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公开(公告)号：CN103674252A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310571593.2
申请日：2013-11-15
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 一种原位椭圆偏振测量装置，包括密封盖（100）上设置供偏振光入射与反射的入射孔（106）和反射孔（107），并在外开口处设置密封的入射透光口（108）和反射透光口（109），从而可以保持薄膜反应腔密闭状态下，在整个原子层沉积过程中随时测量薄膜厚度，并且通过光路孔的腔内开口与反应腔的进气口与出气口错开设置，使反应腔的气体流动不易进入光路孔，从而避免在光路孔内壁沉积反应物，无需复杂的定期清洗，整个测量装置结构简单、紧凑，使用方便。
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公开(公告)号：CN119092728A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411047992.3
申请日：2024-08-01
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于铂碳催化剂改性领域，并具体公开了一种选择性钝化低配位点的铂碳催化剂改性方法及铂碳催化剂，其包括：对初始铂碳催化剂进行还原活化，以充分暴露铂颗粒上的低配位点；使钝化剂前体吸附在暴露的低配位点上，然后通过活化剂使低配位点上的钝化剂前体转化成钝化剂，得到钝化剂修饰的铂碳催化剂前体；将铂碳催化剂前体在还原气氛中热处理，得到铂碳催化剂。本发明可精确抑制铂碳催化剂中铂颗粒低配位点的活性，提高铂碳催化剂稳定性，还可还进一步提高其氧还原反应本征活性，便于规模化应用。
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公开(公告)号：CN116818612A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310515602.X
申请日：2023-05-09
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N13/04
Abstract: 本申请涉及一种气体渗透测量装置与方法，在对样品进行检测处理时，通过第一固定件固定住样品，采用第一抽真空组件对第一腔室抽真空处理，以及采用第二抽真空组件对第二腔室抽真空处理，然后进气模块将反应气体输入到第一分体室的内部，通过等离子体发生器产生等离子体，第一高温加热件来给样品进行高温加热，以及通过进气模块调整输入的反应气体的压力，从而模拟出反应堆实际工况环境，实现模拟工况下的反应气体渗透率的原位测量，能够对材料在高温高能的工况环境下的阻隔性能进行评估。
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公开(公告)号：CN116575016A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310471267.8
申请日：2023-04-27
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明提供一种喷头及薄膜制备装置，喷头设有分气流道、第一扩幅腔、第一扩散流道、第二扩幅腔、第二扩散流道、匀压腔及出气口，分气流道与第一扩幅腔连通，第一扩幅腔通过第一扩散流道与第二扩幅腔连通，第二扩幅腔通过第二扩散流道与匀压腔连通，匀压腔与出气口连通，第二扩幅腔沿第二扩幅腔的长度方向的尺寸大于第一扩幅腔沿第一扩幅腔的长度方向的尺寸。本申请中喷头通过第一扩幅腔、第一扩散流道、第二扩幅腔及第二扩散流道之间的相互配合实现喷头的扩大化设计，并采用静压平衡出气的理念，使得喷头能够在保持较大出气幅长的基础上进行均匀且稳定的出气，提高了喷头及薄膜制备装置的适用性和工业生产效率。
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公开(公告)号：CN116180052A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202310188652.1
申请日：2023-02-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/44
Abstract: 本申请涉及一种定量输出设备，包括供应装置、缓冲装置、管路组件和控制阀组件，供应装置中有液态的前驱体，缓冲装置配置为能将前驱体雾化，管路组件包括用于将供应装置与缓冲装置连接的前驱体源管路和进气管路，前驱体源管路包括第一源管路和第二源管路，进气管路将外部气源与第二源管路连接，第二源管路上设置有液体流量计，控制阀组件包括第一阀体和第二阀体，第一阀体设置于第二源管路，第二阀体设置于进气管路。本设备通过供应装置配合第一阀体和液体流量计实现精确控制通入前驱体的量，配合缓冲装置、进气管路和第二阀体对前驱体源管路进行清扫，将管路和液体流量计中残留的前驱体冲入缓冲装置，进一步提高前驱体的利用率，节省生产成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112924324B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202110090792.6
申请日：2021-01-22
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N7/14
Abstract: 本申请涉及一种气体释放率测量系统及控制方法。气体释放率测量系统包括放样室、第一抽真空装置、第一管路、检测室、第二抽真空装置、第一阀门和分压检测装置。放样室用于存放释放目标气体的待测样品。第一抽真空装置与放样室连通。检测室与放样室通过第一管路连通。第二抽真空装置与检测室连通。第一阀门设置于第一管路。分压检测装置与检测室连通。分压检测装置用于检测检测室中目标气体的分压。第一阀门打开时，放样室的气体通过经第一管路进入检测室。分压检测装置通过检测在第一阀门打开前后检测室中目标气体的分压的变化，可以得到待测样品释放目标气体的速率。
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公开(公告)号：CN113540375B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202110625785.1
申请日：2021-06-04
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L51/52 , C23C16/30 , C23C16/40 , C23C16/455
Abstract: 本发明涉及一种干涉滤光膜及其制备方法和发光装置，包括如下步骤：在基材上依次形成层叠且交替的高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜；其中，基材上的最内层薄膜为第一层高折射率材料薄膜，第一层高折射率材料薄膜采用热原子层渗透工艺沉积形成，第一层高折射率材料薄膜的沉积步骤包括依次进行的使前驱体渗透至基材的前驱体渗透阶段及沉积形成第一层高折射率材料薄膜的原子层沉积阶段；除第一层薄膜之外，其他各薄膜的沉积工艺独立地选自原子层沉积工艺或PEALD工艺；各高折射率材料薄膜和各低折射率材料薄膜的沉积温度均不大于110℃。本发明制备方法能够有效地避免制膜工艺导致发光器件失效的问题，且制得的干涉滤光膜具有较好的滤波和增透性能。
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公开(公告)号：CN113588481A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110706802.4
申请日：2021-06-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及一种渗透过程检测设备与检测方法。渗透过程检测设备包括：检测腔，检测腔包括相互连通的第一腔体与第二腔体，第一腔体与第二腔体之间形成第二样品放置区；进气腔，进气腔与第一腔体连通；出气腔，出气腔与第二腔体连通；称重组件，称重组件伸入第一腔体内，称重组件上设有第一样品放置区；红外组件，红外组件包括光源、入射通道、出射通道与光谱仪，入射通道、出射通道均与第二腔体连通，光源发出的入射光线经入射通道进入第二腔体并到达第二样品放置区，经第二样品反射后的出射光线经出射通道进入光谱仪。该检测设备能实现对薄膜样品的渗透的中间过程的检测，以便于进一步加深对于薄膜渗透过程的研究。
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公开(公告)号：CN112924324A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202110090792.6
申请日：2021-01-22
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N7/14
Abstract: 本申请涉及一种气体释放率测量系统及控制方法。气体释放率测量系统包括放样室、第一抽真空装置、第一管路、检测室、第二抽真空装置、第一阀门和分压检测装置。放样室用于存放释放目标气体的待测样品。第一抽真空装置与放样室连通。检测室与放样室通过第一管路连通。第二抽真空装置与检测室连通。第一阀门设置于第一管路。分压检测装置与检测室连通。分压检测装置用于检测检测室中目标气体的分压。第一阀门打开时，放样室的气体通过经第一管路进入检测室。分压检测装置通过检测在第一阀门打开前后检测室中目标气体的分压的变化，可以得到待测样品释放目标气体的速率。
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公开(公告)号：CN110783281B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201911003784.2
申请日：2019-10-22
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L23/29 , H01L23/31 , H01L23/373 , H01L21/56
Abstract: 本发明属于电子器件封装领域，并公开了一种可拉伸电子器件的薄膜封装组件及其制备方法。该组件自下而上包括待封装电子器件、阻隔层、光热传导层和疏水防护层，其中，疏水防护层用于阻隔外界的水汽与光热传导层直接接触并进行腐蚀，光热传导层用于增强器件整体透光和散热能力，阻隔层用于进一步阻隔空气中的水和氧气，避免水和氧气进入待封装电子器件，其中，阻隔层包括有机涂层和无机‑有机复合层；光热传导层依次包括两个封装层和设置在两个封装层之间的金属散热层。本申请还相应公开了上述封装组件的制备方法。通过本发明所获取的封装组件具备良好的水汽阻隔能力，且兼顾良好的透光性、传热性和拉伸性能，可实现对可拉伸电子器件的长效保护。
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