用于使用激光进行皮肤治疗的非侵入式设备

    公开(公告)号:CN105142559B

    公开(公告)日:2018-07-20

    申请号:CN201480023336.8

    申请日:2014-04-24

    Abstract: 本发明提供了一种用于使用激光治疗皮肤组织的非侵入式设备(100),并且提供了一种方法和计算机程序产品。该非侵入式设备包括发光系统(110),其用于生成第一激光脉冲(130)以及在该第一激光脉冲之后的预定时间延迟(ΔT)的后续第二激光脉冲(150)。该非侵入式设备进一步包括光学系统(160),其用于在使用中将该第一激光脉冲和第二激光脉冲聚焦在皮肤组织(200)内的治疗位置(210)。该第一激光脉冲包括第一功率密度、第一脉冲持续时间和第一脉冲能量以便在该治疗位置发起等离子(205)。该后续的第二激光脉冲包括低于第一功率密度的第二功率密度和至少比第一脉冲持续时间长10倍的第二脉冲持续时间,以及高于第一脉冲能量的第二脉冲能量以便维持或增强第一激光脉冲所发起的等离子,由此在使用中,该第一激光脉冲和第二激光脉冲共同在治疗位置引发激光诱导光学击穿。

    用于射频皮肤处理的装置
    84.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107530127A

    公开(公告)日:2018-01-02

    申请号:CN201680024646.0

    申请日:2016-04-21

    Abstract: 本发明涉及一种用于RF皮肤处理的装置(100),其包括有源电极(1),该有源电极(1)布置在该装置的操作侧面(15)上,并且具有用于与用户皮肤接触的第一皮肤接触面,该第一皮肤接触面具有小于或等于2mm的最大横截面尺寸。该装置包括回流电极(2),该回流电极(2)布置在该装置的操作侧面(15)上,并且具有用于与用户皮肤接触的第二皮肤接触面,其中第二皮肤接触面的面积是第一皮肤接触面的面积的至少五倍大。RF发生器(21)布置成在有源电极(1)和回流电极(2)之间供应RF处理电压,以便加热有源电极下方的皮肤区域,其中RF处理电压具有在100MHz–3GHz范围内的频率。与使用可比RF处理电压、但是频率低得多的RF皮肤处理装置相比,通过使用所述范围内的RF处理电压频率,作为施加该RF处理电压的结果,在有源电极下方形成的热损伤深度显著增加。

    提供光耦合至皮肤组织的皮肤处理装置

    公开(公告)号:CN105705109A

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201480061153.5

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明提供非侵入式皮肤处理装置(200),包括:被构造为发射处理光(15)的光源(10)、被构造为使处理光沿光轴(OA)聚焦至皮肤组织(300)内部的焦点位置(320)的光学系统(20)和包括具有皮肤接触表面(34)的压头(30),皮肤接触表面具有距光学系统一定距离、用于允许处理光穿过孔被聚焦到皮肤组织内的孔(A1)。压头被配置并构造为通过用超过预定压力的压力将压头压抵特定皮肤类型的皮肤表面在孔的沿光轴并沿孔具有宽度尺寸所在的截面方向截取的截面中生成穿过孔朝向光学系统自由突出的皮肤组织的最大弯曲突起,所述最大弯曲突起的皮肤表面在与光轴的交叉处具有曲率半径(RC)。光学系统被配置并构造为生成处理光的聚焦光束,聚焦光束沿孔的所述截面在所述交叉处具有波前,波前曲率半径的范围在所述最大弯曲突起的皮肤表面的曲率半径(RC)的75%与125%之间。

    用于基于多光子的皮肤处理的皮肤处理装置

    公开(公告)号:CN105682599A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201480060080.8

    申请日:2014-10-31

    Abstract: 本发明提供了一种非侵入性的皮肤处理装置(100),其包括:光源(10),其被构造和配置用于产生线性偏振探测光(12)和线性偏振处理光(22);偏振调制器(30),其被构造和配置用于控制探测光的偏振方向及处理光的偏振方向;偏振敏感传感器(40),其被构造和配置用于通过在偏振敏感传感器的预定偏振方向上感测来自目标位置(210)的反向散射探测光(42)的强度,感测探测光的消偏振水平;和控制器(60),其被配置为在预定范围内扫描探测光的偏振方向,同时接收测量信号(Sm)并用于选择最佳偏振方向(P1),对于该最佳偏振方向探测光的消偏振处于最小值。本发明还提供了一种用于控制所述皮肤处理装置的计算机程序产品。

    使用射频电流的皮肤用治疗装置

    公开(公告)号:CN105658274A

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201480051783.4

    申请日:2014-09-17

    CPC classification number: A61N1/30 A61N1/0432 A61N1/0448 A61N1/403

    Abstract: 本发明提供一种与药剂或治疗物质(20),诸如离子盐溶液一起使用的非侵入性射频电流治疗装置。该物质使用由该装置产生的电场,例如在离子电渗疗法中被输送,以将治疗物质(20)移动到皮肤内,使得射频电流的皮肤电传输被增加。任何射频电流路径均受皮肤中的治疗物质(20)的分布的影响。应用射频电流使在皮肤组织中的加热与射频电流的路径重合,从而允许与射频电流路径重合或与其紧邻的皮肤组织被治疗。使用射频电流治疗的皮肤区域可以是上组织层。这使得射频皮肤制备必需的常规水合步骤变得多余,其可控性差并且根据解剖部位和被治疗个体高度地变化。降低的皮肤阻抗实现很好限定的到皮肤组织的射频传输,和对射频能量传输深度分布的高控制度。由于电场的应用所引起的治疗物质(20)的高穿透,本发明还使得使用射频电流治疗比传统技术更深的层成为可能。

    用于皮肤组织的基于光的处理的皮肤处理装置

    公开(公告)号:CN105636643A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201480054809.0

    申请日:2014-09-23

    Abstract: 本发明提供了一种非侵入性皮肤处理装置(200),其包括:被构造用于发射处理光的光源(10),被构造用于聚焦处理光到皮肤组织内部的焦点位置(340)的光学系统(20),和具有皮肤接触表面(52)的定位构件(50),所述定位构件(50)和所述光学系统(20)可相对于彼此移位,用于改变所述皮肤接触表面(52)和所述光学系统的最终透镜元件(30)之间的距离。在使用中,所述最终透镜元件面向皮肤表面(300),并且所述定位构件(50)和所述光学系统可相对于彼此移位到光学系统(20)的处理位置(Pt)和不同于所述处理位置的光学系统(20)的另外位置(Pf1)。在使用中并在所述处理位置中,所述光学系统的所述最终透镜元件与所述皮肤表面接触,在所述最终透镜元件和所述皮肤表面之间不存在空气间隙。

    使用激光非侵入性处理皮肤的设备及方法

    公开(公告)号:CN105377172A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201480039362.X

    申请日:2014-07-04

    Abstract: 越来越多的非侵入性的皮肤处理设备被提供用于消费者而不是医疗专业人员使用。这样的家庭使用提出了新的问题,诸如安全性和处理功效。本发明改进了现有的设备和处理方法。本发明提供了一种设备和方法,其中光源被配置和布置为在具有单一高阶激光光束模式的激光光束(21)的横向横截面内提供非零强度的第一区域(31)和第二区域(32),并且第三区域(33)布置在第一区域(31)和第二区域(32)之间,其光强度比非零光强度更低。第一区域(31)和第二区域(32)被配置为在使用过程中在激光光束的焦点中产生皮肤组织中的损伤,并且第三区域(33)被配置为在使用过程中避免在焦点中产生由第一区域和第二区域产生的损伤之间的皮肤组织中的损伤。例如,光源可以被配置和布置为产生高阶模式的激光,其阶数高于基本模式的阶数。具有基本上不同强度的区域的光束轮廓的强度图案沿传播轴基本上不变。这在设置在损伤区域之间的基本上无损伤的处理位置处提供了在焦点的皮肤组织中的区域。

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