一种空调箱的风量测量装置及方法

    公开(公告)号:CN117451120A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311398236.0

    申请日:2023-10-26

    Abstract: 本发明公开的一种空调箱的风量测量装置及方法,测量装置包括空调箱体以及设置在空调箱体内部的空气过滤器;空调箱体内部设置有加热盘管、冷却盘管与风机;加热盘管设置在空气过滤器的一侧,冷却盘管设置在加热盘管与风机之间;加热盘管两侧均设置有静压测压点,两个静压测压点之间设置有压差传感器,压差传感器设置在空调箱体的外侧;本申请利用加热盘管的阻力特性,实现面风速的测量,测量结果更加精准,本申请可以实时在线监测空调箱的风量,为使用者提供直观准确的数据,结构简单,成本较低。

    一种洁净室中VOC检测方法

    公开(公告)号:CN109164163A

    公开(公告)日:2019-01-08

    申请号:CN201810999729.2

    申请日:2018-08-30

    Inventor: 杨政谕

    Abstract: 本发明公开了一种洁净室中VOC检测方法,包括如下步骤:(1)选择待检测区域并确定目标气体;(2)发出第一能量的紫外光并检测出第一浓度值;(3)发出第二能量的紫外光并检测出第二浓度值;(4)计算第一、二浓度值的差值;(5)判断差值是否高于设定值,如是,则待检测区域的空气中目标气体浓度过高,如否,则待检测区域的空气中目标气体浓度正常;其中,第一能量和第二能量,其中一者大于目标气体的电离电位能量,另一者小于目标气体的电离电位能量。本发明的检测方法可以排除干扰气体对检测结果的贡献,两次检测的差值更接近于目标气体的真实检测结果。

    一种洁净室腐蚀性气体来源确定方法

    公开(公告)号:CN108982054A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201810893128.3

    申请日:2018-08-07

    Inventor: 杨政谕

    Abstract: 本发明公开了一种洁净室腐蚀性气体来源确定方法,包括如下步骤:(1)提供一洁净室;(2)监测每个所述检测机构的腐蚀试片的电性能参数确定受害区;(3)采集腐蚀试片并辨识出腐蚀性气体包含的化学物质;(4)采集洁净室周围的环境空气并辨识出环境空气包含的化学物质;(5)确定各个机台使用的化学物质和各个工艺使用的化学物质及其衍生物;(6)确定腐蚀性气体的可疑来源;(7)通过计算流体动力学模型模拟各个可疑来源释放的化学物质的流动;(8)确定为腐蚀性气体的来源。本发明的洁净室腐蚀性气体来源确定方法,不但能够检测受害区,而且可以确定腐蚀性气体来源,对洁净室的污染问题达到标准兼职的目的。

    一种服务器环控装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103941836B

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201410181677.X

    申请日:2014-04-30

    Inventor: 杨政谕

    Abstract: 本发明公开了一种服务器环控装置,包括服务器本体,包括一箱体,箱体内设有换热器和所述服务器本体;所述换热器从上到下依次包括冷凝段、连通支架段和蒸发段;所述蒸发段包括一排并列设置的热管管道列;蒸发段的热管管道列上设有配合的翅片;所述冷凝段包括2排并列设置的热管管道列;所述箱体内部具有上部冷凝空间和下部蒸发空间;所述下部蒸发空间为密闭空间,其内设有所述服务器本体和换热器的蒸发段;所述上部冷凝空间内设有所述换热器的冷凝段。本发明设计得到了一种服务器环控装置,将其设计成箱体结构,配合新设计的换热器,实现了服务器的散热和空气净化处理;而该箱体结构的装置可以实现随时移动,实用性极好,具有积极的现实意义。

    一种空气洗涤装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104587772B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201510027937.2

    申请日:2015-01-20

    Inventor: 杨政谕

    Abstract: 本发明公开了一种空气洗涤装置,包括喷水装置,所述喷水装置包括水管和设于水管上的复数个喷嘴;所述喷嘴的喷雾角度为180度,喷出的水滴直径大于等于150微米;所述喷水装置上的喷嘴形成的水幕完全覆盖空气管路的一截面;所述喷水装置形成的水幕与空气流动方向相垂直;所述喷水装置上的喷嘴在空气行进方向上具有至少2种位置,形成前后错排结构,且相邻喷嘴形成的水幕不相碰撞。本发明采用了喷雾角度为180度的喷嘴,其形成的水幕与空气流动方向相垂直,形成了空气和水滴撞击式的主动式接触结构,从而彻底解决了现有技术中扇形喷嘴存在的旁通区的问题,使整个装置具有极高的水洗效果。

    一种用于半导体厂房的洁净室

    公开(公告)号:CN103206101B

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201310069347.7

    申请日:2013-03-05

    Inventor: 杨政谕

    Abstract: 本发明公开了一种用于半导体厂房的洁净室,包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间,大型洁净空间内具有中央走道和至少一条生产走道;所述生产走道的四周围设有隔板,使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间,以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构;隔板底部与天花板之间的距离至少为60cm,隔板底部与高架地板之间的距离至少为2m;洁净微环境的顶部设有上密封板,其底部设有下密封板,所述下密封板的宽度小于上密封板的宽度。本发明在生产走道的四周围设有隔板,构成独立的洁净微环境结构,从而避免了上述腐蚀性气体对中央走道和生产走道内的储存仓及产品的影响。

    一种用于半导体厂房的洁净室

    公开(公告)号:CN103046776A

    公开(公告)日:2013-04-17

    申请号:CN201310009150.4

    申请日:2013-01-10

    Inventor: 杨政谕

    Abstract: 本发明公开了一种用于半导体厂房的洁净室,包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间,所述大型洁净空间内具有中央走道和至少一条生产走道;所述中央走道和所有生产走道的四周围设有隔板,使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间,以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构;所述中央走道的内围设有第二隔板,第二隔板设于所述隔板的内侧,隔板和第二隔板之间的天花板镂空,使隔板和第二隔板之间的架构空间和洁净空间构成回风通道。本发明在中央走道和所有生产走道的四周围设有隔板,构成独立的洁净微环境结构,从而避免了上述腐蚀性气体对中央走道和生产走道内的储存仓及产品的影响。

    一种基于规范的工程设计文件的智能化检查方法

    公开(公告)号:CN111898255B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202010680410.0

    申请日:2020-07-15

    Inventor: 丁锋

    Abstract: 本发明公开了一种基于规范的工程设计文件的智能化检查方法,包括如下步骤:步骤一、根据设计要求选择相应的规范,并将规范中的要求转换为逻辑判断与空间约束条件,通过数据接口定义在BIM软件中;步骤二、根据工程要求设计工程设计文件;将工程设计文件中的检查目标依步骤一所述的规范中的相关要求进行相应检查规则设定;步骤三、用定义在BIM软件中的逻辑判断与图形约束条件对步骤二所述的工程设计文件进行规范性检查。实现了将国家规范中相关要求信息与工程设计文件中的图形元素进行结合,利用计算机分析核查该设计文件是否满足国家规范的要求,大提高了工作效率。

    基于半导体生产线中不良产品的污染源查找方法

    公开(公告)号:CN113607766B

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202110886059.5

    申请日:2021-08-03

    Inventor: 杨政谕

    Abstract: 本发明公开了一种基于半导体生产线中不良产品的污染源查找方法,包括如下步骤:(1)先判断该不良原因是不良品相关联的机台造成的还是环境造成的;(2)确定污染物的物种;(3)排查待监测的洁净室空间内的机台,排除不涉及的污染物物种的机台;(4)利用上述气流流线进行逆向反推,从出现不良品相关联的机台出发,排除气流流线经过的机台;(5)从上述步骤排除之后的剩余机台出发,选定复数个的气流流线,设为正向流线B;观察所述逆向流线A和正向流线B,判定可疑机台;(6)进一步的检测确定污染物的来源。本发明的方法不仅没有增加额外的投入、成本较低,而且可以有效地查找到污染源,形成了一套系统性的方法。

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