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公开(公告)号：CN104046958A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410247956.1
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , B82Y40/00 , B82Y30/00
Abstract: 本发明公开了一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置，包括：反应腔，其内部形成的空腔用于作为前驱体与微纳米颗粒的反应空间；多个前驱体供应装置，其分别通过管道与所述反应腔相通以提供不同的前驱体；载气输送系统，前驱体通过该载气输送系统输出的载气输送到反应腔中；以及粉体颗粒装载装置，用于承载待修饰的微纳米颗粒；通过多个前驱体供应装置分别向反应腔交替地输送前驱体，并进入旋转的粉体颗粒装载装置中以与微纳米颗粒表面接触进行原子层沉积反应，从而在微纳米颗粒的表面形成包覆薄膜，实现表面修饰。本发明还公开了利用上述装置进行微纳米颗粒的表面修饰的方法。本发明可以获得颗粒表面高均匀性的包覆层，并提高粉体颗粒的整体包覆率和前驱体的利用率。
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公开(公告)号：CN104046957A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410247806.0
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法，采用原子层沉积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将其包覆，以提高三氢化铝粉末热稳定性，包括，S1：将三氢化铝粉体放入腔体内并抽真空；S2：加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后，通入流化气，使三氢化铝预分散；S3：原子层沉积反应，当腔体内的温度达到50～130℃时，开始原子层沉积反应；S4：重复多次原子层沉积反应，使粉体表面沉积厚度不断增长，通过控制沉积反应循环的次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度，实现三氢化铝粉体包面包覆厚度为1～1000nm包覆层，以实现粉体的稳定化。
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公开(公告)号：CN117587378A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311637258.8
申请日：2023-12-01
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/04 , C23C16/455 , C23C16/40 , H01S5/028
Abstract: 本申请涉及一种半导体激光器的腔面镀膜方法，包括步骤S102，在半导体激光器解理条的电极表面区域选择性生长分子层，以形成具有疏水特性的阻隔层；步骤S104，对形成有阻隔层的半导体激光器解理条进行原子层沉积，以于半导体激光器解理条的除阻隔层覆盖区域以外的区域形成钝化薄膜。本申请的半导体激光器的腔面镀膜方法，实现了在半导体激光器解理条的腔面上沉积钝化薄膜并避免了半导体激光器的电极表面出现钝化薄膜，且不容易出现半导体激光器解理条受应力不均而产生机械损伤的问题。
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公开(公告)号：CN114075659A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202111163408.7
申请日：2021-09-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/442 , C23C16/455 , H01M4/36
Abstract: 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片；反应筒的两端具有开口，反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔；多个传振片依次间隔设置于反应筒内，每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁，多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体，传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态，实现大批量粉末的均匀包覆。
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公开(公告)号：CN112909275B
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202110335742.X
申请日：2021-03-29
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01M4/96
Abstract: 本发明属于催化剂材料领域，并具体公开了一种富含sp3杂化碳的无金属碳基催化剂及其制备方法，其以碳基材料或2‑甲基咪唑锌盐作为前驱体，利用气化的卤化盐对前驱体表面进行修饰，从而促使前驱体表面的sp2杂化碳转变为sp3杂化碳，完成无金属碳基催化剂的制备。本发明采用廉价的卤化盐，利用一步法即可得到表面含有大量本征碳缺陷的碳基催化剂，提高了催化活性位点的利用率，使催化剂具有较高的ORR活性和耐久性，同时本发明方法操作简便可控，且可以保证材料原有形貌不改变。
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公开(公告)号：CN113466101A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110706803.9
申请日：2021-06-24
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N15/08
Abstract: 本发明涉及一种渗透率检测设备与检测方法。渗透率检测设备包括：进气腔体；渗透腔体，多组渗透腔体均与进气腔体连接，渗透腔体与进气腔体间设有进气阀门，进气阀门打开时，进气腔体与对应的渗透腔体连通，渗透腔体内设有第一样品安装区；检测腔体，多组渗透腔体均与检测腔体连接，渗透腔体与检测腔体间设有积累阀门，积累阀门打开时，检测腔体与对应的渗透腔体连通；质谱仪，质谱仪与检测腔体连通。该设备可以对高阻隔率薄膜的渗透率进行检测，能加深对于薄膜渗透性能的了解，有利于后续对于高阻隔率薄膜的研究。
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公开(公告)号：CN112408993A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202011311225.0
申请日：2020-11-20
Applicant: 华中科技大学
IPC: C04B35/632 , C04B35/634 , C04B35/46 , B33Y70/10
Abstract: 本发明属于非金属增材制造技术领域，具体涉及一种梯度粒径二氧化钛光敏树脂陶瓷浆料及其制备方法和应用。本发明一种梯度粒径二氧化钛光敏树脂陶瓷浆料，按照体积份数，包括以下组分：低聚物25‑55份、单体10‑25份、活性稀释剂3‑8份、分散剂3‑5份、光引发剂9‑18份、助剂1‑3份、二氧化钛陶瓷粉末1‑40份。本发明采用混合类光引发剂和混合光源，相比以往传统光固化设备为单一紫外光源，陶瓷浆料使用单一光引发剂，本发明增强陶瓷光敏树脂浆料对于光的吸收固化反应，以此抵消二氧化钛陶瓷对于光的反射，确保在单位时间内浆料固化深度达到一定尺度，缺陷少，成型效果好。
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公开(公告)号：CN110922959B
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN201911086601.8
申请日：2019-11-08
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光学膜和封装领域，并具体公开了一种量子点薄膜及其制备方法，包括如下步骤：S1对量子点进行包覆得到量子点微球；S2将量子点微球混合在有机聚合物溶液中并固化成形，得到初始量子点薄膜；S3在初始量子点薄膜表面沉积氧化物层，得到量子点薄膜，完成量子点薄膜制备。本发明采用有机或无机物、有机聚合物、氧化物对量子点进行了三重包覆，制备得到的量子点薄膜均匀性好，且有效提高了量子点的稳定性，提高量子点的使用寿命。
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公开(公告)号：CN109881180B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201910095421.X
申请日：2019-01-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明属于镀膜设备制造领域，并公开了一种用于微纳米颗粒的快速循环原子层沉积设备，该设备由两个直线运动装置和两个回转运动装置首尾相连，组成一个封闭的椭圆形，其中直线运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的直线振动电机、第一水冷却板、第一支撑板、第一加热片和料槽，料槽的一端为原子层沉积反应区域，并且该区域上方安装有前驱体喷头；回转运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的回转振动电机、第二水冷却板、第二支撑板、第二加热片和回转运动料槽。本发明能够实现颗粒以稳定的运动速度在料槽中循环运动，并通过控制微纳米颗粒经过原子层沉积反应区域的次数，实现对微纳米颗粒表面薄膜的厚度的控制。
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公开(公告)号：CN110922959A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201911086601.8
申请日：2019-11-08
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光学膜和封装领域，并具体公开了一种量子点薄膜及其制备方法，包括如下步骤：S1对量子点进行包覆得到量子点微球；S2将量子点微球混合在有机聚合物溶液中并固化成形，得到初始量子点薄膜；S3在初始量子点薄膜表面沉积氧化物层，得到量子点薄膜，完成量子点薄膜制备。本发明采用有机或无机物、有机聚合物、氧化物对量子点进行了三重包覆，制备得到的量子点薄膜均匀性好，且有效提高了量子点的稳定性，提高量子点的使用寿命。
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