一种碳钢表面形成钽/钽-铁梯度层的材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115595580B

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202211316953.X

    申请日:2022-10-26

    Abstract: 本发明公开了一种碳钢表面形成钽/钽‑铁梯度层的材料及其制备方法,利用双辉光等离子表面冶金热处理方法,步骤为:(1)靶材、金属基材表面清理,排除空气、通入保护气;(2)预轰击处理;(3)梯度加热、恒温扩散、快速沉积;(4)退火和冷却。本发明工艺简单易行、钽层厚度可控性好、成本低、无任何污染。通过对阴极电压、电流、靶材与基材间距、反应时间的把控调节,从而使钽与铁通过相互扩散实现碳钢表面钽‑铁梯度合金化,这种自扩散增强了表面涂层与基体的结合,此处在碳钢表面获得的钽/钽‑铁梯度层无需后续的高温扩散退火即可满足一般情形下的性能使用需求。对使用低成本材料取代高成本钽材料,减少能源消耗有重大意义。

    一种可改善表面光洁度的低共熔离子液体电沉积铜涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN113502515A

    公开(公告)日:2021-10-15

    申请号:CN202110793716.1

    申请日:2021-07-14

    Abstract: 本发明提供一种可改善表面光洁度的低共熔离子液体电沉积铜涂层的制备方法,包括:将氯化胆碱、乙二醇和氯化铜混合均匀并加热,恒温搅拌直到固体全部溶解,生成棕色粘稠的液体,得到电解液,向电解液中加入一定量的水杨酸;铜片作为可溶性阳极,铜块作为阴极,浸入电解液后与电源连接,进行恒电流电沉积;电沉积后,取出样品并清洗、吹干,即得到铜涂层。本发明在电解液中加入水杨酸,可对低共熔离子液体电沉积铜涂层技术进行改进,以获得更加致密平整的铜涂层,从而有效地提高了铜涂层的表面光洁度。本发明采用的原料廉价,绿色环保,安全无毒,电解液后期处理简单,且实验结果的重复性强。

    一种铜基体表面防腐改性的绿色新方法

    公开(公告)号:CN113463145A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202110818765.6

    申请日:2021-07-20

    Abstract: 本发明公开了一种铜基体表面防腐改性的绿色新方法,配置电解液:电解液中氯化胆碱、乙二醇、氯化铜按照一定比例的摩尔比进行配置,按上述比例将氯化胆碱、乙二醇和氯化铜混合均匀后然后加热到70℃,恒温搅拌直到固体全部溶解,本发明采用氯化胆碱和乙二醇为基础电解质,对PH值没有固定的要求,没有使用任何的电沉积添加剂,绿色环保,安全无毒,不会对周围的环境造成污染,原料简单,操作简便,改性物质直接采用熔融硬脂酸,一步构筑具有微纳米结构的超疏水涂层,改变了传统改性技术中需要使用乙醇等作为溶剂的缺点,作为改性后的熔融硬脂酸,可以重复使用,并且由于硬脂酸与硬脂酸铜熔沸点不同,对改性后的废弃产物进行回收再利用。

    一种钛合金表面改性方法
    74.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113293350A

    公开(公告)日:2021-08-24

    申请号:CN202110582236.0

    申请日:2021-05-26

    Abstract: 本发明公开了一种钛合金表面改性方法,将预处理好的钛合金制件悬挂在等离子冶金炉的石墨源极靶材中,在石墨源极靶材上插入所渗金属/合金棒(铬、钼、钨等单元和多元合金),形成复合靶材结构;启动辉光电极处理技术,调节复合靶材结构电压在550‑950V,氩氮比例3∶3‑3∶0,使石墨源极靶材和钛合金制件升温至500~1000℃,对钛合金制件表面进行轰击,处理结束后降温,即得到表面改性的钛合金制件。本发明以高熔点金属元素与碳/氮元素为溅射靶材源,对钛合金制件进行表面冶金处理,形成高硬耐磨的冶金陶瓷层,金属表面陶瓷层成分与硬度呈梯度分布,改性方法简单,改性层和基层结合紧密,结合强度高。

    一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法

    公开(公告)号:CN113073300A

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202110318909.1

    申请日:2021-03-25

    Abstract: 本发明公开了一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法,包括以下步骤:(1)非金属基体清洗后放入氧等离子刻蚀机中进行刻蚀;(2)将刻蚀完成的非金属基体置于磁控溅射装置样品台,利用硫化锌靶材在非金属基体上沉积硫化锌薄膜。该方法将氧等离子刻蚀和磁控溅射技术相结合,先对基体进行活化,然后沉积薄膜,使得制备出的薄膜与基体结合力更强,制备出的薄膜质量好,纯度高,性能稳定,且制备时间短,便于大规模生产。

    一种单连接线电沉积钨涂层的方法

    公开(公告)号:CN107385484B

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201710574513.7

    申请日:2017-07-14

    Abstract: 本发明涉及一种单连接线电沉积钨涂层的方法,本方法采用了单导线电沉积金属钨涂层技术方案,与常规电沉积技术相比,阳极钨直接放置于可导电的碳化硅石墨坩埚底部,可不使用金属连接线也可保证电路的完整性,降低了电沉积连接线的使用成本。阴极电极采用高温镍合金丝替代铂丝作为连接线,进一步节省了电极连接线成本,采用该方法电沉积出的钨涂层依旧结构致密,无裂纹。

    一种钛氧化合物柔性光电腐蚀薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN109267010A

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201811445726.0

    申请日:2018-11-29

    CPC classification number: C23C14/083 C23C14/0036 C23C14/34

    Abstract: 本发明涉及一种钛氧化合物柔性光电腐蚀薄膜及其制备方法,借助双阴极辉光等离子放电作用在不锈钢箔基体表面溅射沉积钛氧化合物薄膜,将基体用丙酮进行超声清洗;之后将预处理好的基体放入等离子体炉内的试样台上完成样品表面钛氧化合物薄膜的制备。本发明以高纯金属元素为靶材,为了提高元素反应的供应量和供应效率,在基片和靶材周围形成双层辉光等离子放电,成膜仅需要10-30min。本发明得到的薄膜与基体之间发生了互渗,因此基体与薄膜之间的结合强度高。本发明得到的薄膜表面质量高,且制备方法成本低,无污染,工艺流程较为简单,对基体本身的性能几乎无影响,不损伤基体。

    一种石墨烯透明电极薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN106756835B

    公开(公告)日:2018-11-16

    申请号:CN201611253178.2

    申请日:2016-12-30

    Abstract: 本发明涉及一种石墨烯透明电极薄膜的制备方法,以氧化还原石墨片为石墨烯溅射的靶材元素,借助双阴极辉光等离子放电作用在不同基体表面溅射沉积石墨烯薄膜的方法。本发明中石墨烯在溅射成膜过程中由于两个阴极的等离子同时产生作用,增强了体系的辉光放电成膜效率。因此,所得石墨烯薄膜质量较好,性能较为稳定。本发明对基体的材料及形状具有较大的选择性,可以在不同形状及不同材料的基体上制备石墨烯薄膜,所制备的石墨烯薄膜较为均匀,而且可以大面积量制备。

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