公开(公告)号：CN101194345A

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200680020281.0

申请日：2006-06-07

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  寺本章伸 ,  本多稔 ,  中西敏雄

IPC: H01L21/318

CPC classification number: H01L21/3185

Abstract: 本发明的等离子体氮化处理方法，由具有多个缝隙的平面天线将微波导入处理容器内，形成含氮气体的微波激发高密度等离子体，在等离子体处理装置的处理容器内，使该高密度等离子体作用于被处理体表面的硅，在500℃以上的处理温度下进行氮化处理。

公开(公告)号：CN101120437A

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN200680003184.0

申请日：2006-01-20

Applicant: 国立大学法人东北大学

Inventor： 大见忠弘 ,  寺本章伸 ,  后藤哲也 ,  河濑和雅

IPC: H01L21/318 ,  H01L29/78

CPC classification number: H01L21/28202 ,  H01L21/3144 ,  H01L21/3185 ,  H01L29/518 ,  Y10T428/265

Abstract: 一种电介质膜，通过使处于Si3≡N结合状态的N以3原子％以上的浓度存在于氧化膜的表面侧上，并以0.1原子％以下的浓度存在于界面侧上，可以同时达到防止B扩散和NBTI耐性劣化的目的。在使用Ar/N2游离基氮化的情况下，难以使处于上述结合状态的N浓度同时满足在表面侧达到3原子％以上，在界面侧达到0.1原子％以下，但通过对Xe/N2、Kr/N2、Ar/NH3、Xe/NH3、Kr/NH3、Ar/N2/H2、Xe/N2/H2、Kr/N2/H2的任意一种气体进行组合使用，可以实现上述的N浓度分布。

公开(公告)号：CN101032020A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200580033312.1

申请日：2005-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 北川淳一 ,  尾崎成则 ,  寺本章伸 ,  大见忠弘

IPC: H01L21/8247 ,  H01L27/115 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  H01L21/318

CPC classification number: H01L29/792 ,  H01L21/28202 ,  H01L21/28273 ,  H01L29/513

Abstract: 提供利用栅绝缘膜中良好的氮浓度分布，得到优异电气特性(写入、消去特性)的半导体存储装置及其制造方法。本发明中第一实施方式的半导体装置的制造方法，是通过经由半导体基板与栅电极之间形成的绝缘膜进行电荷交接而动作的半导体存储装置的制造方法，包括将预先使用等离子体激励用气体稀释的氧氮化种导入等离子体处理装置内，由等离子体生成氧氮化种，在所述半导体基板上形成作为栅绝缘膜的氧氮化膜的工序，所述氧氮化种含有相对于导入所述等离子体处理装置内的全部气体量为0.00001～0.01％的NO气体。

公开(公告)号：CN1977392A

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200580021933.8

申请日：2005-06-24

Applicant: 国立大学法人东北大学

Inventor： 大见忠弘 ,  森本明大 ,  武久究

IPC: H01L31/042

CPC classification number: H01L31/055 ,  H01L31/02168 ,  Y02E10/52

Abstract: 太阳能电池板通常是黑色的，在设计性上差。本发明的目的在于提供一种在不使发电效率降低的情况下发色的透明板及使用了该透明板的太阳能电池板。本发明的太阳能电池板用具有吸收红外光且放射可见光的特征的透明板覆盖了太阳能电池。由于透明板使用不对发电起作用的红外光进行发色，因此能够得到不使太阳能电池的发电效率降低，且从装饰的观点考虑也优越的太阳能电池板。

公开(公告)号：CN1856211A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610066914.3

申请日：2006-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 北村昌幸 ,  平山昌树 ,  大见忠弘

IPC: H05H1/46 ,  H01J37/32 ,  H01L21/00

Abstract: 一种等离子体处理装置，使得导入波导管的微波通过槽传播到介电体上，使供给到处理容器内的规定气体等离子体化，对基板进行等离子体处理，并列配置有多根波导管，在每一根波导管上分别设置有多个介电体，且在每个介电体上设置有1个或2个以上的槽。可以显著减小各介电体的面积，可靠地使微波传播到介电体的整个表面。此外，由于支承介电体的支承部件足够细，可在基板的整个上方形成均匀的电磁场，在处理室内发生均匀的等离子体。

公开(公告)号：CN105122425A

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201380075653.X

申请日：2013-04-18

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  斯泰拉化工公司

Inventor： 酒井健 ,  吉田达郎 ,  平塚亮辅 ,  石川俊 ,  大见忠弘 ,  长谷部类 ,  高野顺 ,  菊山裕久 ,  山本雅士

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02063 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/76898

Abstract: 提供一种孔的内壁面处理方法，即使要被处理的基体中设置的孔是窄而深的孔，仍能可靠地进行蚀刻和清洗。对设置有基体(100)且可减压的处理空间进行减压，其中该基体在其内部具有被施予处理液(106)的表面以及在该表面中具有开口(110)的微空腔(104)；然后向该被减压的处理空间导入处理液(106)，以处理微空腔(104)的内壁面。这里，该微空腔(104)的纵横比(l/r)为5或更大，或者纵横比小于5且V/S(V：微空腔的容积、S：开口的面积)为3或更大。

公开(公告)号：CN103858212A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201280047608.9

申请日：2012-07-24

Applicant: 株式会社富士金 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 大见忠弘 ,  白井泰雪 ,  永濑正明 ,  山下哲 ,  日高敦志 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一 ,  平尾圭志

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/448

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: 本发明提供能够使气化器内的压力的举动稳定的气化器。本发明的气化器具备：腔，其具备流入口以及流出口；加热装置，其加热该腔内；隔壁构造体(13)，其设于该腔内，并将该腔内的液体材料划分到多个区划；以及液体流通部(20)，其设于隔壁构造体(13)的下部，以容许利用隔壁构造体(13)划分的各区划之间的液体流通，所述隔壁构造体具有格子状、蜂窝状、网孔状、或管状的隔壁。

公开(公告)号：CN101421203B

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN200780011742.2

申请日：2007-03-29

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  日本陶瓷科技股份有限公司

Inventor： 大见忠弘 ,  岸幸男 ,  井口真仁 ,  市川佳孝 ,  小松祐介

IPC: C04B38/00

CPC classification number: C04B38/0058 ,  C04B35/111 ,  C04B35/505 ,  C04B35/6316 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/36 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/77 ,  Y10T428/249921 ,  C04B35/00 ,  C04B38/0054

Abstract: 本发明提供一种在要求高洁净度的领域内使用时能够抑制微波频带内的能耗，而且可均匀地分散气体的多孔质构件。多孔质构件由多孔质陶瓷形成，微波频带内的介质损耗正切是1×10-3以下。陶瓷构件由局部备有该多孔质构件的陶瓷烧结体构成。

公开(公告)号：CN103717902A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201280038084.7

申请日：2012-06-27

Applicant: 国立大学法人东北大学

Inventor： 大山健二 ,  阿久津功 ,  岩城征道 ,  大见忠弘

IPC: F04C27/00 ,  F04C18/16 ,  F04C25/02

CPC classification number: F04C18/12 ,  F04C18/16 ,  F04C25/02 ,  F04C27/009 ,  F04C29/0007 ,  F04C29/023 ,  F04C2220/30 ,  F04C2230/91

Abstract: 本发明提供一种能够抑制密封气体混入工艺气体并且也能够降低密封气体的使用量的气体排气用泵系统。本发明的气体排气用泵系统具有主体泵和副泵。主体泵包括：螺杆转子；旋转轴，其以旋转自如的方式卡合于用于使螺杆转子旋转的旋转驱动部件；夹持部件，其以使旋转轴旋转自如的方式夹持旋转轴；润滑油供给通路，其具有用于向夹持部件注入润滑油的注油口；密封壳体，其与旋转轴的外周面之间空开规定的间隙，该密封壳体覆盖旋转轴的没有被夹持部件夹持的部分的周围；密封构件，其以围绕旋转轴的整周的方式架设在旋转轴与密封壳体之间；密封气体供给通路，其具有用于向间隙供给密封气体的供给口；以及密封气体排气通路，其具有用于将密封气体自间隙向主体泵之外排出的密封气体吸口。副泵是用于对密封气体排气通路进行减压的泵。

公开(公告)号：CN102421932B

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：CN201080021115.9

申请日：2010-03-19

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  后藤哲也 ,  松冈孝明

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明的课题在于提供一种减少因伴随离子体激发电力增大的标的物部等的加热所致的坏的影响的旋转磁铁溅镀装置。本发明的旋转磁铁溅镀装置具有通过使冷却用介质在多个螺旋状板磁铁组之间形成的螺旋状的空间流动、或者在支承标的物部的背板上设置冷却用流路，来对标的物部进行除热的构造。