一种具有自修复性能的铜基氧化钇涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN119615062A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411878116.5

    申请日:2024-12-19

    Abstract: 一种具有自修复性能的铜基氧化钇涂层的制备方法,包括以下步骤:将采用脉冲直流磁控溅射方式在无氧铜基体表面溅射沉积形成氧化钇涂层;将含有氧化钇涂层的无氧铜基体传输至冷却室内,进行静置冷形成涂层基体;将涂层基体送入管式炉内,并向管式炉内通入氩氢混合保护气体,进行高温退火后随炉冷却,以形成自修复性能的铜基氧化钇涂层。本发明自修复性能的铜基氧化钇涂层在开裂后,基底的无氧铜与环境中的氧原子结合生成的氧化铜填补裂缝,形成“镶嵌式”涂层结构,实现了涂层的自修复,阻止了氧化钇涂层的进一步开裂,裂纹处的氧化铜保护层可以有效防止氧气继续渗透到涂层下层和基底,从而减缓涂层的进一步氧化和损伤,提高涂层的使用寿命。

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