一种电子束快速成型制造设备聚焦系统

    公开(公告)号:CN204167255U

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201420440656.0

    申请日:2014-08-06

    Abstract: 本实用新型涉及一种电子束快速成型制造设备聚焦系统包括聚焦装置、主聚焦电源、副聚焦电源、计算机控制单元;电子束快速成型制造设备采用短磁透镜聚焦,所述聚焦装置为圆柱形结构,安装于电子枪电子束出口的次近部位,所述主聚焦电源,其与主聚焦绕组连接;所述副聚焦电源,其与副聚焦绕组连接;所述计算机控制单元分别与主聚焦电源和副聚焦电源连接。相对现有技术,本实用新型具有降低磁场的动态损耗,引入动态补偿功能抑制全磁路动态附加损耗对聚焦精度的影响等优点。

    带有电磁合轴装置的电子枪

    公开(公告)号:CN203481175U

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201320613291.2

    申请日:2013-09-30

    Abstract: 本实用新型公开一种带有电磁合轴装置的电子枪,阴极产生的电子束依次经过聚束极、阳极、聚焦装置和偏转扫描装置后汇聚到工件上;在电子束飞行路径上的阳极与聚焦装置之间设置有电磁合轴装置;该电磁合轴装置的聚焦绕组与供电电源相连,通电后聚焦绕组产生平行于电子束飞行参考方向的磁场;偏转绕组包括X、Y两组绕组,X、Y两组绕组各与一独立的供电电源相连,通电后X、Y两组绕组产生垂直于电子束飞行参考方向的磁场。依靠分别调节X、Y两组偏转绕组电流的大小,就可以方便灵活地调节偏转磁场在垂直于电子束飞行参考方向平面上的矢量。本实用新型能够让从阳极飞出的电子束汇聚在聚焦装置入口的中心,从而提高电子束的品质。

    电子枪电子束流控制系统
    64.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203103262U

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201320068488.2

    申请日:2013-02-06

    Abstract: 本实用新型公开一种电子枪电子束流控制系统,其增设的自稳流装置由电阻或电感等无源元件构成,自稳流装置(6)串接在电子束流回路中,其中一端接至栅偏电源单元(3)的正输出极上,另一端接至间热式电子枪的轰击电源的正输出极上或直热式电子枪的灯丝电源的任一输出极上。本实用新型利用电子束流通过自稳定装置产生与电子束流相关的一定电压Ue,把此电压直接叠加到栅偏电压上,形成一个局部无延时负反馈,达到稳流目的。

    一种多相绕组的偏转扫描装置

    公开(公告)号:CN207676667U

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201820038588.3

    申请日:2018-01-10

    Abstract: 本实用新型涉及一种多相绕组的偏转扫描装置,该偏转扫描装置呈轴对称的喇叭状或圆柱状结构,其包括:铁磁框架和偏转扫描绕组;在铁磁框架内侧开有纵向延伸并沿圆周等分分布的2aw个线槽,由铁磁框架内壁围城的空腔构成偏转扫描装置的带电粒子束通道;所述偏转扫描绕组包括:w相绕组;每相绕组均对应地连接一相驱动电源单元。本实用新型的偏转扫描装置中,w相绕组的轴线在偏转扫描装置的横截面上呈对称分布,降低了带电粒子束通道内磁感应强度的不均匀度,进而减少偏转扫描装置对带电粒子束的附加散焦作用。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    电子束焊机焊缝示教寻迹系统

    公开(公告)号:CN206200334U

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201621289935.7

    申请日:2016-11-29

    Abstract: 本实用新型公开一种电子束焊机焊缝示教寻迹系统,由中央控制单元、电子束发生器电源、聚焦电源、偏扫电源、变送器、电子枪、真空工作室、二次电子收集器、工作台和工作台驱动电源组成。通过移动工作台或偏扫电源,使得电子束斑点移动轨迹与焊缝轨迹交叉,当电子束斑点落在焊缝上时,二次电子信号值Ie明显突然变小。检测二次电子信号值Ie明显突然变小区域所对应的位置坐标中点,即视为焊缝截面中线位置。根据上述原理定位特征点坐标。本实用新型可以以便快速、精确地对焊缝进行示教寻迹,以避免人为经验定位焊缝的方法所存在的精度不高的问题。

    电子束快速成型设备特征点数据采集装置

    公开(公告)号:CN204771118U

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201520512100.2

    申请日:2015-07-15

    Abstract: 本实用新型公开一种电子束快速成型设备特征点数据采集装置,包括置于真空工作室内的测试板;置于真空工作室外的对中信号变送器和对中信号指示器;以及置于真空工作室内的二次反射电子收集装置及其二次反射电子流检测电阻和/或穿越电子收集装置及其穿越电子流检测电阻。利用二次反射电子流最小和/或利用穿越电子束流最大来判断电子束斑的精确位置及聚焦,从而实现电子束快速成型设备特征点数据采集与建立。本实用新型能够快速地、精确地建立特征点偏移和聚焦电流数据。

    电子束加工设备的磁聚焦装置

    公开(公告)号:CN203103261U

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201320013787.6

    申请日:2013-01-11

    Abstract: 本实用新型公开一种电子束加工设备的磁聚焦装置,主要由励磁绕组和供电电源组成;励磁绕组包括主励磁绕组和辅助励磁绕组,且主励磁绕组的匝数多于辅助励磁绕组的匝数;主励磁绕组和辅助励磁绕组产生的磁场在电子束通道中的方向都与电子束飞行方向平行;供电电源包括主供电电源和辅助供电电源;主供电电源为采用比例-积分调节的可调直流电源,且与主励磁绕组相连;辅助供电电源为采用比例反馈调节的可调直流电源或交变电源,且与辅助励磁绕组相连。本实用新型能够消除磁滞线的影响,使得磁聚焦装置的励磁电流与其产生的磁感应强度存在单值对应关系;同时能够实现快速调整电子束焦距的功能。

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