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公开(公告)号：CN101206409B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200710172427.X
申请日：2007-12-17
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明为一种工件台平衡质量定位系统，用于光刻机中工件台的减振，其包括系统框架、基础框架、硅片承载台、气浮系统、纠偏防漂装置及运动限位装置，该系统框架通过气浮系统相对该基础框架运动，该运动限位装置位于系统框架的四个角点位置用以圈定该定位系统在基础框架上作平面运动的极限位置，X向和Y向长行程模块实现硅片承载台相对于系统框架在X、Y方向上的独立运动，纠偏防漂装置用以完成对工件台平衡质量定位系统的跟踪补偿和回零控制。本发明的平衡质量定位系统结构简单，采用特殊设计的纠偏防漂装置能使其运动完全解耦，并且易于制定跟踪控制策略，结合X、Y向力矩补偿装置，可以使硅片承载台作大行程运动的加速度得到进一步的提高。
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公开(公告)号：CN101364052B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200810200919.X
申请日：2008-10-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20 , F16F15/023 , F16M7/00
Abstract: 本发明提供一种主动减振系统，包括基座、主基板、减振单元及其控制系统，其特征在于至少3个减振单元，以相同的夹角围绕一个中心平均分布在一个圆周平面上，所述减振单元底端安装在基座上，顶端连接主基板，所述控制系统连接减振单元，接收来自减振单元的振动信号，并反馈控制信息。其中预见控制模块根据主基板上掩模台、工件台等运动部件的路径规划，得出各运动部件在未来一段时间内的位置信息，预见控制器综合各运动部件当前位置和未来一段时间内的位置信息，通过预见控制算法得出预见补偿控制信号，将预见补偿控制信号与减振反馈控制信号叠加，驱动主动减振系统。本发明具有功率小，发热量低，减振精度高等优点。
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公开(公告)号：CN101369104B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200810200918.5
申请日：2008-10-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光学元件微调整装置，包括：一保持光学元件的内镜筒，至少三组摩擦定位机构，一承载容纳上述内镜筒以及摩擦定位机构的外镜筒；光学元件径向安装于内镜筒内，轴线沿重力方向，所述三组摩擦定位机构均匀设置在内镜筒四周，一端与内镜筒固定连接，另一端与外镜筒连接且保持滑动约束；一组重力平衡簧片沿内镜筒周围均匀设置，簧片的片状面平行于内镜筒光学元件的径向，一端连接外镜筒的基座，另一端连接内镜筒。摩擦定位机构通过压电执行器，可沿光学元件轴线方向调整定位光学元件，具备高精度长行程的轴向三自由度调整能力。
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公开(公告)号：CN101382178B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200810201311.9
申请日：2008-10-16
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种主动减振隔振装置和由该主动减振隔振装置组成的减振隔振系统。本发明所揭露的主动减振隔振装置包括：具有密封活塞的气腔；倒立摆，其一端与所述活塞固定连接；承载部件，其与所述倒立摆的另一端固定连接；垂向直线执行器设置於所述承载部件和气腔之间，且与所述承载部件和气腔外壳连接，以对所述承载部件施加主动力；水平向直线执行器设置於所述承载部件和气腔之间，且与所述承载部件和气腔外壳连接，以对所述承载部件施加主动力。
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公开(公告)号：CN101413778A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810200917.0
申请日：2008-10-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01B5/252
Abstract: 本发明提供一种同轴度检测装置，用于两个内孔之间的同轴度检测，支撑机构、旋转机构、定位机构以及检测机构，其中，所述定位机构的旋转中心轴相对于被检测零件一的圆形内孔面的中心轴相同，所述检测机构与所述定位机构在旋转时具有相同的旋转中心轴。因此，该同轴度检测装置所检测的同轴度直接是被测第一孔与被测第二孔的同轴度。该同轴度检测装置具有检测精度高的特点，并能实现大尺寸孔径、距离远之间的孔的同轴度高精度在线检测。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101206409A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710172427.X
申请日：2007-12-17
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明为一种工件台平衡质量定位系统，用于光刻机中工件台的减振，其包括系统框架、基础框架、硅片承载台、气浮系统、纠偏防漂装置及运动限位装置，该系统框架通过气浮系统相对该基础框架运动，该运动限位装置位于系统框架的四个角点位置用以圈定该定位系统在基础框架上作平面运动的极限位置，X向和Y向长行程模块实现硅片承载台相对于系统框架在X、Y方向上的独立运动，纠偏防漂装置用以完成对工件台平衡质量定位系统的跟踪补偿和回零控制。本发明的平衡质量定位系统结构简单，采用特殊设计的纠偏防漂装置能使其运动完全解耦，并且易于制定跟踪控制策略，结合X、Y向力矩补偿装置，可以使硅片承载台作大行程运动的加速度得到进一步的提高。
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公开(公告)号：CN101164859A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710045581.0
申请日：2007-09-04
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明为一种精密提升装置，包括承载板(4)，提升机构(6)，上面板(601)，下面板(602)，驱动装置(19)，其中提升机构(6)由两个以上的提升单元并联组成，所述的提升单元由两个X型桁架通过铰链连接，所述的驱动装置(19)装配在所述的铰链连接处。该装置体积小，灵活性好，并且也更加稳定，移动方便，适用于精密仪器的安装提升。
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公开(公告)号：CN101158815A
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200710045497.9
申请日：2007-08-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种气浮磁控精密运动平台，包括动子平台，定子平台，动子推力线圈和定子永磁铁阵列，x－y向反射镜，x－y向反射镜位于动子平台顶部的两侧，动子平台底部边缘分布有气浮孔，动子平台中心分布有真空腔，动子推力线圈位于动子平台底部内侧，定子永磁铁阵列固定于定子平台，整个动子平台悬浮于定子平台上，动子推力线圈排列方式与定子永磁铁阵列相匹配。采用本发明气浮磁控精密运动平台，单动子气浮磁控精密运动平台可实现微米/纳米级的微动精度和定位精度；多动子气浮磁控精密运动平台可实现多工位大行程精密运动。动子平台悬浮于定子平台上，避免平台之间机械摩擦以及摩擦带来的平台运动精度问题，同时可冷却动子线圈。
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公开(公告)号：CN101075096A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200710042417.4
申请日：2007-06-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻机工件台平衡定位系统，涉及半导体的光刻技术领域。该工件台平衡定位系统包括基础框架、长行程模块、曝光台、平衡质量系统、平衡质量防漂系统、测量系统和控制系统；长行程模块建立在平衡质量系统上，带动曝光台沿X、Y向运动；平衡质量系统建立在基础框架上，包括主平衡质量和辅平衡质量，用于平衡系统的反作用力和反作用力矩；平衡质量防漂系统安装在基础框架和主平衡质量之间，用于补偿平衡质量系统沿X、Y和Rz向的漂移；控制系统根据测量系统的反馈数据控制长行程模块的运动及主平衡质量的位置补偿。本发明大幅减少了工件台加速运动时对光刻机基础的反作用力，从而降低了光刻机的减振难度，提高了工件台的定位精度。
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公开(公告)号：CN1959533A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610136730.X
申请日：2006-11-24
Applicant: 中南大学 , 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种用于步进扫描光刻机的精密隔振系统，它包括多个主动减振单元，主动减振单元包括底座和中间体，在中间体与底座之间设有空气弹簧装置和垂直磁致伸缩作动器；在中间体和底座的侧壁之间设有水平超磁致伸缩作动器和预压力调整装置；一个压力传感器；空气弹簧装置通过高速伺服气动阀与外部气源连通；垂直磁致伸缩作动器、水平超磁致伸缩作动器、压力传感器和高速伺服气动阀与控制系统电连接，控制系统还电连接位移传感器、水平传感器、六自由度加速度传感器。本发明不但可以隔离高频振动，而且对于低频微幅隔振也是非常有效的；不仅可以作为步进扫描光刻机的配套精密隔振系统，而且可以用于其他需要精密隔振的高科技领域。
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