一种金刚石微器件内部石墨化层去除方法

    公开(公告)号:CN118910712A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202410818026.0

    申请日:2024-06-24

    Abstract: 本发明公开一种金刚石微器件内部石墨化层去除方法,包括以下步骤:步骤一:准备纳米电解液,步骤二:将金刚石微器件浸泡于纳米电解液中,搭载纳米电解技术实现对石墨化层的高效去除;步骤三:向电解液中加入对金刚石表面具有选择性腐蚀作用的添加剂;步骤四:设置电解液温度,电流密度和电解时间进行电解;步骤五:冷却金刚石微器件,清洗表面,确保去除电解产物和任何残留的石墨化层。可显著提高金刚石微器件内部石墨化层的去除效率。利用纳米电解颗粒的高活性和大比表面积,实现了对石墨化层的高效、选择性去除,缩短了处理时间,提高了生产效率。

    一种射流微通道散热器
    83.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118900545A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202411153121.X

    申请日:2024-08-21

    Abstract: 本发明公开一种射流微通道散热器,包括:射流孔、横向分布的亲疏水复合微通道、纵向分布的微通道出口、微通道亲水表面和微通道疏水微织构。本发明通过在射流微通道底部制备出亲疏水交替分布的微纳织构,以解决微通道在流动沸腾过程中的气化核心密度低、微通道出口流动稳定性差、流动沸腾压降损失大等问题,将微通道和阵列射流冲击结合起来,不但可以阻碍气泡聚集长大,使得通道内的流动均匀,又能够减小轴向温度梯度,使壁面温度分布更均匀,不但可以降低沸腾换热的临界热通量,还可显著提高沸腾换热系统。

    一种气动潜孔锤用防堵结构
    85.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118653776A

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN202411023987.9

    申请日:2024-07-29

    Abstract: 本发明涉及气动潜孔锤技术领域;且公开了一种气动潜孔锤用防堵结构,包括主体结构,所述主体结构包括有锤体、连接柱;振动结构,所述振动结构包括有连接筒与驱动轮,且连接筒下端的外表面与所述锤体上端的外表面固定连接,并且驱动轮的内表面与所述连接柱的外表面固定连接:固定结构,所述固定结构包括有连接环,且连接环上端的表面与所述锤体下端的外表面固定连接。本发明通过第一齿轮带动第二齿轮与自身相反方向旋转,接着四组啮合柱分别与驱动轮的外表面啮合,使得驱动轮带动设备整体往复旋转,使得设备整体产生震动,可以将连接柱与多组排尘槽内部的灰尘与岩石碎屑抖落,从而避免设备被堵塞而被卡死,保证设备的工作效率。

    一种钛合金切削刀具表面纳米复合结构涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116043162A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202310218362.7

    申请日:2023-03-09

    Abstract: 本发明公开了一种钛合金切削刀具表面纳米复合结构涂层及其制备方法,具体涉及切削用刀具防护涂层领域。所述涂层包括设置在刀具基底上的致密纳米晶结构金属连接层;在致密纳米晶结构金属连接层上设置的致密纳米晶结构陶瓷梯度过渡层;在致密纳米晶结构陶瓷梯度过渡层上设置的致密CrSiN纳米复合结构强化支撑层;在致密CrSiN纳米复合结构强化支撑层上设置多层周期功能层。本发明提供的纳米复合结构涂层兼具优良的膜‑基结合强度与较高的力学性能,显著减少切削加工过程中涂层的开裂与剥落;多层周期功能层的设置大幅降低了刀具表面的粘着和磨损,提升刀具的切削加工性能,使得涂层刀具的使用寿命比未镀涂层的刀具基底提升10倍以上。

    添加纳米金属的单晶金刚石高精度抛光剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN115011255B

    公开(公告)日:2023-03-17

    申请号:CN202210733540.5

    申请日:2022-06-27

    Abstract: 一种添加纳米金属的单晶金刚石高精度抛光剂,本发明涉及单晶金刚石抛光剂的制备技术领域。本发明要解决现有方法针对单晶金刚石各向异性,并满足不同原子面抛光需求。抛光剂由包覆石墨烯的纳米金属颗粒、溶剂、分散剂、pH调节剂和表面活性剂合成。在抛光过程中,本发明制备的抛光剂可以催化单晶金刚石石墨化、促进化学效应、削弱机械作用带来的金刚石表面解理剥落、减少大颗粒金刚石磨屑的形成,防止对抛光面造成二次损伤。制备抛光剂颗粒分散性好,能提升单晶金刚石的抛光效率和抛光精度,通过调节抛光剂中纳米金属的种类、成分和含量,满足单晶金刚石不同原子面抛光工艺差异化要求。本发明抛光剂用于单晶金刚石的抛光。

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