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公开(公告)号：CN103522190A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201310532718.0
申请日：2013-10-31
IPC: B24B53/06
CPC classification number: B24B53/06
Abstract: 一种圆弧金刚石砂轮电火花与机械复合修整装置，它涉及一种金刚石砂轮修整装置，以解决现有的圆弧金刚石砂轮用修整设备功能单一，修整效率较低以及修整成本较高的问题，它包括第一电机、第一蜗轮蜗杆减速机、第二电机、第二蜗轮蜗杆减速机、机座、支座、丝杠、固定架、砂轮轴、第三电机、绝缘垫木、带轮、传动带、第一旋拧件、第二旋拧件、弹簧、碳刷、高频脉冲电源和修整轮；第一蜗轮蜗杆减速机安装在机座上，支座的上端安装有第二蜗轮蜗杆减速机，第一旋拧件穿设在第二旋拧件内且第一旋拧件能沿第二旋拧件的轴向往复运动，第一旋拧件与弹簧的一端连接，碳刷与弹簧的另一端连接。本发明用于圆弧金刚石砂轮的修整。
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公开(公告)号：CN103344425A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201310268146.X
申请日：2013-06-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01M13/00
Abstract: 基准平面式超精密直驱式静压主轴动态性能在线测试方法，涉及静压主轴性能测试领域。本发明是为解决现有方法不能实现超精密静压主轴动态性能在线测试的问题。本发明方法如下：在直驱式超精密静压主轴转子的上端部安装高精度标准平面作为测量基准，采用高精度位移传感器测量主轴旋转时标准平面与高精度位移传感器之间的位移变化，通过传感器信号放大与数据采集系统将测得的位移变化量转换成数字信号后送入计算机进行数据分析与处理，从而实现超精密直驱式主轴动态性能的在线测量。本发明可以实现对处于实际加工状态下的超精密静压主轴的动态性能进行实时在线测量，不影响超精密机床的加工过程。
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公开(公告)号：CN102554787A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210013695.8
申请日：2012-01-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B53/075 , B24B41/06
CPC classification number: Y02P70/177
Abstract: 抛光砖用金刚石磨块修整装置，它涉及一种金刚石磨块修整装置。本发明为解决现有的金刚石磨块修整方法存在修整效率低、修整后的磨块直线度差的问题。第一丝杠导轨工作台的导轨与第二丝杠导轨工作台的导轨呈T字形设置，所述第一大皮带轮固套在第一传动轴的一端上，所述第一传动轴的一端上固装有第一电极，所述第一小皮带轮通过第一同步带与第一大皮带轮传动连接，所述第一磨块夹具固套在第一传动轴的中部；所述第二传动轴的一端上固装有第二电极，所述第二小皮带轮通过第二同步带与第二大皮带轮传动连接，所述第二磨块夹具固套在第二传动轴的中部；第一磨块夹具和第二磨块夹具上沿圆周方向均布加工有多个凹槽。本发明用于修整金刚石磨块。
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公开(公告)号：CN102241084A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201110108993.0
申请日：2011-04-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 双刀盘卧式超精密液体静压电主轴系统，它涉及一种液体静压电主轴系统。本发明为解决现有的KDP超精密加工机床的主轴系统的刚度低、加工效率低的问题。第一轴系支架位于壳体内腔的一端，第一轴系支架通过第一固定挡板与壳体固接，第二轴系支架位于壳体内腔的另一端，直流双输出轴电机的第一输出轴通过第一止推板与第一主轴的一端固接，第一主轴的另一端与第一刀盘固接，第一轴套套装在第一主轴上，第一轴套固装在第一轴系支架上；直流双输出轴电机的第二输出轴通过第二止推板与第二主轴的一端固接，第二主轴的另一端与第二刀盘固接，第二轴套套装在第二主轴上，第二轴套固装在第二轴系支架上。本发明的主轴系统用于加工KDP晶体光学零件。
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公开(公告)号：CN101670556B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200910308691.0
申请日：2009-10-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 胶体液流动压空化射流抛光装置及方法，它涉及一种抛光装置及方法。本发明为解决现有超光滑表面抛光方法加工效率低、成本高、工件材料适应性受限以及现有的超光滑表面抛光装置存在设备复杂、维护成本高的问题。装置：空化射流器固定在支架上，空化射流器的输入端通过管路与第一液流换向阀的出口连接。方法：一、胶体抛光液面淹没被抛光工件10～200mm；二、空化射流器的油压为0.5～15MPa；三、空化射流压力为0.5～15MPa；四、空化射流器的喷口设置在胶体抛光液中，空化射流器以15～250m/s的速度喷向工件，抛光后取出工件即为抛光工件。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101474831B
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200910071321.X
申请日：2009-01-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 可调节式金刚石刀具的刀夹装置，它涉及一种刀夹装置。本发明解决了现有的金刚石刀具的刀夹装置存在加工时无法对刀具角度进行调整、需要经常更换不同的刀具、增加了成本、工作效率低的问题。所述转位导向套的外沿上对称开有两个弧形通孔，所述转位导向套通过导向键安装在微调丝杠轴的上端，所述丝杠内套套装在微调丝杠轴的中部且丝杠内套与微调丝杠轴螺纹连接，所述微调手轮固装在丝杠内套上，所述两个螺钉依次穿过端盖、转位导向套上的弧形通孔与圆筒连接，所述摆动支撑轴设置在微调丝杠轴与刀夹座之间，所述微调丝杠轴与刀夹座通过四个转位调整螺钉连接。本发明具有结构紧凑、调节方便、调整精度高，适用于各种精密及超精密的加工机床。
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公开(公告)号：CN101670556A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910308691.0
申请日：2009-10-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 胶体液流动压空化射流抛光装置及方法，它涉及一种抛光装置及方法。本发明为解决现有超光滑表面抛光方法加工效率低、成本高、工件材料适应性受限以及现有的超光滑表面抛光装置存在设备复杂、维护成本高的问题。装置：空化射流器固定在支架上，空化射流器的输入端通过管路与第一液流换向阀的出口连接。方法：一、胶体抛光液面淹没被抛光工件10～200mm；二、空化射流器的油压为0.5～15MPa；三、空化射流压力为0.5～15MPa；四、空化射流器的喷口设置在胶体抛光液中，空化射流器以15～250m/s的速度喷向工件，抛光后取出工件即为抛光工件。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。
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公开(公告)号：CN101310922A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200810064046.4
申请日：2008-02-29
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 磷酸二氢钾晶体潮解抛光方法，它涉及晶体的抛光方法。它解决了现有超精密加工方法加工KDP晶体时晶体表面会产生小尺度波纹和粒子嵌入、晶体表面难以清洗以及加工效率低、成本高的问题。本发明方法为：一、采用KDP晶体抛光装置；二、采用现有切削技术对KDP晶体(4)坯料的待抛光面进行预处理；三、对载样盘(5)纵向施加一定压力；四、使潮解抛光液或水蒸气潮解经步骤二预处理后的KDP晶体表面；五、启动载样盘(5)的控制开关和抛光盘(3)的控制开关，对经步骤二预处理后的KDP晶体的表面进行潮解抛光。本发明的方法新颖、独特、简单、加工效率高、成本低，加工的KDP晶体表面无小尺度波纹，无粒子嵌入，容易清洗，表面粗糙度达到1～8nm。
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公开(公告)号：CN114034539B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202111332959.1
申请日：2021-11-11
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明涉及硬脆材料加工，更具体的说是用于硬脆材料高应变率变形和损伤分析的冲击刻划装置，包括冲击刻划机构，所述冲击刻划机构包括冲击刻划轴移动台，以及转动连接在冲击刻划轴移动台内的冲击刻划主轴，以及通过冲击刻划主轴驱动实现转动的电机连接轴，以及固接在电机连接轴上的刻划支撑平台，以及固接在刻划支撑平台上的冲击刻划刀具安装底座，以及安装在安装底座上的金刚石冲击刻划刀具。还包括刻划基座、工件装夹机构、第一移动平台和第二移动平台；冲击刻划机构通过第一移动平台驱动在刻划基座上实现左右移动，工件装夹机构通过第二移动平台驱动在刻划基座上实现前后移动。可以实现不同形状尺寸的硬脆材料快速装夹定位，输入刻划深度、刻划速度和刻划位置，进行不同参数多组冲击刻划实验。
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公开(公告)号：CN115266440A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210922873.2
申请日：2022-08-02
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01N3/42 , G01N3/46 , G01N3/30 , G01N3/02 , G01N3/04 , B24B7/10 , B24B41/06 , B24B55/02 , B24B49/00
Abstract: 本发明属于机械测试领域，更具体的说是一种自旋转磨削与单颗磨粒冲击刻划一体化实验装置。包括工件装夹装置、砂轮‑压头一体化装置、冷却液收集装置和底座，所述底座上设置有冷却液收集装置，砂轮‑压头一体化装置和工件装夹装置分别设置在冷却液收集装置的两侧。还包括冲击刻划压头移动滑轨和冲击刻划压头移动台，底座的前部设置有冲击刻划压头移动台，冲击刻划压头移动台，冲击刻划压头移动台上设置有冲击刻划压头移动滑轨，砂轮‑压头一体化装置滑动连接在冲击刻划压头移动滑轨上。可以将冲击刻划实验的多道工序集成到同一台装置上实现，能同时进行低应变率和高应变率冲击刻划实验。
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