一种单轴滚珠丝杠进给系统运动特性的机电联合建模方法

    公开(公告)号:CN112199821B

    公开(公告)日:2022-12-09

    申请号:CN202010956741.2

    申请日:2020-09-12

    Abstract: 一种单轴滚珠丝杠进给系统运动特性的机电联合建模方法,先进行控制系统模块的等效建模,再进行PWM与逆变器模块的等效建模,然后进行伺服电机模块的等效建模,再进行机械系统模块的动力学等效建模,然后进行模型的集成;最后对机电集成模型进行离散化;本发明对滚珠丝杠进给系统中各环节进行详细建模与求解,实现滚珠丝杠进给系统从指令输入到工作台位移输出的全过程物理仿真。

    一种单轴滚珠丝杠进给系统运动特性的机电联合建模方法

    公开(公告)号:CN112199821A

    公开(公告)日:2021-01-08

    申请号:CN202010956741.2

    申请日:2020-09-12

    Abstract: 一种单轴滚珠丝杠进给系统运动特性的机电联合建模方法,先进行控制系统模块的等效建模,再进行PWM与逆变器模块的等效建模,然后进行伺服电机模块的等效建模,再进行机械系统模块的动力学等效建模,然后进行模型的集成;最后对机电集成模型进行离散化;本发明对滚珠丝杠进给系统中各环节进行详细建模与求解,实现滚珠丝杠进给系统从指令输入到工作台位移输出的全过程物理仿真。

    一种基于锗锑碲与IV族碲化物交替堆垛的多层相变薄膜及其应用

    公开(公告)号:CN111952448A

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN202010806609.3

    申请日:2020-08-12

    Abstract: 一种基于锗锑碲与IV族碲化物交替堆垛的多层相变薄膜及其应用,包括相变层和阻隔层,所述相变层和阻隔层交替堆垛,所述相变层至少两层,阻隔层至少一层,所述相变层为锗锑碲薄膜,阻隔层为IV族碲化物薄膜。该薄膜中锗锑碲材料与IV族碲化物材料交替堆垛,其中锗锑碲作为相变层实现存储,IV族碲化物材料作为阻隔层不参与相变,既能够抑制相变层材料的结构弛豫,又能够阻碍其元素偏析现象,将会极大地提升相变存储器件的稳定性和精准性,并有效延长器件的使用寿命,同时锗锑碲材料具有较高的结晶温度,能够保证高温环境下的稳定服役。该薄膜可应用于相变存储器及类脑计算芯片领域。

    一种电子束辐照诱导锗锑碲材料晶化的方法

    公开(公告)号:CN108588672B

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201810369025.7

    申请日:2018-04-23

    Inventor: 张伟 王疆靖 田琳

    Abstract: 本发明公开了一种电子束辐照诱导锗锑碲材料晶化的方法,包括:选择能够进行微观结构表征、电学性能测试或原位性能测试的衬底制备锗锑碲非晶薄膜;对制备锗锑碲非晶薄膜的衬底进行电镜样品预处理;在电镜样品中寻找锗锑碲非晶薄膜表面干净平整的区域;通过在电镜中设置辐照范围、辐照电压、辐照强度和辐照时间;在电镜中实时观测电镜样品辐照区域的晶化过程,得到满足晶化范围、晶体结构、晶粒大小的锗锑碲晶体,即完成电子束辐照诱导锗锑碲材料晶化过程。本发明方法为相变材料晶化机理及相应结构性能的研究提供了实验依据。

    一种电子束辐照下原位研究锗锑碲材料非晶化机理的方法

    公开(公告)号:CN110554060A

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201910773032.8

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 本发明公开了一种电子束辐照下原位研究锗锑碲材料非晶化机理的方法,包括:选择表面沉积在透射电镜标准尺寸的碳支持膜铜载网上的锗锑碲晶体薄膜;采用等离子清洗技术对制备的薄膜样品进行表面预处理,选择氩气进行等离子清洗;将预处理电镜样品置于透射电镜中,并在薄膜样品中寻找表面平整、无碳沉积、无污染、无破损且厚度均匀的区域作为辐照区域;设置辐照参数,诱导材料发生逐步非晶化;原位观察并记录材料的非晶化结构演变过程,分析材料的非晶化相变机理。本发明通过电子束辐照实现了锗锑碲材料的逐步非晶化,并借助透射电镜直接观察分析材料非晶化的结构演变过程,为探索锗锑碲材料的非晶化机理提供了便捷的研究方法和可靠的实验依据。

    一种直流叠加高压脉冲的真空灭弧室老炼装置及方法

    公开(公告)号:CN106872888B

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201710132580.3

    申请日:2017-03-07

    Abstract: 本发明公开了一种直流叠加高压脉冲的真空灭弧室老炼装置及方法,包括直流电源、脉冲电源、真空灭弧室、隔直耦合电容及隔离电感,直流电源的一端及脉冲电源的一端与真空灭弧室触头的一端相连接,直流电源的另一端与隔离电感的一端相连接,脉冲电源的另一端与隔直耦合电容的一端相连接,隔直耦合电容的另一端及隔离电感的另一端均与真空灭弧室触头的另一端相连接,该装置及方法技术难度小,成本低,同时单次老炼能量能够实现精确调节。

    一种电子束辐照诱导锗锑碲材料晶化的方法

    公开(公告)号:CN108588672A

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201810369025.7

    申请日:2018-04-23

    Inventor: 张伟 王疆靖 田琳

    Abstract: 本发明公开了一种电子束辐照诱导锗锑碲材料晶化的方法,包括:选择能够进行微观结构表征、电学性能测试或原位性能测试的衬底制备锗锑碲非晶薄膜;对制备锗锑碲非晶薄膜的衬底进行电镜样品预处理;在电镜样品中寻找锗锑碲非晶薄膜表面干净平整的区域;通过在电镜中设置辐照范围、辐照电压、辐照强度和辐照时间;在电镜中实时观测电镜样品辐照区域的晶化过程,得到满足晶化范围、晶体结构、晶粒大小的锗锑碲晶体,即完成电子束辐照诱导锗锑碲材料晶化过程。本发明方法为相变材料晶化机理及相应结构性能的研究提供了实验依据。

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