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公开(公告)号：CN103088287B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201210415298.3
申请日：2012-10-26
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J37/3452
Abstract: 本发明涉及一种成膜装置和成膜方法。本发明的成膜装置具有两台溅射蒸发源，该溅射蒸发源包括：非平衡磁场形成单元，该非平衡磁场形成单元由配备在内侧的内极磁铁和配备在该内极磁铁的外侧且磁力线密度比内极磁铁大的外极磁铁形成；以及靶，配备在非平衡磁场形成单元的前方，进而，所述成膜装置还具有交流电源，该交流电源通过在两台溅射蒸发源的各靶之间流过极性以10kHz以上的频率切换的交流电流，从而在两靶之间引起放电而进行成膜。
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公开(公告)号：CN104937130A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201380071800.6
申请日：2013-12-26
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 山本兼司
CPC classification number: B21D37/01 , B21D22/208 , B21D28/00 , B41J2/11 , C09D1/00 , C23C14/0036 , C23C14/028 , C23C14/0676 , C23C14/08 , C23C14/325 , C23C14/3414 , C23C14/35
Abstract: 提供一种硬质皮膜，是相对于软金属不易粘附的硬质皮膜，适合于与该软金属接触的例如模具表面的覆盖。该硬质皮膜的特征在于，由金属元素和非金属元素构成，所述金属元素包含从由Ti、Al及Cr构成的组中选择的两种以上的元素，所述非金属元素仅由O（氧）构成，或者由C、N中的一种以上和O构成，上述O在全部非金属元素中所占的比例是原子比0.2以上。
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公开(公告)号：CN104854255A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201380066875.5
申请日：2013-12-17
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 山本兼司
CPC classification number: C04B35/581 , B21D22/022 , B21D37/01 , C04B35/58007 , C04B35/58014 , C23C14/0641 , Y10T428/24355
Abstract: 提供硬质覆膜，其是难以附着于软金属的硬质覆膜，其适合于覆盖与该软金属接触的例如热压用模具表面。该硬质覆膜具有如下特征：表面的算术平均粗糙度（Ra）为0.05μm以下，且利用扫描型电子显微镜对至少5个45×65μm的视野以2000倍进行观察时，当量圆直径为1μm以上的针孔数量平均为5个以下。
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公开(公告)号：CN104674163A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201410842104.7
申请日：2010-12-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 山本兼司 , 哲曼·福克斯-莱比诺比齐
CPC classification number: C23C30/005 , B23B2228/10 , C22C29/04 , C22C29/16
Abstract: 本发明提供一种耐磨损性优异的硬质皮膜被覆部件及使用该部件的冶金工具，以及用于形成硬质皮膜的靶。所述硬质皮膜被覆部件(1)，其在基材(2)上具备硬质皮膜(3)，其特征为，硬质皮膜(3)的组成由(TiaCrbAlcSidYeRf)(CyNz)构成，且所述R为选自Ho、Sm、Dy、La的一种以上的元素，在所述a、b、c、d、e、f、y、z为原子比时，满足0.05≤a≤0.3、0.05≤b≤0.3、0.4≤c≤0.65、0≤d≤0.05、0≤e≤0.05、0.005≤f≤0.05、a+b+c+d+e+f＝1、0≤y≤0.3、0.7≤z≤1、y+z＝1。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102527899B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201110375527.9
申请日：2011-11-23
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 山本兼司
CPC classification number: B21J3/00 , B21J13/02 , B21K5/20 , Y10T428/265
Abstract: 提供一种通过控制表面性状而使耐热粘性优异的塑性加工用模具及其制造方法、以及铝材的锻造方法。这种塑性加工用模具其特征在于，通过以下工序进行制造，即基材表面粗糙化工序，采用喷丸法使基材表面粗糙化，将算术平均粗糙度Ra调整为超过1μm且2μm以下；基材研磨工序，对该表面进行研磨，保持Ra为0.3μm以上且调整偏度Rsk为0以下；成膜工序，在该基材表面形成硬质覆膜，硬质覆膜的表面的算术平均粗糙度Ra为0.3μm以上且2μm以下，偏度Rsk为0以下。通过调整为不偏向凹部的凹凸形状，由此抑制蓄留润滑剂的凹部的容积，在凸部表面也能够附着足够的润滑剂。
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公开(公告)号：CN103392026A
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201280009978.3
申请日：2012-02-23
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/32669 , H01J37/34 , H01J37/3402 , H01J37/345 , H01J37/3452
Abstract: 本发明的一实施方式的电弧式蒸发源（101）具备如下：使磁化方向沿着与靶（102）的前面平行的方向而以包围靶的外周的方式配置的环状的外周磁体（103）；使磁化方向沿着与靶（102）的前面正交的方向而配置在靶的背面侧的背面磁体（104）。外周磁体（103）的径向内侧的磁极和背面磁体（104）的靶（102）侧的磁极是彼此相同的极性。
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公开(公告)号：CN102348828B
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201080011271.7
申请日：2010-04-14
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/325 , C23C14/54 , H01J37/32055 , H01J37/32669 , H01J37/34 , H01J37/345
Abstract: 在电弧式蒸发源中，将磁力线诱导到基板方向而加快成膜速度。其中，具有以包围靶(2)的外周的方式设置，且磁化方向沿着与靶(2)的表面正交的方向而配置的至少一个外周磁体(3)，和配置在靶(2)的背面侧的背面磁体(4)。背面磁体(4)具有非环状的第一永久磁体(4A)，其配置方式为，使其极性与外周磁体3的极性朝向同方向，并且沿着与背面磁体(4)的磁化方向与靶(2)的表面正交的方向而配置。
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公开(公告)号：CN103168113A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201180050474.1
申请日：2011-10-20
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C28/044 , C23C14/0641 , C23C28/42 , C23C28/44 , C23C30/005
Abstract: 本发明提供一种第1硬质皮膜形成部件，在基材上交替层叠A层和B层，A层满足组成为TiaCrbAlcSidYe(BuCvNw)(其中，a、b、c、d、e、u、v、w为特定量的原子比)，B层满足组成为TifCrgAlh(BxCyNz)(其中，f、g、h、x、y、z为特定量的原子比)，在设A层和B层的1组的层叠构造为1单位时，该1单位的厚度为10～50nm，且硬质皮膜的膜厚为1～5μm。另外，本发明还提供一种第2硬质皮膜形成部件，其隔着厚度为0.5μm以下的中间层或不隔着中间层而在所述B层上面层叠所述A层，A层的厚度为0.5～5.0μm，B层的厚度为0.05～3.0μm。
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公开(公告)号：CN103088287A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210415298.3
申请日：2012-10-26
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J37/3452
Abstract: 本发明涉及一种成膜装置和成膜方法。本发明的成膜装置具有两台溅射蒸发源，该溅射蒸发源包括：非平衡磁场形成单元，该非平衡磁场形成单元由配备在内侧的内极磁铁和配备在该内极磁铁的外侧且磁力线密度比内极磁铁大的外极磁铁形成；以及靶，配备在非平衡磁场形成单元的前方，进而，所述成膜装置还具有交流电源，该交流电源通过在两台溅射蒸发源的各靶之间流过极性以10kHz以上的频率切换的交流电流，从而在两靶之间引起放电而进行成膜。
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