公开(公告)号：CN119725055A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202411363539.3

申请日：2024-09-27

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 水野议觉 ,  繁山航 ,  青岛慎

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/21 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28

Abstract: 提供能够防止在试样的表面形成厚的沉积膜的聚焦离子束装置。聚焦离子束装置(100)是对试样(S)照射离子束来加工试样(S)的聚焦离子束装置，包含：FIB镜筒(20)，其用于对试样(S)照射离子束；喷嘴(42)，其从吹出口(41)将用于形成沉积膜的气体吹送到试样(S)；试样载台(30)，其支撑试样(S)；遮蔽构件(60)，其用于阻碍气体的流动；以及遮蔽构件支撑机构(70)，其支撑遮蔽构件(60)且使遮蔽构件(60)能在遮蔽位置与遮蔽构件退避位置之间移动，遮蔽位置在吹出口(41)与支撑于试样载台(30)的试样(S)之间，遮蔽构件退避位置不在吹出口(41)与支撑于试样载台(30)的试样(S)之间。

公开(公告)号：CN119452534A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202380050732.9

申请日：2023-05-30

Applicant: 国立研究开发法人理化学研究所 ,  日本电子株式会社

Inventor： 香取秀俊 ,  高本将男 ,  十成悟

IPC: H01S1/06 ,  G04F5/14 ,  H01S3/00

Abstract: 在通过第1光和磁场来捕获第1状态的原子的第1区域中，原子被光泵浦为第2状态，从而原子通过磁力被捕获。在第1区域被捕获的第2状态的原子通过重力或第2光的辐射压从第1区域移动到第2区域。在第2区域，通过对第2状态的原子照射第2光，第2状态的原子被冷却。通过将原子光泵浦为对磁场不敏感的第3状态，原子被从磁阱释放，并通过移动光晶格或光偶极子导向件被供应到后级的装置。

公开(公告)号：CN118633214A

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202380019819.X

申请日：2023-01-10

Applicant: 国立研究开发法人理化学研究所 ,  日本电子株式会社

Inventor： 香取秀俊 ,  杨晓达 ,  高本将男 ,  辻成悟

IPC: H01S1/06 ,  G04F5/14

Abstract: 在磁光阱装置中，5束激光照射到原子被捕获的捕获空间。5束激光中的3束激光(激光a1、a2、a3)经过同一平面(Z平面)内照射到捕获空间。与该平面交叉的2束激光(激光a4、a5)照射到捕获空间。激光a1兼用作塞曼减速用的激光b。

公开(公告)号：CN118575376A

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202280089595.5

申请日：2022-11-08

Applicant: 国立研究开发法人理化学研究所 ,  日本电子株式会社

Inventor： 香取秀俊 ,  高本将男 ,  辻成悟

IPC: H01S1/06 ,  G04F5/14

Abstract: 一种原子束生成装置(100)，包含：原子炉(102)，其包含收纳试样(114)的试样室(106)；减速部(104)；以及线圈部(110、124)。减速部(104)具有供原子气体和激光(128)通过的膛孔(122)，利用光和磁场使从原子炉(102)出射的原子气体减速。线圈部(110、124)向原子炉(102)供应焦耳热，并且在减速部(104)产生磁场。

公开(公告)号：CN111524777B

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202010077520.8

申请日：2020-01-30

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 根本佳和 ,  村上雄大 ,  前多崇邦 ,  阿部圣 ,  川本将嗣 ,  目崎洋贵

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  G01B15/04 ,  G01N23/2204

Abstract: 一种带电粒子束系统和使用扫描电子显微镜的试样测定方法，基于对试样(30)的三维形状计测的结果，生成表示包含试样(30)的试样单元(26)的三维形状的第1形状数据。另一方面，生成表示存在于试样室(18)内的结构物的三维形状的第2形状数据。基于第1形状数据和第2形状数据来控制试样单元(26)的移动，以使试样单元(26)不与结构物发生碰撞。

公开(公告)号：CN118263075A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311793584.8

申请日：2023-12-25

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 根岸勉 ,  小冢心寻

IPC: H01J37/305

Abstract: 提供能够容易地制造遮蔽板的遮蔽板制造装置。遮蔽板制造装置(100)是用于制造以遮蔽板将试样的一部分遮蔽并对试样照射带电粒子束来加工试样的试样加工装置的遮蔽板的遮蔽板制造装置，包含：基板保持轴件(10)，其可旋转地保持基板(2)，将带(4)卷取到基板(2)；以及张力赋予机构(50)，其对被卷取到基板(2)的带(4)赋予张力。

公开(公告)号：CN117690771A

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202311155367.6

申请日：2023-09-08

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 西藤哲史 ,  川合修司

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/21 ,  H01J37/28

Abstract: 提供一种能够容易地检测菊池带的电子显微镜。本发明的电子显微镜包含：照射光学系统，其对试样照射电子束；试样载台，其支撑试样；成像光学系统，其使透射过试样的电子成像；摄像装置，其对由成像光学系统形成的像进行拍摄；以及控制部，其控制试样相对于电子束的入射方向的倾斜度，照射光学系统包含将对试样照射的电子束的一部分切断的光阑，控制部取得包含出现在光阑的阴影的区域中的菊池带的图像，在图像的光阑的阴影的区域中检测菊池带，基于检测出的菊池带来控制试样相对于电子束的入射方向的倾斜度。

公开(公告)号：CN113049623B

公开(公告)日：2023-12-12

申请号：CN202011446267.5

申请日：2020-12-09

Applicant: 日本电子株式会社 ,  国立研究开发法人理化学研究所

Inventor： 西山裕介

IPC: G01N24/08

Abstract: 一种核磁共振测定方法和核磁共振测定装置，通过操作特殊性地存在于有效成分的晶体晶体(32)内存在于特定原子(43)附近的附近氢原子(44)产生规定磁化(调制后的磁化)。在晶体(32)内使附近氢原子(44)的规定磁化向存在于其周围的周围氢原子(46)扩散。扩散到晶体(32)内的磁化被直接或间接地观测。(32)内的特定原子(14N)(43)的核自旋，从而在

公开(公告)号：CN117203365A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202280030877.8

申请日：2022-05-17

Applicant: 大学共同利用机关法人高能量加速器研究机构 ,  日本电子株式会社

Inventor： 谷本育律 ,  冈野诚

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明的目的在于提供一种非蒸散型吸气剂涂覆装置，能够通过安装在各种形状和标准的真空容器、真空管道使用而在其内表面实施非蒸散型吸气剂涂覆。一种非蒸散型吸气剂涂覆装置，其特征在于，包括：溅射靶，其具有内部空间；永磁体柱，其通过将设置在溅射靶的内部空间的范围内的多个永磁体以磁场的朝向相互不同的方式串联配置而形成；以及法兰，其固定有溅射靶和永磁体柱，永磁体的长度LM相对于永磁体的外径EDM的比例(LM/EDM)为1.0～4.0，永磁体的外径EDM相对于溅射靶的外径EDN的比例(EDM/EDN)为0.3～0.8；一种非蒸散型吸气剂涂覆容器和/或非蒸散型吸气剂涂覆管道的制造方法；一种非蒸散型吸气剂涂覆容器和/或非蒸散型吸气剂涂覆管道。

公开(公告)号：CN116895501A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310304244.8

申请日：2023-03-27

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 神野恭一 ,  福田知久 ,  有马则和 ,  冈野康之 ,  山本圭一

IPC: H01J37/067 ,  H01J37/063 ,  H01J37/065

Abstract: 提供一种能容易地更换发射器的带电粒子束源。本发明的带电粒子束源包含：电子枪腔体(10)；第1单元，其包含对电缆进行支撑的绝缘构件、以及电连接于电缆的第1端子；以及第2单元，其包含发射带电粒子的发射器、以及电连接于发射器的第2端子，第1单元固定于设置在腔体的侧壁的贯通孔，第2单元相对于第1单元是能装卸的，在腔体内，通过使发射器配置在光轴上，从而第1端子与第2端子接触。