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公开(公告)号：CN102407483A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201110358534.8
申请日：2011-11-14
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 一种半导体晶圆高效纳米精度减薄方法，属于半导体晶圆超精密加工技术领域，特别涉及半导体晶圆的纳米精度减薄加工方法。其特征是采用平均直径小于1μm的金刚石作为磨料，采用多种陶瓷原料作为结合剂的一种高效纳米精度减薄方法。磨削液为去离子水，材料在粗减薄的去除率为9-30μm/min，精减薄的去除率为3-8μm/min。减薄时主轴转速为1800-5000r/min，工件转速为60-300r/min。适合的半导体的硬度值在25GPa以下，直径为18英寸以下的大直径半导体晶圆。本发明的效果和益处是实现了半导体晶圆的高效纳米精度减薄的加工效果。
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公开(公告)号：CN101870091A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010205274.6
申请日：2010-06-17
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 一种陶瓷结合剂超细金刚石砂轮制备方法，属于硬脆及软脆光电晶体超精密加工技术领域，特别涉及光电半导体硬脆与软脆光电晶体的超细金刚石砂轮的制备方法。其特征是采用#10000-#300000中的一个固定值作为超细金刚石磨料，以三种或者四种超细非氧化陶瓷作为结合剂，以钾、钙、纳、镁的氯化盐类或者硝酸盐类中的一种或者两种做分散剂和细化剂，以糊精、碳酸盐类、碳酸氢盐类中的一种或者两种做发泡剂。用冷压成形的方法压制成形，在室温下均匀升温到480-530度，保温30-60分钟，然后均匀升温到580-610度，保温40-60分钟，最后均匀升温到640-680度，保温100-150分钟，自然冷却到室温，即可烧结成形。本发明的效果和益处是实现了高效超光滑低损伤磨削，获得了高效超精密磨削加工效果。
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公开(公告)号：CN115709439B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202211371818.5
申请日：2022-11-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种增材制造槽道热管内壁的纳米多相射流复合抛光装置及方法。装置包括空气压缩机装置、微电脑射流控制装置、多相射流喷头装置、增材制造热管装置和抛光液配比装置，空气压缩机装置用于为整个抛光装置提供高压气源，并将高压气体输送到多相射流喷头装置中；抛光液配比装置用于产生液固抛光液，并将抛光液输送到多相射流喷头装置中；多相射流喷头装置用于实现液固抛光液与高压气体的充分混合雾化，并将形成的气液固多相射流喷射到增材制造热管装置中；微电脑射流控制装置用于对高压气体和抛光液的流量进行调节。本发明可实现大长径比管道内壁的抛光一致性。
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公开(公告)号：CN118699891A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202411194791.6
申请日：2024-08-29
Abstract: 本发明公开了一种微纳气泡辅助多能场耦合复杂曲面化学机械抛光装备，包括床身、主轴系统、滚桶系统及数控系统；主轴系统包括用于夹持待抛光工件的夹具和用于调整夹具空间位姿的主轴，滚桶系统的滚桶内加入抛光液；还包括微纳气泡系统和超声系统；微纳气泡系统用于向滚桶内通入微纳气泡；超声系统用于使滚桶系统的滚桶进行超声振动；数控系统连接并控制主轴系统、滚桶系统、微纳气泡系统及超声系统。本发明通过设置微纳气泡系统和超声系统，利用微纳气泡增大抛光液中磨粒与待抛光工件的作用面积，并利用微纳气泡系统和超声系统提高抛光液中磨粒的机械效能和化学效能，促进抛光过程中机械去除与化学腐蚀的协同作用，实现提高抛光效率。
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公开(公告)号：CN117844379A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410006551.2
申请日：2024-01-02
Abstract: 本发明提供一种单晶硅亚埃级表面抛光用的绿色环保抛光液及应用。本发明包括磨粒、还原剂、分散剂、增稠剂、pH调节剂和去离子水，其中，磨粒为氧化铈和氧化硅中的任一种或相互任意组合；还原剂为碳酸亚铁、过氧化氢、氧化铁和氢气中的至少一种；分散剂为焦磷酸钠、六偏磷酸钠、山梨醇和聚乙二醇中的至少一种；增稠剂为羧甲基纤维素钠、果胶、黄原胶、瓜尔胶、刺槐豆胶和卡拉胶中的至少一种；pH调节剂为食用碱、小苏打和三乙醇胺中至少的一种，通过，pH调节剂将抛光液的pH调至8‑11。上述成分的抛光液，加工过程中通过柔和的化学腐蚀与机械划擦耦合作用，对单晶硅表面进行超光滑超低损伤抛光，抛光后，单晶硅可获得比纳米级更优异的亚埃级表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117381069A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311595507.1
申请日：2023-11-27
Abstract: 本发明涉及一种基于纳克能的齿轮表面超精密加工装置及方法。本发明包括工作平台、运动模块和加工模块，所述运动模块的底部和加工模块的底部均安装在工作平台上，所述运动模块用于调整加工模块的高度，所述加工模块包括超声刀柄机构、模具、装夹机构和位置调整机构，待加工的工件与超声刀柄机构安装后能够放置在模具中，所述模具安装在装夹机构上，所述装夹机构设置在位置调整机构上，所述模具根据待加工零件的外形随形设计，所述模具中设置有纳米级的磁流变液，所述装夹机构为电磁铁，还包括有用于调节磁场的大小及方向，进而控制磁流变液中磁性颗粒的运动的变频器。本发明极大的提高了零件的超精密加工效率，提高了零件的表面质量。
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公开(公告)号：CN117103105A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202310963066.X
申请日：2023-08-01
Abstract: 本发明提供一种用于大批量加工微小型轴承挡片的化学机械抛光设备及方法，包括夹具体以及与夹具配套使用的工作台体，夹具体中设有中空腔室，所述夹具体具有若干圆周均匀分布的小孔，且小孔中还具有连接中空腔室的抽真空通道，通过对中空腔室抽真空的方式完成夹具体的小孔对待抛光轴承挡片的装夹，所述夹具体外轮廓为轮齿结构，所述工作台体为具有内齿轮结构的抛光台，传动装置与抛光台相连。本发明解决了微小轴承挡片抛光时难以夹持的问题，夹具体可一次性装夹300～400甚至更多微小型轴承挡片，满足了该型轴承挡片大批量加工的生产需求，两夹具体交接过程简单准确，大大缩短工件装夹时间，有效提高加工效率。
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公开(公告)号：CN115256208B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202210952742.9
申请日：2022-08-09
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺，装置包括：容器，用于进行抛光反应，内部具有的容纳腔室中盛有抛光液，抛光液中混合有磁针；网笼，设有多个，内部用于放置至少一个钴铬钼合金义齿，网笼和钴铬钼合金义齿均浸入在抛光液中，网笼的顶部通过连接杆与容器连接；第一装置，具有产生旋转磁场的功能，用于实现磁针的转动，旋转的磁针搅动抛光液，实现钴铬钼合金义齿的抛光；冷却装置，置于容器的外部，用于减缓抛光过程中抛光液的升温速度。本发明可运用到复杂曲面的零件抛光中，克服了传统应力去除材料的缺点；能实现钴铬钼合金义齿的大批量精密抛光，能同时抛光同种曲面类型的零件，也能同时抛光不同曲面类型的零件。
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公开(公告)号：CN116442107A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310367017.X
申请日：2023-04-07
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种磁力超声辅助多工位剪切增稠抛光装置、抛光液及抛光方法。本发明包括机箱、龙门导轨模块、夹持模块、抛光模块和磁力模块，龙门导轨模块固定在工作台上，导轨可沿着龙门架进行升降运动，夹持模块用于夹持待抛光工件，夹持模块根据不同工件的曲面特性进行更换，实现多种、多个工件的同时抛光，夹持模块与龙门导轨模块的导轨相连，使得其可随导轨一起做升降运动，抛光模块用于放置抛光液，实现对工件的抛光，磁力模块放置有强力磁铁，磁力模块套接于抛光模块外部，强力磁铁设置于与夹持机构位置相对应的位置，其用于引导抛光液中的金属粉末包围在工件周围。本发明可实现对复杂曲面工件高效、高质量、高均匀度、无污染、低成本的抛光。
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公开(公告)号：CN116397133A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310564017.9
申请日：2023-05-18
Applicant: 大连理工大学
IPC: C22C14/00 , C22C32/00 , B22F10/28 , C22C1/05 , C22C1/059 , B33Y10/00 , B33Y70/10 , B33Y80/00 , B33Y40/10 , B22F9/04
Abstract: 本发明提供一种基于SLM成形的瓷粉增强钛基合金复合材料及其制备方法，瓷粉增强钛基复合材料由增强相纳米瓷粉和基体复合后经SLM成形获得，所述增强相为纳米瓷粉颗粒，所述基体为钛合金粉末，所述钛合金粉末为TC4合金粉末，成型后为α+β双相钛合金。制备包括高能球磨制备复合粉末阶段与SLM成形制备瓷粉增强钛合金复合材料阶段。与现有技术相比，本发明可有效解决钛合金压缩及摩擦磨损性能差的问题，获得的产品在不改变钛基合金其他力学性能的条件下，有效增强了钛合金材料的压缩性能和摩擦磨损性能。
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