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公开(公告)号：CN1407407A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN01108758.7
申请日：2001-08-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明是一种光刻成像滤波装置，包括照明光源、聚光镜组、成像物镜以及硅片等，在成像物镜的光瞳面位置，放置有对成像光同时进行相位和振幅滤波的复合滤波板。复合滤波板使成像光基本不受阻挡，改变了投影光刻机成像光学系统的光瞳函数，以及光学系统传递函数。本发明的光刻成像滤波装置对成像系统进行双重频谱调制，改善了频谱传输特性，提高了投影成像光刻分辨力。
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公开(公告)号：CN1386041A
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN01108434.0
申请日：2001-05-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H05H3/02
Abstract: 本发明是一种原子束发生器,它主要由包括炉盖、炉体、原子材料容器和炉底板组成的高温炉,以及真空腔体、大底座与抽真空接口等部分构成。通过更换和加热原子材料容器,能用于产生出不同的多种物质材料的原子束。本发明在工作时通过抽真空排除无用原子和气体,可保证原子束纯度较高。本发明有对原子冷却和控制制作超微细图形的专用真空工作室,可在工作室内制作出超微细三维图形。
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公开(公告)号：CN1385728A
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN01108435.9
申请日：2001-05-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B13/22
Abstract: 本发明是一种超分辨力滤波投影光刻物镜,由外层密封恒温外套、中间层镜筒、内层分隔固定光学透镜元件的透镜框组件和滤波器组件构成,具有滤波轴向重叠功能,增大了焦深,克服了目前现有投影光刻物镜光刻分辨力低,不能制作高分辨力图形的不足,具有超光刻分辨力、大焦深,以及光学系统缩小倍率大,结构简单,大幅降低制作超微细掩模难度和成本的特点。
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公开(公告)号：CN1350193A
公开(公告)日：2002-05-22
申请号：CN00116190.3
申请日：2000-10-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/46
Abstract: 本发明是一种投影光刻成像相移滤波装置,由照明光源、聚光镜组、成像物镜及硅片等构成,其特征是在投影光刻物镜的光瞳面位置,放置对成像光可进行相移滤波的完全透光相移滤波板,既保证成像光不受阻挡,又能提高像对比度,进一步挖掘短波长大数值孔径投影成像系统的光刻分辨力能力,较大地提高投影成像光刻分辨力和大幅度增大焦深。
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公开(公告)号：CN1335525A
公开(公告)日：2002-02-13
申请号：CN00109948.5
申请日：2000-07-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开的0.35微米投影光刻物镜,是一种大规模集成电路制造设备分步重复投影光刻机的高分辨力投影成像物镜。它由外层密封恒温外套、中间层镜筒、内层为分隔固定光学透镜元件的透镜框组件组成。它克服了目前现有光刻设备投影光刻物镜光刻分辨力低,不能制作高分辨力图形的不足,并且具有双远心特性,结构性能好,制作成本低。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1258862A
公开(公告)日：2000-07-05
申请号：CN98124037.2
申请日：1998-12-30
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F1/06
Abstract: 本发明是离轴照明掩模板,属于对光刻机光刻系统中掩模板结构的进一步改进。其特征是根据掩模板下表面的掩模图形的形状和特线征宽,上表面刻蚀相应宽度和形状相位光栅或图形,将产生离轴照明的相位光栅或图形与传统掩模板结合为一体结构。使掩模板本身具有离轴照明功能,能量无损失,均匀性好,改变三束光成像为二束光成像,使光刻分辨力和焦深得到提高,而光刻设备不需作任何改变。在接触接近式光刻中应用效果也同样。
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公开(公告)号：CN2530421Y
公开(公告)日：2003-01-08
申请号：CN02221528.X
申请日：2002-02-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H05H3/02
Abstract: 本实用新型涉及一种可以制作纳米结构的原子束源系统。该系统由供气系统、亚稳态氦原子束发生室、斩波器、激光准直系统等组成，利用供气系统提供的氦气生成亚稳态氦原子束，通过斩波器、激光准直系统等压缩原子束的纵横向速度及其速度分布，减小其发散角，提高亚稳态氦原子束的单色性，形成准单色亚稳态氦原子束。本实用新型产生的原子束单色性好，适合在纳米加工技术领域及其它对亚稳态氦原子束的单色性要求较高的技术领域中应用。
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公开(公告)号：CN2483738Y
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：CN00223215.4
申请日：2000-06-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本实用新型公开的亚半微米投影光刻物镜,是一种大规模集成电路制造设备分步重复投影光刻机的高分辨力投影成像物镜。它由外层密封恒温外套、中间层镜筒、内层为分隔固定光学透镜元件的透镜框组件组成。它克服了目前国内现有光刻设备投影光刻物镜光刻分辨力较低,不能制作千兆位VLSI的不足。与国外具有同等技术参数指标的物镜相比,具有双远心特性,结构性能好,制作成本低。
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公开(公告)号：CN2432594Y
公开(公告)日：2001-05-30
申请号：CN00223787.3
申请日：2000-07-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B7/02
Abstract: 一种亚半微米光刻物镜的恒温水套,由恒温水温度控制、恒温水箱、水泵和上下水套构成,它紧套在物镜镜筒外面,通过水套与物镜内部进行热交换,达到物镜内部温度恒定,从而保持物镜的光学性能质量稳定,克服了由于长时间通光或周围环境温度波动,引起物镜内部温度变化,造成焦点漂移,产生新的畸变和像散,使成像质量下降的缺点。
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公开(公告)号：CN2411494Y
公开(公告)日：2000-12-20
申请号：CN99232422.X
申请日：1999-08-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B13/26
Abstract: 本实用新型公开了一种光刻物镜自动气压补偿装置,它克服了现存技术只能对数值孔径不大的物镜进行环境气压引起的焦面漂移补偿的缺陷。它由内部通道连通光刻物镜内的各透镜而形成与外界大气隔绝的内腔,采用压力传感器检测、单片机控制电路控制内腔气压,使其达到设定值或零偏差值,故该装置可用于对数值孔径较大,工作波长较短的光刻物镜受环境气压影响引起的焦面、倍率和畸变漂移进行控制。
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