铝膜的制造方法
    81.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104619890B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201380046528.6

    申请日:2013-08-22

    Abstract: 本发明提供一种制造铝膜的方法,该铝膜具有镜面和较低的残余应力。一种制造铝膜的方法,包括在电解液中将铝电沉积至基材表面,其中,所述电解液是通过向由氯化铝和烷基氯化咪唑鎓构成的熔盐中添加至少一种化合物A和具有氨基的化合物B而得到的,所述化合物A选自由有机溶剂、数均分子量为200至80,000的有机高分子化合物、以及碳原子数为3至14的含氮杂环化合物构成的组。

    铝结构体的制造方法和铝结构体

    公开(公告)号:CN103582721A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201280026568.X

    申请日:2012-05-22

    CPC classification number: C25D3/44 C25D1/08 C25D3/665

    Abstract: 本发明的目的是提供一种通过使用具有三维网状结构的多孔树脂成形体来制造铝结构体的方法,所述方法能够形成杂质量低的铝结构体,并且能够获得具有特别大的面积的铝多孔体。本发明提供了这样一种制造铝结构体的方法,包括:导电性赋予步骤,其中将含有导电性碳的导电性涂料涂布到树脂成形体的表面上,从而赋予所述树脂成形体以导电性;镀覆步骤,其中在熔融盐中用铝镀覆已被赋予导电性的所述树脂成形体的表面,从而形成铝层;以及热处理步骤,其中通过热处理除去所述树脂成形体。所述制造铝结构体的方法的特征在于:所述导电性碳是平均粒径为0.003μm至0.05μm(含端值)的炭黑。

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