公开(公告)号：CN101479402B

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200780024242.2

申请日：2007-06-13

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 平田薰 ,  永濑正明 ,  日高敦志 ,  松本笃咨 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4481 ,  C23C16/52 ,  G05D16/2013 ,  Y10T137/7737

Abstract: 实现基于MOCVD法的用于半导体制造的原料气化供给装置的构造的简易化和小型化，并且高精度地控制原料向加工室的供给量，从而实现半导体的品质的稳定化和品质的提升。本发明的原料气体供给装置，具有：原料容器，贮留原料；流量控制装置，将来自载流气体供给源的一定流量的载流气体(G1)一边调整流量一边向上述原料容器的原料中供给；1次配管路，导出积存在原料容器的上部空间中的原料的蒸气(G4)与载流气体(G1)的混合气体(G0)；自动压力调节装置，基于上述1次配管路的混合气体(G0)的压力以及温度的检测值来调节夹设在1次配管路的末端上的控制阀的开度，调节混合气体(G0)所流通的通路截面积，从而保持原料容器内的混合气体(G0)的压力为恒定值；恒温加热部，将上述原料容器以及自动压力调节装置的除了运算控制部的部分加热至设定温度，一边控制原料容器内的内压为期望的压力一边向加工室供给混合气体(G0)。

公开(公告)号：CN101512202B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200780032360.8

申请日：2007-08-21

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一 ,  泽田洋平

IPC: F16K31/524 ,  F16K1/00 ,  F16K7/16 ,  F16K31/04 ,  F16K41/10

CPC classification number: F16K31/04 ,  F16K7/16 ,  F16K31/52491

Abstract: 一种凸轮式阀，将包括步进马达以及凸轮机构的促动器沿上下方向微调而能够简单且容易地进行阀的零点调节。一种步进马达驱动型的凸轮式阀(1)，在具有流入通路(2a)、流出通路(2b)、阀室(2c)以及阀座(2d)的机身(2)内升降自如地配设轴杆(7)，利用促动器使上述轴杆(7)下降，所述促动器包括：配设于轴杆的上方位置的步进马达(9)以及将步进马达(9)的旋转运动变换为直线运动而向轴杆(7)传递的凸轮机构(10)，使配设在阀室(2c)内的膜片(3)或者设置在轴杆(7)的下端部的阀体(30)向阀座(2d)抵接，其特征在于，在覆盖上述机体(2)的阀室(2c)的阀盖(5)上设置升降自如地支承促动器的升降支承机构(11)，在该升降支承机构(11)上设置微调相对于轴杆(7)的促动器的高度位置的高度微调机构(12)。

公开(公告)号：CN101360941B

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN200680051269.6

申请日：2006-11-13

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 松本笃咨 ,  平田薰 ,  土肥亮介 ,  池田信一 ,  西野功二

IPC: F16K31/02 ,  F16K7/14

CPC classification number: F16K24/04 ,  F16K7/14 ,  F16K31/004 ,  F16K31/007 ,  F16K51/02

Abstract: 在高温环境下也能进行高精度的稳定流量控制，并可无需拆卸控制阀自身来调整加在压电元件上的压力。具体由下列构件构成：形成有阀室7a′和阀座7c的阀体7；设置在阀室7a′内，可落入或离开阀座7c的金属隔膜8；固定在阀体7侧的致动器壳体10；设置在致动器壳体10内，因电压的施加而向下方伸长，通过金属隔膜压塞12加压于金属隔膜8的压电元件13；在金属隔膜8向阀座7c坐落时吸收压电元件13的伸长，并可向阀座7c等施加预定压力的碟形弹簧机构14；在压电元件13上常时施加向上的压力，并可从外部调整加在压电元件13上的压力的预压机构21。

公开(公告)号：CN101285537B

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200810092800.5

申请日：2005-01-13

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  西野功二 ,  永濑正明 ,  土肥亮介 ,  池田信一 ,  西村龙太郎

IPC: F16K31/00 ,  F16K31/12 ,  F16K7/00 ,  F16K47/02

CPC classification number: F16K47/02 ,  Y10T137/0324 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/7762 ,  Y10T137/7842 ,  Y10T137/86389 ,  Y10T137/86397 ,  Y10T137/86461

Abstract: 本发明提供一种流体通路的无水击打开方法以及药液供给方法，无论流体压力的大小如何均能够使上游侧流体通路中不产生水击而迅速且可靠地将流体通路打开。本发明的无水击打开方法利用设置在管路内部压力大致恒定的流体通路中的致动器动作式阀，将流体通路打开，向下游侧流体通路供给流体，首先将提供给所述致动器的驱动用输入增大或减小到规定的设定值而使阀芯向开阀方向移动，将提供给致动器的驱动用输入短时间保持在所述设定值上，之后，进一步增大或减小该驱动用输入而使阀变成全开状态，从而在不产生水击的情况下将流体通路打开。

公开(公告)号：CN101809712A

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200880109472.3

申请日：2008-07-17

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 西野功二 ,  土肥亮介 ,  永濑正明 ,  平田薰 ,  杉田胜幸 ,  池田信一

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C16/455 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明涉及一种半导体制造设备用的气体供给装置，其基于有机金属气相生长法，具备向反应炉供给原料气体的主气体供给线和进行所述原料的排气的排出气体供给线，在两条气体线的中间部配设多个气体供给机构而构成，在该气体供给装置中，对比在压力式流量控制装置的孔下游侧检测的主气体供给线的气体(P10)和排出气体供给线的压力(P2)，由所述排出气体供给线的入口侧的压力控制装置进行压力调整，从而在原料气体的供给切换时使主气体供给线和排出气体供给线之间的两者的压力差为零。

公开(公告)号：CN101652592A

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：CN200880011029.2

申请日：2008-03-13

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 泽田洋平 ,  平田薰 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一

IPC: F16K31/02 ,  F16K7/12

CPC classification number: F16K31/007 ,  F16K7/14

Abstract: 在压电促动器(16)收缩时缓解在压电元件上产生的张力，即使在高温环境下也能够进行稳定的流量控制。本发明的压电元件驱动式控制阀包括如下部分：具有阀座(8d)的主体(8)；抵接或离开阀座(8d)的金属隔膜(9)；自由升降地支撑于主体(8)侧的促动器盒(13)；固定在主体(8)侧的分割基座(11)；向下方推压并驱策促动器盒(13)而使金属隔膜(9)抵接阀座(8d)的碟形弹簧(15)；以及容纳在促动器盒(13)内、因电压的施加向上方伸长并逆着碟形弹簧(15)的弹性力上推促动器盒(13)的压电促动器(16)，其中，在分割基座(11)和压电促动器(16)之间设有始终在压电促动器(16)的压电元件上施加压缩力的预压机构(20)。

公开(公告)号：CN100426169C

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：CN03800777.0

申请日：2003-01-20

Applicant: 株式会社富士金 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 杉山一彦 ,  池田信一 ,  西野功二 ,  土肥亮介 ,  上野山丰己

IPC: G05D7/06

CPC classification number: G05D7/0664 ,  Y10T137/7759 ,  Y10T137/7761

Abstract: 将可以从备有流量控制装置的气体供给设备正确且迅速地按所需要的流量比Q1/Q2向腔室内分流供给规定流量Q的处理气体。具体地说，从备有流量控制装置的气体供给设备通过多个分支供给线和固定于其末端的喷淋板按规定的流量比Q1/Q2向减压的腔室(C)内分流供给规定流量Q的气体之际，在前述多个分支供给线(GL1、GL2)上加装压力式分流量控制器(FV1、FV2)，并且靠来自使流量大的一方的压力式分流量控制器的控制阀(CV)的开度全开的分流量控制盘(FRC)的初期流量设定信号，开始前述两个分流量控制器(FV1、FV2)的开度控制，通过分别调整前述控制阀(CV)的下游侧压力P3′、P3″，通过设在喷淋板(3、4)上的节流孔(3a、4a)，按由式Q1＝C1P3′和Q2＝C2P3″(式中，C1、C2是取决于节流孔的断面积或节流孔上游侧的气体温度的常数)表达的所需要的分流量Q1、Q2向前述腔室(C)内分流供给总量Q＝Q1+Q2的气体。

公开(公告)号：CN100390455C

公开(公告)日：2008-05-28

申请号：CN03806671.8

申请日：2003-03-19

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 杉山一彦 ,  羽田敬子 ,  出田英二 ,  池田信一 ,  安本直史 ,  山路道雄

IPC: F16L23/02 ,  F16L19/03

CPC classification number: F16L19/0218 ,  F16L19/0225 ,  F16L19/025

Abstract: 一种管接头，在合成树脂制第1接头构件(2)的端面上设有环状的凹部(7)，同时在合成树脂制第2接头构件(3)的端面上设有环状的凸部(8)，在嵌入了合成树脂制垫圈(4)的凹部(7)的开口部内嵌合凸部(8)。在管接头(1)的正确适当的拧紧状态下，第1接头构件(2)的凹部(7)内面和第2接头构件(3)的凸部(8)外面间夹着垫圈(4)几乎在全面上紧密接触，同时，第1接头构件(2)的端面的位于凹部径向内侧的部分(2d)和第2接头构件(3)的端面的位于凸部径向内侧的部分(3d)几乎在全面上紧密接触，第1接头构件(2)的端面的位于凹部径向外侧的部分(2e)和第2接头构件(3)的端面的位于凸部径向外侧的部分(3e)也几乎在全面上紧密接触。

公开(公告)号：CN1279582C

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：CN200410003341.0

申请日：2000-07-21

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  池田信一 ,  皆见幸男 ,  川田幸司 ,  米华克典 ,  本井傅晃央 ,  平井畅 ,  森本明弘 ,  成相敏朗 ,  平尾圭司 ,  田口将暖 ,  中村修

IPC: H01L21/00

CPC classification number: B01J3/006 ,  B01J7/00 ,  B01J12/007 ,  C01B5/00

Abstract: 本发明的目的是提供一种安全的减压型水分发生供给装置，该装置减压供给(例如数托)水分气体，较高地保持水分发生用反应炉的内压，这样，可防止氢的自燃，本发明的另一目的是提供一种水分发生用反应炉，是通过对水分发生用反应炉高效率地进行冷却，便可在不增大反应炉尺寸的情况下使水分发生量大幅度增加的水分发生用反应炉。因此，本发明的减压型水分发生供给装置的特征在于：由水分发生用反应炉和减压机构构成，其中水分发生用反应炉是由氢和氧通过催化剂反应而发生水分气体；减压机构设在该水分发生用反应炉的下流侧，水分气体通过该减压机构减压后供给下流侧，与此同时较高地保持反应炉内的内压。本发明的散热式水分发生用反应炉由将入口侧炉主体部件和出口侧炉主体部件组合起来而形成有内部空间的反应炉主体、和贴紧在上述各炉子主体部件的外壁面上的散热片底板、及立设在该散热片底板上的多个散热用散热片构成，利用上述散热用散热片对发生的热量进行强制性辐射，使反应炉的温度降低。并且，对散热用散热片进行氧化铝膜加工，使热辐射率大幅度提高，而使散热效率进一步提高。

公开(公告)号：CN1816733A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：CN200480018993.X

申请日：2004-06-18

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  杉山一彦 ,  宇野富雄 ,  池田信一 ,  西野功二 ,  中村修 ,  土肥亮介 ,  松本笃谘

IPC: G01F1/42 ,  G01F1/50 ,  G01F7/00

CPC classification number: G01F1/50 ,  G01F1/42 ,  G05D7/0635

Abstract: 本发明的课题在于使差压式流量计的构造简化而实现制造成本的降低，并且能够在100％～1％的较广的流量范围内实时地且以在线状态进行误差(E)为(1％SP)以下的高精度的流量计测。为此，在包括孔口测流计、孔口测流计上游侧的压力(P1)的检测器、孔口测流计下游侧的流体压力(P2)的检测器、孔口测流计上游侧的流体温度(T)的检测器、利用来自上述各检测器的检测压力(P1、P2)及检测温度(T)运算流过孔口测流计的流体流量(Q)的控制运算电路的差压式流量计中，根据(其中，C1为比例常数，m和n为常数)来运算前述流体流量(Q)。