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公开(公告)号:CN100427977C
公开(公告)日:2008-10-22
申请号:CN200410035301.4
申请日:2004-04-15
Applicant: 富士胶片控股株式会社
IPC: G02B5/20
Abstract: 一种显示装置用遮光膜的制造方法,其包括在基板上涂敷含有金属微粒和粘合剂的涂敷液后进行干燥的工序。根据本发明可以提供一种可以以低成本简便地制作光密度高的显示装置用遮光膜的方法。
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公开(公告)号:CN101090591A
公开(公告)日:2007-12-19
申请号:CN200610093741.4
申请日:2006-06-16
Applicant: 富士胶片控股株式会社
IPC: H05B33/00
CPC classification number: H05B33/26 , H01L51/5036 , H01L51/5203 , H01L2251/5361 , H05B33/14
Abstract: 本发明提供包括在基底上平行排列的至少两个线性象素的光源,其中,所述线性象素由有机电致发光装置构成,所述有机电致发光装置具有正极、负极和至少一个位于所述正极和所述负极之间的包含发光层的有机化合物层,其中,所述线性象素的纵横比是200或更大,所述正极由多个线性象素共用,所述负极根据所述线性象素进行构图。所述负极的膜厚优选是0.4μm至2μm。
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公开(公告)号:CN1945436A
公开(公告)日:2007-04-11
申请号:CN200610159563.0
申请日:2006-09-27
Applicant: 富士胶片控股株式会社
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/04 , B41C2201/06 , B41C2201/10 , B41C2201/12 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24
Abstract: 一种包括亲水支持体、底涂层和激光敏感的光致聚合层的平版印刷板前体,其中所述底涂层包括含有(a1)具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元和(a2)具有至少一个能够与支持体表面相互作用的官能团的重复单元的共聚物,并且所述重复单元(a1)是由本文中定义的通式(A1)表示的重复单元。
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