-
公开(公告)号：CN114957700B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210823473.6
申请日：2022-07-14
Abstract: 本发明公开了一种用于氯离子传感的金属有机框架材料及其制备方法，该金属有机框架材料的制备方法包括如下步骤：（1）制备合成了含有未配位羧基的双配体Zr‑NDC‑PMA材料；（2）通过后修饰的方法将Ag+和Eu3+同时配位到MOF中的未配位羧基位点，得到Ag+/Eu3+@Zr‑NDC‑PMA荧光探针材料，本发明所获得的金属有机框架材料稳定性良好，能在水溶液中对氯离子进行快速识别、定量检测，而且此探针可以实现对氯离子的比率型传感，具有良好的抗干扰性和灵敏度，可用于生物、环境、化学等样品中氯离子的传感。
-
公开(公告)号：CN115236043A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202210773978.6
申请日：2022-07-01
Applicant: 浙江大学
IPC: G01N21/64
Abstract: 本发明公开了一种可见光双光梳高分辨超快显微成像装置及方法，该成像装置包括双光梳光源、移频器、波分复用器、二维色散元件、显微成像系统、双光梳探测器、以及数据采集和处理部分。采用双光梳作为光源，利用二维色散元件将光频梳展开为波长‑空间编码点阵光场进行照明，采用双光梳探测器开展双光梳光谱测量获取波长所包含的信息，利用移频器改变光频频率实现照结构光照明，实现高分辨超快显微成像。本发明克服传统超快测量技术中时域拉伸对可见光超快显微成像的限制，有效减小了照明光束的光斑大小，提高成像的空间分辨率，利用光学频率梳实现一种点阵结构光照明无标记超分辨显微成像，可以进一步提高超快显微成像的分辨率。
-
公开(公告)号：CN114415481B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
-
公开(公告)号：CN114355621B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210262638.7
申请日：2022-03-17
Abstract: 本发明公开了一种基于面阵探测器和艾里斑细分的多焦点非标记差分超分辨成像方法与装置，激光器发出的光被偏振分光镜分为偏振方向互相垂直的两束光，两束光分别被SLM的左右两个半屏加载的相位掩膜调制，两束光分别为实心光束和空心光束；之后实心光束和空心光进行合束，合束后的光束再被分为第一子光束和第二子光束，分别包含实心光束和空心光束，以一定角度入射到扫描振镜模块，并被物镜聚焦，形成第一焦斑组合和第二焦斑组合，从而在焦面上形成四个焦斑。基于时域转化为空域的方法，使用面阵探测器代替单点探测器，在相对较低成本下，可以实现对艾里斑4进行40个以上探测器的细分。同时，采用多焦点激发，进一步提升了系统的成像效率。
-
公开(公告)号：CN114527630A
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202210417731.0
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法，将异丙醇锆与有机酸反应得到光刻胶单体，将光刻胶单体与光引发剂按比例溶解，旋涂在基板上之后，可在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合，显影后形成光刻图案，将所得的图案在空气气氛中高温退火，得到二氧化锆微纳图案，该方法无需掩模版，可以快速简便地制造任意的二氧化锆微纳图案，可用于电路电容和半导体微器件等产品的制造加工。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114460731A
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202210080472.7
申请日：2022-01-24
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开一种基于DMD的多色结构光照明超分辨显微成像方法，DMD作为数字闪耀光栅对不同波长的激光进行衍射，傅里叶滤波产生的正负一级衍射光经过精确的偏振调制后在待测荧光样品表面干涉生成高对比度的条纹照明图案，通过DMD加载不同方向和相位的条纹图案快速地对干涉条纹进行方向旋转和相位移动，对获得的多幅原始荧光强度图像进行重构得到超分辨显微图像。本发明还公开了基于DMD的多色结构光照明超分辨显微成像装置，用振镜快速切换不同的激光波长选通或截止进入到不同的方芯多模光纤内，通过调节方芯多模光纤输出端进行各波长入射角度的对准，从而保证各波长对应的闪耀级次落在同一位置以便于傅里叶滤波。装置复杂度低，灵活度、稳定性、可扩展性高，同时采用模块化设计使系统可扩展应用于三维干涉型结构光照明显微技术和投影型结构光照明显微技术的成像研究。
-
公开(公告)号：CN114415481A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
-
公开(公告)号：CN114114674B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202210093399.7
申请日：2022-01-26
Abstract: 本发明公开了一种基于无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括两对光束偏转器、第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一透镜、第二透镜、第一光电感应器、第二光电感应器和控制器等部件。本发明利用光束偏转器实现光束的位置和角度控制，完全消除控制执行部件中的机械运动，消除环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率（可以达到1 MHz以上）的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
-
公开(公告)号：CN113654656B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
-
公开(公告)号：CN114019766A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111266973.6
申请日：2021-10-28
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，该装置主要包含激发光和抑制光两路光，激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM，抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵，利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差，实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化，利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控，抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光，四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光，与激发光点阵在物镜焦平面重合后形成千束PPI点阵，可实现大面积复杂三维结构的超分辨高通量灵活刻写。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
534
records
(took 0.041 seconds)
