三维半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN107403803A

    公开(公告)日:2017-11-28

    申请号:CN201710342304.X

    申请日:2017-05-15

    Inventor: 黄盛珉

    Abstract: 公开了三维半导体器件及其制造方法。三维半导体器件可以包括:下电极结构,具有竖直堆叠在衬底上的多个下电极;以及上电极结构,具有堆叠在下电极结构上的多个上电极。下电极和上电极中的每一个可以包括:电极部,与衬底的上表面平行;以及竖直焊盘部,相对于衬底的上表面倾斜。相邻的下电极的竖直焊盘部可以彼此间隔第一水平距离。相邻的下电极和上电极的竖直焊盘部可以彼此间隔第二水平距离,第二水平距离大于第一水平距离。

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