器和基准检测器;测试单元,其包括用于从所述分配器单元接收材料的表面和用于对所述表面上的所述材料进行成像的成像装置;位置基准,其安装至所述制造系统的固定部件;以及控制器,其配置为:控制所述分配器单元和所述基准检测器,以检测所述位置基准;基于对所述位置基准的检测,来校准所述分配器单元的定位;控制所述测试单元,以对所述表面上的所述材料进行成像;控制所述分配器单元和所述基准检测器,以检测所述表面上的所述材料的一个方面;将由所述测试单元捕捉的所述材料的图像与由所述基准检测器检测的所述材料的所述方面进行比较;并基于所述比较,来校准所述测试单元。

    具有线性滑动机构的基板固持器
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117917196A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202280058567.7

    申请日:2022-07-18

    Inventor: 迪格佰·潘

    Abstract: 本公开涉及一种用于喷墨打印机的基板固持器。所述基板固持器具有接触构件,其具有接触表面和与所述接触表面相对的滑架表面,和耦合至所述滑架表面的滑架,所述滑架具有在第一方向上延伸的运动方向。所述滑架具有底座构件,和将所述底座构件耦合至所述接触构件的线性滑动机构,所述线性滑动机构在平行于所述接触表面的平面上以与所述运动方向成锐角的线性位移方向定向。

    喷墨印刷电路板
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114945804A

    公开(公告)日:2022-08-26

    申请号:CN202080092845.1

    申请日:2020-12-21

    Abstract: 本文描述了处理基板的方法,包括在基板上沉积导电材料,将可溶于水或酸性水溶液的底漆材料施加到所述导电材料上,根据图案将与所述底漆材料反应的耐酸图案化材料喷墨印刷到所述底漆材料上,以形成耐酸掩模;以及使所述基板暴露于酸,以蚀刻所述导电材料的暴露部分。

    多层显示结构体
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114008788A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202080040083.0

    申请日:2020-04-20

    Abstract: 本文描述了采用一层或多层光耦合层的显示设备,以及制造这类设备的方法。一种设备包括在基板上形成的蓝色发光元件阵列,在所述蓝色发光元件阵列上方形成的光耦合材料,以及设置在所述蓝色发光元件阵列上方形成的部分像素结构中的量子点光转换材料。所述光耦合材料具有高折射率且可以是或包括高分子材料。

    引导传输路径校正
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113571445A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202110545129.0

    申请日:2017-07-06

    Abstract: 打印机将材料沉积到衬底上,作为电子产品的制造过程的部分;至少一个所传输部件经历了影响沉积的误差。使用均衡部件的位置的换能器来减轻该误差,例如,以提供“理想的”传送路径,从而准许精确的液滴放置,尽管存在误差。在一个实施例中,使用光导(例如,使用激光)来限定所期望的路径;安装到部件的传感器动态检测与该路径的偏离,其中然后使用该偏离来驱动换能器以立即抵消偏离。该误差校正方案可以被应用于校正多种类型的传输误差,例如,被应用于校正衬底传输路径、打印头传输路径和/或分轴传输非正交性中的误差。

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