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公开(公告)号：CN1571943A
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：CN01815284.8
申请日：2001-07-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·W·史密斯
CPC classification number: G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/70158
Abstract: 用来制造集成电路的微平版印刷装置例如投影步进机，其使光成形为以人字形照射系统将光掩模照射。该系统或者利用一个人字形孔眼掩模，或利用一些衍射光学元件，来使光源变成四个人字形(110b，120b，130b，140b)。这些人字形处在聚光镜圆形光瞳的各个角落内。这些人字形可能小至在各个角落处的方形极块，或大至一个环状方形环。人字形照射能为照射光掩模的普通X和Y方向的特征提供非常好的特性。
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