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公开(公告)号：CN115139617A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210070810.9
申请日：2022-01-21
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: B32B27/36 , B32B27/08 , B32B27/06 , B32B7/06 , B32B27/32 , B32B27/30 , B32B7/12 , C09J7/29 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种保护膜形成膜，其为能量射线固化性的保护膜形成膜(13)，其含有能量射线固化性成分(a)，使所述保护膜形成膜进行能量射线固化并以260℃加热处理10分钟后的保护膜的重量(W3)相对于能量射线固化前的所述保护膜形成膜的重量(W0)的重量减少率(ΔW3)为3.0％以下，使所述保护膜形成膜进行能量射线固化后的、除无机填充材料以外的成分的凝胶分率为60％以上。
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公开(公告)号：CN114628285A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202111489764.8
申请日：2021-12-08
Applicant: 琳得科株式会社
Inventor： 小桥力也
IPC: H01L21/67 , H01L23/544
Abstract: 本发明提供一种带保护膜的工件的制造方法，其中，形成依次层叠有工件(14)、保护膜(13’)及支撑片(10)的第四层叠体，从支撑片(10)侧对所述第四层叠体的所述保护膜(13’)进行激光照射，由此在保护膜(13’)与支撑片(10)之间形成气体滞留(30)的同时对保护膜(13’)的支撑片(10)侧的表面进行激光打标。
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公开(公告)号：CN111107994B
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN201880060878.0
申请日：2018-10-25
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: B32B27/00 , H01L21/301 , H01L23/00 , H01L23/29 , H01L23/31
Abstract: 本发明为一种保护膜形成用复合片，其含有支撑片与设置在该支撑片上的能量射线固化性的保护膜形成用膜，所述保护膜形成用复合片中，该保护膜形成用膜含有能量射线固化性成分(a0)及非能量射线固化性聚合物(b)，该支撑片的与该保护膜形成用膜接触的层含有树脂成分(X)，该能量射线固化性成分(a0)与该非能量射线固化性聚合物(b)的HSP距离R23A为6.5以下，该能量射线固化性成分(a0)与该树脂成分(X)的HSP距离R13A为2.2以上。
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公开(公告)号：CN107615454B
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN201680032214.4
申请日：2016-06-03
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: H01L21/301 , H01L21/60
Abstract: 本发明提供一种保护膜形成用复合片，其具有：基材、具有活性能量线固化性的粘合剂层、及具有热固性的保护膜形成用膜，其中，该保护膜形成用复合片用于通过下述方式制造带保护膜的半导体芯片：将该保护膜形成用复合片通过该保护膜形成用膜而粘贴于半导体晶片的背面之后，使该保护膜形成用膜固化成为保护膜，接着，在对该半导体晶片进行切割而得到半导体芯片之后，使该粘合剂层固化，然后将该半导体芯片连同该保护膜一起进行拾取，由此制造带保护膜的半导体芯片，该粘合剂层至少在与所述保护膜形成用膜接触的层中含有(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物，该共聚物具有由构成烷基酯的烷基的碳原子数为8以上的(甲基)丙烯酸烷基酯衍生的结构单元。
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公开(公告)号：CN111093987A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880060022.3
申请日：2018-10-25
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: B32B27/00 , H01L21/301 , H01L23/00 , H01L23/29 , H01L23/31
Abstract: 本发明为一种保护膜形成用复合片，其含有支撑片与设置在该支撑片上的能量射线固化性的保护膜形成用膜，所述保护膜形成用复合片中，该保护膜形成用膜含有能量射线固化性成分(a0)及非能量射线固化性聚合物(b)，该支撑片的与该保护膜形成用膜接触的层含有树脂成分(X)，该非能量射线固化性聚合物(b)与该树脂成分(X)的HSP距离R12为6.7以上，规定HSP空间，并在该HSP空间内制作该非能量射线固化性聚合物(b)的汉森溶解球时，该能量射线固化性成分(a0)的HSP包含在该非能量射线固化性聚合物(b)的汉森溶解球的区域内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108604541A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780011114.8
申请日：2017-04-25
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: H01L21/301
Abstract: 本发明涉及一种能量射线固化性的保护膜形成用膜，其含有平均粒径为0.08～15μm的填充材料，相对于所述保护膜形成用膜的质量，所述填充材料的含量为5～83质量％。
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公开(公告)号：CN107112219A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580058160.4
申请日：2015-10-23
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: H01L21/301 , B32B7/02 , B32B27/20 , C09J7/02
Abstract: 本发明的保护膜形成膜含有紫外线固化性成分，该保护膜形成膜对波长375nm的光线的透射率为8％以上、对波长550nm的光线的透射率为12％以下。该保护膜形成膜可以进一步含有着色剂，上述着色剂可以为红色着色剂。
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公开(公告)号：CN106489189A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201580032859.3
申请日：2015-09-03
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: H01L21/301 , C09J7/02 , C09J201/00
Abstract: 本发明涉及一种保护膜形成用复合片，其具有粘合片、和叠层于粘合片的所述粘合剂层侧的保护膜形成膜，所述粘合片是粘合剂层叠层于基材的一面侧而形成的，其中，在对所述基材施加0.1g/mm的载荷并在130℃下加热2小时再冷却至23℃的情况下，所述基材在加热后相对于加热前在MD方向及CD方向的伸缩率均为95～103％，所述基材在23℃下的MD方向及CD方向的拉伸弹性模量均为100～700MPa。
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公开(公告)号：CN119141993A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202411359173.2
申请日：2017-04-25
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: B32B27/32 , B32B27/30 , B32B7/12 , C08J5/18 , C08L33/08 , C08K3/36 , C08F265/06 , C08F222/14 , C09J133/08 , H01L21/301
Abstract: 本发明提供一种即使在氧气存在下、也能够防止发生固化不良的保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片，这样的保护膜形成用膜为能量射线固化性的保护膜形成用膜，其中，在所述保护膜形成用膜中，掺合有波长365nm的吸光系数为4.0×101ml/(g·cm)以上的光自由基引发剂。所述光自由基引发剂优选为在1分子内具有3个以上的芳香环的夺氢型光自由基引发剂，优选为在1分子内具有2个以上的光分解性基团的光自由基引发剂。
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