光纤的处理方法以及光纤处理中的估计方法

    公开(公告)号:CN105314892A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201510395170.9

    申请日:2015-07-07

    Inventor: 滨口浩辉

    Abstract: 本发明的光纤的处理方法以具有纤芯和包围该纤芯的包层的由石英玻璃构成的光纤为对象,具有将该光纤暴露在含有能够与光纤内的非交联氧结合(交联)而处理非交联氧缺陷的氧交联性元素的气体中,使上述氧交联性元素渗入光纤中的含氧交联性元素气体暴露工序、和接着将光纤放置在不含有氧交联性元素的非氧交联性气氛中,使上述氧交联性元素在光纤内扩散的扩散工序。并且,光纤的处理方法具备在实施上述含氧交联性元素气体暴露工序以前的阶段,决定含氧交联性元素气体暴露后的基于非氧交联性气氛中放置的扩散处理的条件中的、至少气氛温度的非氧交联性气氛中放置条件决定工序。该非氧交联性气氛中放置条件决定工序具有第一阶段~第三阶段。

    含氟光纤基材的制造方法及含氟光纤基材

    公开(公告)号:CN102674682B

    公开(公告)日:2014-08-13

    申请号:CN201210058782.5

    申请日:2012-03-08

    Inventor: 浦田佑平

    Abstract: 经过由氯系气体环境中将多孔质玻璃堆积体加热处理并进行脱水的第一步骤、在含氟源的气体环境中进行加热处理并添加氟的第二步骤、在包含氟源的气体环境中用比上述第二步骤高的温度进行加热处理,透明玻璃化的第三步骤构成的烧结步骤制造含氟光纤基材的方法;其特征在于,所述第一步骤、第二步骤及第三步骤的处理温度分别依次为T1、T2、T3(k),上述第二步骤及第三步骤的氟源气体浓度,依次为C2、C3(%),当参数Q用下列数学式1表达的时候,参数Q的值为Q>0.14的范围的处理温度、氟源气体浓度来制造。[数学式1]Q=C2×exp(-T2/T1)+C3×exp(-T3/T2)。

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