检查制造光掩模基坯或其中间物、确定高能辐射量的方法

    公开(公告)号:CN101852984B

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201010158168.7

    申请日:2010-03-31

    CPC classification number: G03F1/84 G03F7/70783

    Abstract: 本发明涉及一种检查制造光掩模基坯或其中间物、确定高能辐射量的方法。通过以下方法检查光掩模基坯,该光掩模基坯是通过在基板上沉积相移膜并且利用高能量辐射来照射相移膜以实施基板形状调节处理而制造的,该方法是:在基板形状调节处理之后测量光掩模基坯的表面形貌,从光掩模基坯移除相移膜,在移除相移膜之后测量经处理的基板的表面形貌,以及比较表面形貌,由此估计由于已经历基板形状调节处理的相移膜的应力而引起的、在移除相移膜之前和之后的翘曲改变。

    相位偏移光掩模坯料、相位偏移光掩模及其制造方法

    公开(公告)号:CN100593755C

    公开(公告)日:2010-03-10

    申请号:CN200610076905.2

    申请日:2006-04-25

    CPC classification number: G03F1/32 Y10T428/31616

    Abstract: 在对曝光光线透明的基板(1)上设置层合2层由金属硅化物的化合物(2a、2b)组成的层的相位偏移多层膜(2)。而且,在表面侧的金属硅化物的化合物(2b)表面上形成氧化稳定化层(2c)。相位偏移多层膜(2)中基板侧(下面)的层(2a)是金属组成相对高的金属硅化物的化合物,上面的层(2b)是金属组成相对低的金属硅化物的化合物。氧化稳定化层(2c)的金属含量为下面的层(2a)的金属含量的1/3或1/3以下(摩尔比),为低金属组成,化学稳定性优异,显示高耐药品性。下面的层(2a)由具有较高金属含量的金属硅化物的化合物膜构成,因此,容易控制相位偏移多层膜的光学特性,能得到所希望的光学特性。

    二次电池、负极、活性物质、及活性物质颗粒的制造方法

    公开(公告)号:CN107636868B

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN201680032039.9

    申请日:2016-04-21

    Abstract: 本发明是一种非水电解质二次电池用负极活性物质,其具有负极活性物质颗粒,且所述负极活性物质颗粒具有包含锂化合物的硅化合物SiOx,其中,0.5≤x≤1.6,所述非水电解质二次电池用负极活性物质的特征在于,在硅化合物的至少一部分上形成有碳被膜,所述负极活性物质颗粒在硅化合物或是碳被膜的至少一部分表面、或在这双方的至少一部分表面,包含由具有硼‑氟键的化合物和具有磷‑氟键的化合物中的至少一种所构成的被膜,并且,相对于所述负极活性物质颗粒的总量,所述负极活性物质颗粒包含10质量ppm~10000质量ppm的范围内的硼元素或磷元素。由此,本发明提供一种非水电解质二次电池用负极活性物质,其能够使电池容量增加,且能够使循环特性、电池初始效率提高。

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