一种获取极高真空的排气方法

    公开(公告)号:CN103742386B

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201310740247.2

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种获取极高真空的排气方法,依次对真空腔室进行氮气冲洗和利用干泵进行预抽真空,重复三遍真空-氮气冲洗后,分别利用干泵和分子泵以及离子泵和钛升华泵对真空腔室抽真空,期间对真空腔室和离子泵进行烘烤和保温,待真空腔室降至室温后用液氮冷却,使得真空腔室内压强降至10-10Pa量级。本发明对粗抽真空要求不高,无需额外添加昂贵设备,只需要高纯氮气气体,成本低廉。本发明操作简单,可以获得极高真空度。

    红外焦平面探测器组件剂量率试验方法

    公开(公告)号:CN103592035B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201310553201.X

    申请日:2013-11-08

    Abstract: 本发明属于红外探测器领域,具体涉及一种红外焦平面探测器组件剂量率试验方法。目的是对组件进行有效的剂量率辐射试验。该试验方法,包括如下步骤:组件敏感部位分析;预定剂量率并进行累积总剂量评估;选择合格的组件样品,进行光电性能测试;调试试验测试系统并粘贴剂量片;按预设剂量率对某个敏感部位进行辐照,测试工作电流、温度、输出波形;保持组件偏置状态,按先后顺序记录组件试验前、中、后三个时刻点的工作电流、工作温度和输出波形;获得辐照后器件的恢复时间;判断组件功能是否正常及是否为有效炮。该方法克服了剂量率辐射场有效区域的限制,避免了因辐照试验条件的不足,如辐射源有效辐射范围小或辐射剂量率不足够高等问题。

    NEAGaAs光电阴极用的悬臂式监测光源装置

    公开(公告)号:CN104236709B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201410487768.6

    申请日:2014-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种NEA GaAs光电阴极用的悬臂式监测光源装置,包括位于观察窗法兰一侧的UHV腔室内部分和另一侧的光源及其紧固件部分,将UHV腔室内的全部光路构件和反射镜构件悬挂在UHV腔室的法兰上,采用无氧铜材质抛光面反射镜,最大限度的减少了本发明的光源装置对UHV腔室的UHV性能造成任何不利影响。本发明能够在一个UHV激活腔室内同时实现原位透射式和反射式两种光电流监测机制。

    一种获取极高真空的排气方法

    公开(公告)号:CN103742386A

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:CN201310740247.2

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种获取极高真空的排气方法,依次对真空腔室进行氮气冲洗和利用干泵进行预抽真空,重复三遍真空-氮气冲洗后,分别利用干泵和分子泵以及离子泵和钛升华泵对真空腔室抽真空,期间对真空腔室和离子泵进行烘烤和保温,待真空腔室降至室温后用液氮冷却,使得真空腔室内压强降至10-10Pa量级。本发明对粗抽真空要求不高,无需额外添加昂贵设备,只需要高纯氮气气体,成本低廉。本发明操作简单,可以获得极高真空度。

    红外焦平面探测器组件剂量率试验方法

    公开(公告)号:CN103592035A

    公开(公告)日:2014-02-19

    申请号:CN201310553201.X

    申请日:2013-11-08

    Abstract: 本发明属于红外探测器领域,具体涉及一种红外焦平面探测器组件剂量率试验方法。目的是对组件进行有效的剂量率辐射试验。该试验方法,包括如下步骤:组件敏感部位分析;预定剂量率并进行累积总剂量评估;选择合格的组件样品,进行光电性能测试;调试试验测试系统并粘贴剂量片;按预设剂量率对某个敏感部位进行辐照,测试工作电流、温度、输出波形;保持组件偏置状态,按先后顺序记录组件试验前、中、后三个时刻点的工作电流、工作温度和输出波形;获得辐照后器件的恢复时间;判断组件功能是否正常及是否为有效炮。该方法克服了剂量率辐射场有效区域的限制,避免了因辐照试验条件的不足,如辐射源有效辐射范围小或辐射剂量率不足够高等问题。

    NEAGaAs光电阴极用的悬臂式监测光源装置

    公开(公告)号:CN104236709A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201410487768.6

    申请日:2014-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种NEA GaAs光电阴极用的悬臂式监测光源装置,包括位于观察窗法兰一侧的UHV腔室内部分和另一侧的光源及其紧固件部分,将UHV腔室内的全部光路构件和反射镜构件悬挂在UHV腔室的法兰上,采用无氧铜材质抛光面反射镜,最大限度的减少了本发明的光源装置对UHV腔室的UHV性能造成任何不利影响。本发明能够在一个UHV激活腔室内同时实现原位透射式和反射式两种光电流监测机制。

    一种防止电极芯柱污染的电极法兰

    公开(公告)号:CN205298840U

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201520978365.1

    申请日:2015-11-30

    Abstract: 本实用新型提供了一种防止电极芯柱污染的电极法兰,包括电极芯柱法兰和中空陶瓷柱套筒,所述中空陶瓷柱套筒同轴嵌套在电极芯柱外侧,一端与电极芯柱法兰固定连接。本实用新型结构简单,制造技术低,造价低廉,适合所有真空部件厂商加工制作,可以有效杜绝因为电极芯柱污染造成电绝缘性能下降带来的测量不准、抗干扰能力下降、电气性能减弱等一切故障;本实用新型的两个部件由螺纹结构连接固定,便于拆卸,可以仅更换中空陶瓷柱套筒进行法兰的清洗和维护,降低因为污染原因更换整套电极法兰的维修费用和难度。

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