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公开(公告)号：CN110462106A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201780088652.7
申请日：2017-12-21
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 铝多孔体包括具有三维网络结构的骨架，其中，骨架由包含碳化铝的铝层形成，以及当对所述铝多孔体进行XRD测量时，在30.8°以上且31.5°以下的2θ范围以及31.6°以上且32.3°以下的2θ范围内的两个峰位置探测到源自碳化铝的衍射峰。
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公开(公告)号：CN105008560B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201380073874.3
申请日：2013-12-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: F28F21/084 , B22F3/11 , B22F5/106 , C22C1/0416 , C22C1/08 , C25D1/08 , C25D3/665 , F28F13/003 , Y10T428/12479
Abstract: 本发明提供了可用作具有非常大的比表面积、优异的热交换效率和降低的气体压力损失的传热材料的铝多孔体。所述铝多孔体含有铝作为主要成分、具有三维网状结构、并具有由下式所表示的比表面积(Y)：Y＝a×exp(0.06X)(式)(在所述(式)中，Y表示比表面积[m2/m3]，X为小室数目(小室/每英寸)，且a为100至1,000的数目)。
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公开(公告)号：CN104619890B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201380046528.6
申请日：2013-08-22
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C25D3/66
Abstract: 本发明提供一种制造铝膜的方法，该铝膜具有镜面和较低的残余应力。一种制造铝膜的方法，包括在电解液中将铝电沉积至基材表面，其中，所述电解液是通过向由氯化铝和烷基氯化咪唑鎓构成的熔盐中添加至少一种化合物A和具有氨基的化合物B而得到的，所述化合物A选自由有机溶剂、数均分子量为200至80,000的有机高分子化合物、以及碳原子数为3至14的含氮杂环化合物构成的组。
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公开(公告)号：CN105980606A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201580007478.X
申请日：2015-01-26
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: C25D5/56 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D3/665 , C25D5/003 , C25D7/0614 , C25D7/0621 , C25D17/004 , C25D21/04
Abstract: 本发明的目的是提供一种铝膜的制造方法和制造装置，通过利用该制造方法和制造装置，水分或氧不会侵入到镀覆室中。本发明提供了一种铝膜的制造方法，其中在熔融盐电解液中，在被赋予导电性的长条状多孔树脂基材表面上电沉积铝。铝膜制造方法包括如下步骤：使基材(W)传送通过配置于镀覆室(1)的入口侧的密封室(4)，由此传送到镀覆室中的步骤；在镀覆室(1)中将铝膜电沉积到基材(W)的表面上的步骤；将其上电沉积有铝膜的基材通过配置于镀覆室(1)出口侧的密封室(5)，由此从镀覆室(1)传送出来的步骤。向镀覆室供应惰性气体，从而使镀覆室相对于外部空气具有正压，并且从分别设置在两个密封室上的惰性气体排气管(7)中将惰性气体强制排出。
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公开(公告)号：CN103380518B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201280008886.3
申请日：2012-02-16
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 富山住友电工株式会社
IPC: H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/134 , H01M4/136 , H01M4/36 , H01M4/485 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/58 , H01M4/66 , H01M4/80 , H01M10/052 , H01M10/0525
CPC classification number: H01M4/661 , H01G11/28 , H01G11/50 , H01G11/70 , H01G11/86 , H01M4/13 , H01M4/80 , H01M6/14 , H01M10/052 , H01M10/399 , Y02E60/122 , Y02E60/13 , Y02P70/54
Abstract: 本发明的目的是提供一种价格低廉的高容量电化学元件。该电化学元件配备有电化学元件用电极，其中，正极集电体和/或负极集电体为具有连通的孔的金属多孔体，该连通的孔中载有含有活性物质的混合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103477479B
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201280008912.2
申请日：2012-02-14
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 富山住友电工株式会社
CPC classification number: H01G9/016 , H01G11/66 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/13 , H01M4/661 , H01M4/74 , H01M10/052 , Y02E60/13 , Y10T29/417 , Y10T29/49115 , Y10T428/12479
Abstract: 本发明的目的是提供：三维网状铝多孔体，其可被用于连续生产电极的方法中并且能够制造在集电方向电阻低的集电体；使用了所述铝多孔体的电极；和制造所述电极的方法。在用于集电体的片状三维网状铝多孔体中，当将彼此正交的两个方向中的一个方向作为X方向而将另一方向作为Y方向时，所述三维网状铝多孔体在所述X方向上的小室直径不同于其在所述Y方向上的小室直径。
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公开(公告)号：CN102947977B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201180027111.6
申请日：2011-05-26
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 富山住友电工株式会社
CPC classification number: H01M4/80 , C23C14/18 , C23C14/5846 , C23C24/087 , H01G9/048 , H01G9/058 , H01G9/145 , H01G11/06 , H01G11/50 , H01G11/56 , H01G11/66 , H01G11/70 , H01M4/131 , H01M4/661 , H01M4/70 , H01M4/74 , H01M4/747 , H01M4/808 , H01M2004/021 , Y02E60/13
Abstract: 本发明提供了一种三维网状铝多孔体、分别使用了该铝多孔体的集电体和电极；以及制造这些部件的方法，在所述三维网状铝多孔体中，所述多孔体中的小室的直径在所述多孔体的厚度方向上是不均匀的。所述多孔体为用于集电体的、片状的三维网状铝多孔体，其中所述多孔体中的小室的直径在所述多孔体的厚度方向上是不均匀的。当所述三维网状铝多孔体的厚度方向上的截面被依次分割为区域1、区域2和区域3这三个区域时，优选区域1和区域3的平均小室直径与区域2的小室直径不同。
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公开(公告)号：CN103370757B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201280008717.X
申请日：2012-02-14
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 富山住友电工株式会社
CPC classification number: H01G11/68 , H01G11/06 , H01G11/28 , H01G11/70 , H01M4/661 , H01M4/74 , H01M10/05 , Y02E60/13
Abstract: 本发明旨在提供一种包括适用于非水电解质电池用电极或电容器用电极的铝多孔体的集电体、以及使用了该集电体的电极。当将片状的三维铝多孔体在宽度方向上分为中央区域和使该中央区域位于其间的两个端部区域时，所述两个端部区域的铝的单位面积重量大于所述中央区域的铝的单位面积重量。
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公开(公告)号：CN104641022A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201380048581.X
申请日：2013-08-23
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C25D3/66
CPC classification number: C25D3/665 , C23C18/1653 , C25D3/44 , C25D5/54 , C25D5/56
Abstract: 本发明提供了一种制造铝膜的方法，该方法能够连续地大量制造表面平滑性优异并且具有镜面的铝膜。在制造铝膜的方法中，在电解液中将铝电沉积到基材表面。该电解液包含以下组分：(A)卤化铝，(B)选自由烷基卤化吡啶鎓、烷基卤化咪唑鎓、以及脲化合物构成的组中的至少一种化合物，以及(C)1,10-菲咯啉一水合物。组分(A)与组分(B)的混合比(摩尔比)在1:1至3:1的范围内。电解液中1,10-菲咯啉一水合物的浓度控制在0.05g/L至7.5g/L(包括端值)的范围内。
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公开(公告)号：CN104619890A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201380046528.6
申请日：2013-08-22
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C25D3/66
Abstract: 本发明提供一种制造铝膜的方法，该铝膜具有镜面和较低的残余应力。一种制造铝膜的方法，包括在电解液中将铝电沉积至基材表面，其中，所述电解液是通过向由氯化铝和烷基氯化咪唑鎓构成的熔盐中添加至少一种化合物A和具有氨基的化合物B而得到的，所述化合物A选自由有机溶剂、数均分子量为200至80,000的有机高分子化合物、以及碳原子数为3至14的含氮杂环化合物构成的组。
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