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公开(公告)号：CN115004106A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202180010359.5
申请日：2021-01-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种信息处理方法，其包括：曝光工序，设置于具有多个像素的图像显示装置与感光性记录介质的曝光面之间，且经由限制从所述图像显示装置照射到所述感光性记录介质的光的角度的限制部件，将显示于所述图像显示装置的校正用图像曝光于所述感光性记录介质上；获取工序，获取通过所述校正用图像的曝光而记录在所述感光性记录介质的作为记录图像的数据的记录图像数据；及导出工序，基于所述记录图像数据，导出用于按所述图像显示装置的每个像素校正所述显示图像的每个像素的像素值的校正系数K，以使包括所述记录图像中所产生的不均匀与亮度为互补关系的不均匀的显示图像显示于所述图像显示装置。
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公开(公告)号：CN111295622B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN201880070845.4
申请日：2018-10-03
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够记录良好的图像并且能够使装置小型化的图像曝光装置。本发明的图像曝光装置(10)，具备：具有像素(13)的图像显示装置(12)；感光性记录介质支撑部(21)，使记录图像显示装置(12)的图像的感光性记录介质(14)的曝光面(14A)与图像显示装置(12)对置而支撑感光性记录介质(14)；百叶窗式薄膜(16)，设置于图像显示装置(12)与感光性记录介质支撑部(21)之间，在第1方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)，并且在第2方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)；及保护层(17)，设置于百叶窗式薄膜(16)的感光性记录介质支撑部(21)侧。
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公开(公告)号：CN110461204B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201880017687.6
申请日：2018-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的一方式所涉及的测量辅助装置中，显示表示改变拍摄距离时的光点的移动轨迹的信息，因此通过头部及摄像部的进退操作等来改变拍摄距离，从而可轻松地使光点向测量对象的附近移动，能够迅速且轻松地进行测量。并且，显示根据光点的位置设定的大小的指标图形(圆形标记)，因此无需进行距离测量，结构简单且处理负荷低。而且，在光点的附近显示指标图形及表示轨迹的信息，因此光点位置与指标图形的位置的偏移少，作为指标准确，并且不在大范围显示指标图形，因此处理负荷少。
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公开(公告)号：CN112184357A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202010623931.2
申请日：2020-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G06Q30/06
Abstract: 本发明提供一种信息推荐系统、信息推荐方法及记录介质，所述信息推荐系统能够从用户的图像组中将与用户的兴趣、嗜好等匹配的商品信息推荐给该用户。在信息推荐系统、信息推荐方法、程序及记录介质中，图像组获取部获取用户的图像组，图像分析部检测每个图像的属性。拍摄张数统计部统计相同属性图像的拍摄张数，拍摄频率计算部计算相同属性图像的拍摄频率。拍摄目的推断部推断相同属性图像的拍摄目的。推荐确定部根据相同属性图像的拍摄张数及拍摄频率是否满足一定条件，确定是否将与相同属性图像的拍摄目的有关联的商品信息推荐给用户，信息推荐部将确定为推荐给用户的商品信息推荐给用户。
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公开(公告)号：CN111295622A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201880070845.4
申请日：2018-10-03
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够记录良好的图像并且能够使装置小型化的图像曝光装置。本发明的图像曝光装置(10)，具备：具有像素(13)的图像显示装置(12)；感光性记录介质支撑部(21)，使记录图像显示装置(12)的图像的感光性记录介质(14)的曝光面(14A)与图像显示装置(12)对置而支撑感光性记录介质(14)；百叶窗式薄膜(16)，设置于图像显示装置(12)与感光性记录介质支撑部(21)之间，在第1方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)，并且在第2方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)；及保护层(17)，设置于百叶窗式薄膜(16)的感光性记录介质支撑部(21)侧。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111108000A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201880061338.4
申请日：2018-09-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 提供能够记录良好的图像并且能够将装置小型化的图像曝光装置。一种图像曝光装置(10)，其具备：图像显示装置(12)，具有像素(13)；感光性记录介质支撑部(21)，以使感光性记录介质(14)的曝光面(14A)与图像显示装置(12)相对的方式支撑记录图像显示装置(12)的图像的感光性记录介质(14)；以及透射光控制部(16)，设置在图像显示装置(12)与感光性记录介质支撑部(21)之间，并且层叠3层以上的透射部件(100)而成，所述透射部件(100)形成有多个开口(102)并且仅透射入射于开口(102)的光。
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公开(公告)号：CN105308482B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201480031450.5
申请日：2014-05-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , B32B7/02 , B32B2307/412 , G02B1/118 , G02B3/0087
Abstract: 本发明的课题在于获得一种具备制造适用性良好且具有充分光学特性的防反射膜的光学部件。在具备透明基材(30)、形成于透明基材(30)表面的防反射膜(40)的光学部件(1)中，防反射膜(40)具备折射率向厚度方向的透明基材(30)侧逐渐变大的折射率倾斜结构层(10)及配置于折射率倾斜结构层(10)与透明基材(30)之间并用于通过干涉作用抑制反射光的干涉层(20)，透明基材(30)的折射率与折射率倾斜结构层(10)的最靠透明基材侧的折射率不同，干涉层(20)的折射率沿厚度方向发生变化，在与折射率倾斜结构层(10)的边界及与透明基材(30)的边界具有与两者的折射率不连续的值，且折射率倾斜结构层侧与透明基材侧的值互不相同。
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公开(公告)号：CN106164712A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201580014837.4
申请日：2015-03-09
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C03C17/3411 , B32B5/147 , B32B9/00 , B32B15/20 , B32B2551/00 , C03C17/245 , C03C17/3452 , C03C2217/214 , C03C2217/22 , C03C2217/734 , C03C2218/154 , G02B1/115 , G02B1/118
Abstract: 本发明提供一种透镜的制造方法，其以良好的成品率来制造带防反射功能的透镜。在透镜主体(12)的一侧面(12a)形成电介质多层膜(3)，在透镜主体(12)的另一侧面(12b)形成含铝膜(14a)，通过在温水中浸渍含铝膜(14a)，并将含铝膜(14a)转换为以水合氧化铝为主成分的微细凹凸结构膜，由此制造在两面(12a、12b)具备防反射功能的透镜。
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公开(公告)号：CN105308482A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480031450.5
申请日：2014-05-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , B32B7/02 , B32B2307/412 , G02B1/118 , G02B3/0087
Abstract: 本发明的课题在于获得一种具备制造适用性良好且具有充分光学特性的防反射膜的光学部件。在具备透明基材(30)、形成于透明基材(30)表面的防反射膜(40)的光学部件(1)中，防反射膜(40)具备折射率向厚度方向的透明基材(30)侧逐渐变大的折射率倾斜结构层(10)及配置于折射率倾斜结构层(10)与透明基材(30)之间并用于通过干涉作用抑制反射光的干涉层(20)，透明基材(30)的折射率与折射率倾斜结构层(10)的最靠透明基材侧的折射率不同，干涉层(20)的折射率沿厚度方向发生变化，在与折射率倾斜结构层(10)的边界及与透明基材(30)的边界具有与两者的折射率不连续的值，且折射率倾斜结构层侧与透明基材侧的值互不相同。
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公开(公告)号：CN101653040B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200880010812.7
申请日：2008-03-13
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L51/50 , H05B33/04 , G02F1/1339 , H05B33/10
CPC classification number: H01L51/5246 , G02F1/133305 , G02F1/1339 , G02F2001/133311 , G02F2202/28 , H01L51/5243 , H01L2251/5338
Abstract: 本发明制造一种电子设备并将树脂基板和电子元件的劣化抑制在最小限度。并且电子设备的制造方法，是在分别层积有阻挡层(2、2’)的一对树脂基板(1、1’)间，夹设用于密封电子元件(3～5)的低熔点金属层(7、7’)，而使树脂基板(1、1’)上的阻挡层(2、2’)的彼此接合的电子设备的制造方法，其中，在阻挡层(2、2’)和低熔点金属层(7、7’)之间分别设置光吸收层(6、6’)，通过树脂基板(1’)和阻挡层(2’)，将波长350nm以上、600nm以下的激光照射到光吸收层(6)上，加热低熔点金属层(7、7’)并使之熔解，接合阻挡层(2、2’)。
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