一种钴电解液中深度净化去除痕量镍、铜的方法

    公开(公告)号:CN118292053A

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202410672789.9

    申请日:2024-05-28

    Abstract: 本发明涉及钴电解液净化技术领域,具体为一种钴电解液中深度净化去除痕量镍、铜的方法,具体实施步骤为:步骤1、采用不溶性阳极电解液制备金属钴,其电解液浓度为200g/L左右,电解液pH值为1‑2;步骤2、将电解液以一定的流量与离子交换柱中树脂进行交换,净化过程采用逆流净化工艺,净化后电解液中的镍含量降低至0.00008g/L,铜含量在0.00001g/L,钴镍比为1570250倍,钴铜比为12562000倍;步骤3、将净化后的钴电解液进行电解,电解后应得到镍含量小于0.2ppm,铜含量小于0.1ppm,杂质总含量小于1ppm的6N钴;通过该方法净化后的溶液,满足制备镍含量小于0.2ppm,铜含量小于0.1ppm,杂质总含量小于1ppm的6N钴,同时溶液中痕量的镍、钴杂质离子可一步去除,解决了杂质离子分阶段去除的问题。

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