公开(公告)号：CN207833216U

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201820185391.2

申请日：2018-02-02

Applicant: 三菱制纸株式会社

Inventor： 丰田裕二 ,  后闲宽彦

IPC: G03F7/16

Abstract: 提供一种抗蚀剂层的薄膜化装置，前述抗蚀剂层的薄膜化装置在用于使形成有抗蚀剂层的基板的抗蚀剂层薄膜化而使用的抗蚀剂层的薄膜化装置中，能够解决薄膜化处理液向浸渍槽的上游侧逆流、抗蚀剂层的薄膜化量不均匀的问题。在具备薄膜化处理单元的抗蚀剂层的薄膜化装置中，薄膜化处理单元具有装有薄膜化处理液的浸渍槽，借助对浸渍槽的入口辊对的上侧辊施加载荷的载荷机构，防止薄膜化处理液向上游侧的逆流。

公开(公告)号：CN206341488U

公开(公告)日：2017-07-18

申请号：CN201621094964.8

申请日：2016-09-30

Applicant: 三菱制纸株式会社

Inventor： 丰田裕二 ,  后闲宽彦 ,  中川邦弘

IPC: H05K3/06

Abstract: 抗蚀层的薄膜化装置，胶束除去处理单元具有pH传感器及酸性溶液添加用泵，该pH传感器设置于能监视胶束除去液的pH的位置，酸性溶液添加用泵设置在能在胶束除去液的pH上升时将酸性溶液添加到胶束除去液中的位置，酸性溶液添加用泵在胶束除去液的实际pH值pH‑M为pH‑A以上时将酸性溶液添加到胶束除去液中，pH‑M时的酸性溶液添加用泵的实际输出OP‑M由pH‑A时的酸性溶液添加用泵的输出OP‑A与胶束除去液的pH的控制目标pH‑B时的酸性溶液添加用泵的输出OP‑B之间的比例控制确定，OP‑M相对于酸性溶液添加用泵的最大输出OP‑X为10%以上50%以下，pH‑A

公开(公告)号：CN205427437U

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201521021638.X

申请日：2015-12-10

Applicant: 三菱制纸株式会社

Inventor： 丰田裕二 ,  后闲宽彦 ,  中川邦弘

IPC: G03F7/30

Abstract: 本实用新型的课题在于提供一种抗蚀剂层的薄膜化装置，用于在绝缘层的表面形成有连接焊盘的回路基板的表面形成抗蚀剂层，将抗蚀剂层的一部分薄膜化，即使在抗蚀剂层的薄膜化的厚度大的情况下，也不易在连接焊盘表面发生抗蚀剂层的残渣。在用于在绝缘层的表面形成有连接焊盘的回路基板的表面形成抗蚀剂层，为了使连接焊盘的一部分从抗蚀剂层露出，将抗蚀剂层的至少一部分薄膜化的抗蚀剂层的薄膜化装置中，其特征在于，具备通过薄膜化处理液使抗蚀剂层中的成分胶束化的薄膜化处理单元（A），和通过胶束除去液将胶束除去的胶束除去处理单元（B），单元（A）和单元（B）至少重复两组以上连续地配置。

公开(公告)号：CN203587965U

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201320593542.5

申请日：2013-09-25

Applicant: 三菱制纸株式会社

Inventor： 丰田裕二 ,  后闲宽彦 ,  川合宣行 ,  中川邦弘

IPC: G03F7/30

Abstract: 提供一种抗蚀剂层的薄膜化装置，在具备通过浸渍槽中的薄膜化处理液使抗蚀剂层中的成分胶束化的薄膜化处理单元，和通过胶束除去液将胶束除去的胶束除去处理单元的抗蚀剂层的薄膜化装置中，能够抑制胶束除去液向薄膜化处理单元的倒流及抑制抗蚀剂层表面的薄膜化处理液的流动，并且抑制薄膜化处理液从浸渍槽的带出。通过在薄膜化处理单元与胶束除去处理单元的边界部的运送辊对上设置有胶束除去液截断罩的薄膜化装置、在浸渍槽的出口辊对与胶束除去处理单元的入口辊对之间设置有断液辊对的薄膜化装置、以及在浸渍槽的出口辊对与胶束除去处理单元的入口辊对之间设置有防液壁的抗蚀剂层的薄膜化装置，能够解决问题。